JPS63213813A - レーザー光走査装置における光線強度分布安定化装置 - Google Patents
レーザー光走査装置における光線強度分布安定化装置Info
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- JPS63213813A JPS63213813A JP63001788A JP178888A JPS63213813A JP S63213813 A JPS63213813 A JP S63213813A JP 63001788 A JP63001788 A JP 63001788A JP 178888 A JP178888 A JP 178888A JP S63213813 A JPS63213813 A JP S63213813A
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
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- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は、レーザー光走査装置に関し、より詳細には、
高精度の光線位置決めをする構成部品を使って作動する
レーザー10ツタ−1もしくは、レーザースキャナーに
関する。
高精度の光線位置決めをする構成部品を使って作動する
レーザー10ツタ−1もしくは、レーザースキャナーに
関する。
(技術的背景)
現代のカラーグラフィック技術を利用するような高度な
ものに応用してレーザー光走査装置を使用することは、
文献(例えば、ベステンハイマーによる1976年発刊
の応用写真工学ジャーナル第2巻)にて記されているよ
うに、レーザーにて生じたドツトを隣接するドツトに対
して正確に位置決めすることに係る。上記の応用におい
て、その性能を改善するための装置が、当方既出の19
86年10月7日付イスラエル特許出願第80242号
の主題となってきた。
ものに応用してレーザー光走査装置を使用することは、
文献(例えば、ベステンハイマーによる1976年発刊
の応用写真工学ジャーナル第2巻)にて記されているよ
うに、レーザーにて生じたドツトを隣接するドツトに対
して正確に位置決めすることに係る。上記の応用におい
て、その性能を改善するための装置が、当方既出の19
86年10月7日付イスラエル特許出願第80242号
の主題となってきた。
上記への応用で必要とされる正確な位置決めを達成する
上での主たる問題の1つは、レーザー光の光路に空気層
が形成され、当該空気層間の熱もしくは、圧力変動によ
り屈折率がさまざまになることである。この層化現像は
、時間の経過につれてゆっくりと変化して、その結果、
当該空気層を通過するレーザー光がさまざまに屈曲して
、複数の微妙に異なる光源より発光されてように見える
。
上での主たる問題の1つは、レーザー光の光路に空気層
が形成され、当該空気層間の熱もしくは、圧力変動によ
り屈折率がさまざまになることである。この層化現像は
、時間の経過につれてゆっくりと変化して、その結果、
当該空気層を通過するレーザー光がさまざまに屈曲して
、複数の微妙に異なる光源より発光されてように見える
。
集束レンズを用いてかかる光線を集束しようとしても、
集束スポットは、ぼけてしまい、空気層の波動により時
間の経過につれて変化してしまう。
集束スポットは、ぼけてしまい、空気層の波動により時
間の経過につれて変化してしまう。
レーザー光が通過する空気層における変動の根拠として
は、これまで、光路の構成があげられてきた。光路は、
一般に、装置と一体に形成された支持面上に構成される
から、当該支持面を通して熱が放散されて、空気と支持
面間に熱こう配が生ファルト舗装された道路の路面上近
くでこの現像を見ることができる。空気層間の熱変動が
、たとえ小さくても、当該空気層により屈折率がさまざ
まになり、レーザー光の長い路長にわたり、その影響が
蓄積されているのがわかる。
は、これまで、光路の構成があげられてきた。光路は、
一般に、装置と一体に形成された支持面上に構成される
から、当該支持面を通して熱が放散されて、空気と支持
面間に熱こう配が生ファルト舗装された道路の路面上近
くでこの現像を見ることができる。空気層間の熱変動が
、たとえ小さくても、当該空気層により屈折率がさまざ
まになり、レーザー光の長い路長にわたり、その影響が
蓄積されているのがわかる。
空気層における熱変動の好ましからざる影響は、光路中
でレーザー光の幅が最大となる領域で特に問題を生じる
。レーザー光の波面が、均一の位相でなくなり、代わっ
て、波形になって、波形光線が生じることになり、これ
らのディストーションが時間につれて変化する。上記の
状況下では、1ミクロンの範囲内での光線の追跡が不可
能となる。 故に、レーザー光の光路に存在する空気層
における変動によるディストーション源を排除すること
が好ましい。
でレーザー光の幅が最大となる領域で特に問題を生じる
。レーザー光の波面が、均一の位相でなくなり、代わっ
て、波形になって、波形光線が生じることになり、これ
らのディストーションが時間につれて変化する。上記の
状況下では、1ミクロンの範囲内での光線の追跡が不可
能となる。 故に、レーザー光の光路に存在する空気層
における変動によるディストーション源を排除すること
が好ましい。
(発明の目的)
本発明の主たる目的は、上記に説明した問題点を解決し
て、高度な応用において、集束必要条件を均一にするレ
ーザー光走査装置を提供することである。
て、高度な応用において、集束必要条件を均一にするレ
ーザー光走査装置を提供することである。
(発明の構成)
本発明では、レーザー光走査装置、すなわち、光線強度
分布安定化装置が提供され、同装置は、その基本構成と
して、レーザー光の光路の一部分に隣接して設けられて
、同光路をほぼ横切り、同光路の空気層の屈折率変動を
排除する強制空気流を発生するようにされた乱流発生装
置を具備してなることを特徴とする。
分布安定化装置が提供され、同装置は、その基本構成と
して、レーザー光の光路の一部分に隣接して設けられて
、同光路をほぼ横切り、同光路の空気層の屈折率変動を
排除する強制空気流を発生するようにされた乱流発生装
置を具備してなることを特徴とする。
(発明の作用と効果)
好適な実施例では、乱流発生装置は、パンケーキ型の冷
却ファンであり、光路を横切って冷却空気流を強制的に
送くるように配置され、よって、空気層の混合がなされ
る。その結果、層状化と空気眉間の熱変動が排除されて
、均一な屈折率がレーザー光に提供される。冷却ファン
は、レーザー光の幅が最大となる光路領域に隣接して配
置され、これにより、光線が通過する空気が最大限に混
合される効果が得られる。その結果、レーザー光の品質
が一段と向上して、その位置と焦点が重要となる応用面
に利用できるようになる。
却ファンであり、光路を横切って冷却空気流を強制的に
送くるように配置され、よって、空気層の混合がなされ
る。その結果、層状化と空気眉間の熱変動が排除されて
、均一な屈折率がレーザー光に提供される。冷却ファン
は、レーザー光の幅が最大となる光路領域に隣接して配
置され、これにより、光線が通過する空気が最大限に混
合される効果が得られる。その結果、レーザー光の品質
が一段と向上して、その位置と焦点が重要となる応用面
に利用できるようになる。
光路に対する上記の冷却ファン装置は、アルゴン、ヘリ
ウムネオン等、いずれにより発光させられたレーザー光
に重要できる。冷却ファンから発し、光路を横切る空気
流の方向は、十分な乱流が生じ、集束、および、追跡動
作に関し、光線が均一に作用するなら、一方の側より他
方に向ってもよく、また、光路の複数側より光路を横切
ることも可能である。上記動作における光線の作用は。
ウムネオン等、いずれにより発光させられたレーザー光
に重要できる。冷却ファンから発し、光路を横切る空気
流の方向は、十分な乱流が生じ、集束、および、追跡動
作に関し、光線が均一に作用するなら、一方の側より他
方に向ってもよく、また、光路の複数側より光路を横切
ることも可能である。上記動作における光線の作用は。
光路を構成するさまざまな光学構成部品の位置に影響を
受けない。
受けない。
本発明の特徴は、冷却ファンに複数の気流そらせ板が取
りつけられて、光路を横切る強制空気流の方向を変化さ
せることができることである。
りつけられて、光路を横切る強制空気流の方向を変化さ
せることができることである。
本発明の別の特徴は、冷却ファンに可変速制御装置が設
けられて、必要とする乱流レベルを排除すべき既存の熱
変動レベルに合致することができることである。
けられて、必要とする乱流レベルを排除すべき既存の熱
変動レベルに合致することができることである。
別の実施例では、乱流発生装置が、光路を横切るように
指向される圧縮空気源として設けられる。
指向される圧縮空気源として設けられる。
本発明の他の特徴添付の図面と以下の説明により明らか
にされる。
にされる。
(実施例)
以下、添付図面を参照して、実施例に基づいて本発明の
詳細な説明する。
詳細な説明する。
第1図は、本発明の好適な実施例の一般的な光学図であ
る。レーザー発光源16より発光する走査光および参照
光12.14を発光かつ利用するための光路が配置され
た光学テーブル10が設けられている。かかる光路につ
いては、当方既出の1976年10月7日付のイスラエ
ル特許出願第80242号にてより詳細に説明がなされ
ており、参考のために、それを本願中に組み入れである
。
る。レーザー発光源16より発光する走査光および参照
光12.14を発光かつ利用するための光路が配置され
た光学テーブル10が設けられている。かかる光路につ
いては、当方既出の1976年10月7日付のイスラエ
ル特許出願第80242号にてより詳細に説明がなされ
ており、参考のために、それを本願中に組み入れである
。
手短に言えば、走査光および参照光12.14は、レー
ザー発光源16よりの出力光線を分離してとり出す、走
査光12がフィルムを露出するので参照光14は、走査
光12を追跡するのに利用され、これは、光線位置検出
器20により達成される。参照光14の屈曲は、光線位
置検出器20よりのフィードバックが受信され、それに
従ってディフレクタ−22により制御される。
ザー発光源16よりの出力光線を分離してとり出す、走
査光12がフィルムを露出するので参照光14は、走査
光12を追跡するのに利用され、これは、光線位置検出
器20により達成される。参照光14の屈曲は、光線位
置検出器20よりのフィードバックが受信され、それに
従ってディフレクタ−22により制御される。
屈曲された後は、走査光および参照光12゜14は、結
合されて一体となり、残こされた光路の相当の部分にわ
たり、はぼ完全に空間的に重畳する。走査光および参照
光12.14は、光線拡張アセンブリー24に入るやい
なや、拡張され、ついで鏡26によって回転鏡28上へ
反射される。
合されて一体となり、残こされた光路の相当の部分にわ
たり、はぼ完全に空間的に重畳する。走査光および参照
光12.14は、光線拡張アセンブリー24に入るやい
なや、拡張され、ついで鏡26によって回転鏡28上へ
反射される。
熱安定化ファン29が拡張光12.14が通過する光路
の一部分30に隣接して設けられる0回転鏡28まで達
した光線は、そこで反射されて、孤の両端部に向けて当
該ビームの焦点距離を伸長するエフ−シータレンズ32
を通して照射され、よって孤のほとんどの部分が平らに
されて一本の直線にされる。これにより、フィルム18
および走査線全体に沿った光線位置検出器20上に光線
の焦点がはっきり結ぶようになり、広角度のディストー
ションがほぼ排除される。
の一部分30に隣接して設けられる0回転鏡28まで達
した光線は、そこで反射されて、孤の両端部に向けて当
該ビームの焦点距離を伸長するエフ−シータレンズ32
を通して照射され、よって孤のほとんどの部分が平らに
されて一本の直線にされる。これにより、フィルム18
および走査線全体に沿った光線位置検出器20上に光線
の焦点がはっきり結ぶようになり、広角度のディストー
ションがほぼ排除される。
エフ−シータレンズ32を通過すると、参照光14は、
直接光線位置検出器20上に照射され、一方、走査光1
2は、鏡34からフィルム18上に反射される。このよ
うに、フィルム18上の走査光12の位置をつきとめる
には、参照光を追跡することが必要であり、また、それ
で十分である。
直接光線位置検出器20上に照射され、一方、走査光1
2は、鏡34からフィルム18上に反射される。このよ
うに、フィルム18上の走査光12の位置をつきとめる
には、参照光を追跡することが必要であり、また、それ
で十分である。
つまり、位置に関する一切の必要な情報は、参照光14
を追跡することで供給され、また、参照光14位置が調
整されれば、走査光12に対しても同様に調整がくり返
される。
を追跡することで供給され、また、参照光14位置が調
整されれば、走査光12に対しても同様に調整がくり返
される。
走査光および参照光12.14の位置の不必要な変動が
生じるには、多数の要因があり、その中に、光路の一部
分30に形成された空気層間の熱変動があり、光路の同
部分では、当該光線の幅が最大となる。空気の屈折率は
、温度に関係するため、光線12.14が上記空気層を
通過する際には、レンズ32を用いて当該光線を集束す
る際にわかることであるが、光線はさまざまに屈折する
。この集束に用いられるレンズの代表的な焦点距離は、
500mである。第2図は、代表的な光線を集束する際
の熱変動の影響を表した略説明図である。
生じるには、多数の要因があり、その中に、光路の一部
分30に形成された空気層間の熱変動があり、光路の同
部分では、当該光線の幅が最大となる。空気の屈折率は
、温度に関係するため、光線12.14が上記空気層を
通過する際には、レンズ32を用いて当該光線を集束す
る際にわかることであるが、光線はさまざまに屈折する
。この集束に用いられるレンズの代表的な焦点距離は、
500mである。第2図は、代表的な光線を集束する際
の熱変動の影響を表した略説明図である。
第2図に示されているように、光路の一部分30にわた
って拡大する光線12のようなレーザー光の横断面領域
34が空気層36を通過する。
って拡大する光線12のようなレーザー光の横断面領域
34が空気層36を通過する。
同空気層は、その間に存在する熱変動を示すために波線
により表わされている。これらの熱変動は、廃熱、すな
わちレーザー発光源16それ自体よりの廃熱が散在する
ことで生じ、レーザー発光源16のエネルギー消費量は
、1キロワツトである。光学テーブル等の装置面を通過
する廃熱は、熱放散による問題を増長し、環境温度を調
整できないままに、装置が早期作動をしてしまうことが
起こる。
により表わされている。これらの熱変動は、廃熱、すな
わちレーザー発光源16それ自体よりの廃熱が散在する
ことで生じ、レーザー発光源16のエネルギー消費量は
、1キロワツトである。光学テーブル等の装置面を通過
する廃熱は、熱放散による問題を増長し、環境温度を調
整できないままに、装置が早期作動をしてしまうことが
起こる。
空気層間の熱変動がたとえ小さくても、当該層での屈折
率は、さまざまでになり、光1112の長い路長にわた
りその影響が蓄積されることは、しに、アスファルト舗
装の道路面より立ち昇る熱により生じる影響に類似して
おり、その場合、路面近くの物体に焦点を合わせる際に
、目が光行差を感じる。
率は、さまざまでになり、光1112の長い路長にわた
りその影響が蓄積されることは、しに、アスファルト舗
装の道路面より立ち昇る熱により生じる影響に類似して
おり、その場合、路面近くの物体に焦点を合わせる際に
、目が光行差を感じる。
空気層の熱変動による好ましからざる影響は、光路で光
a12の幅が最大となる部分において特に問題となる。
a12の幅が最大となる部分において特に問題となる。
光線12の波面が均一の位相でなくなり、代わって波形
になり、第2a図に示されているように、さまざまな光
線強度分布を有する波形光線40が生じ、その光線強度
分布は、熱変動自体が変動するに従い、時間と空間で変
化する。
になり、第2a図に示されているように、さまざまな光
線強度分布を有する波形光線40が生じ、その光線強度
分布は、熱変動自体が変動するに従い、時間と空間で変
化する。
かかる状況下では、1ミクロンの範囲内での光線追跡が
不可能となる。
不可能となる。
本発明の原理によれば、光路の一部分30に隣接して設
けられたファン29の形態をとる乱流発生装置により上
記問題点が排除される(第1図)。
けられたファン29の形態をとる乱流発生装置により上
記問題点が排除される(第1図)。
ファン29は、配置、作動されると、矢印39の方向に
光路を横切るように空気流を強制的に送風して乱流を発
生させる。矢印の方向は、第3図に示されているように
、光路に対し直交してよい。
光路を横切るように空気流を強制的に送風して乱流を発
生させる。矢印の方向は、第3図に示されているように
、光路に対し直交してよい。
強制空気流が十分な大きさになると、当該領域の空気中
に乱流セル42が任意に分布させられ、熱変動による空
気層の層状化が不可能となる。
に乱流セル42が任意に分布させられ、熱変動による空
気層の層状化が不可能となる。
第3図には、強制空気流が光線12の波面に与える効果
が図で表されており、この時点では、波面は、均一の位
相になっており、光の強度分布は時間と空間が変わって
もほぼ不変である。従って、レンズ32が完全なレンズ
であった場合には、回折限界完全点46への光線12の
集束は、レンズ32の能力内になる。
が図で表されており、この時点では、波面は、均一の位
相になっており、光の強度分布は時間と空間が変わって
もほぼ不変である。従って、レンズ32が完全なレンズ
であった場合には、回折限界完全点46への光線12の
集束は、レンズ32の能力内になる。
光路の一部分30に対してファン29を正確に配置する
ことは、十分な乱流が生じて、空気が十分に混合され、
かつ、平均した屈折率が光線12に提供されるならば、
重要ではない、従って、ファン29の配置は、光線の幅
が最大にまで拡張された光路部分30を横切るように空
気流を強制送風できる位置にするのが好ましい、加えて
、ファン29に複数の気流そらせ板が取りつけられて、
強制空気流が光路を横切るようにその方向を変化させる
ことができる。
ことは、十分な乱流が生じて、空気が十分に混合され、
かつ、平均した屈折率が光線12に提供されるならば、
重要ではない、従って、ファン29の配置は、光線の幅
が最大にまで拡張された光路部分30を横切るように空
気流を強制送風できる位置にするのが好ましい、加えて
、ファン29に複数の気流そらせ板が取りつけられて、
強制空気流が光路を横切るようにその方向を変化させる
ことができる。
好適な実施例では、ファン2つは、パンケーキ型の冷却
ファンであり、例えば50トロン社(米国)により製造
され、30CFMに定格されたスプライトモデル5L1
2A5の商標名で販売されているようなファンである。
ファンであり、例えば50トロン社(米国)により製造
され、30CFMに定格されたスプライトモデル5L1
2A5の商標名で販売されているようなファンである。
光路の一部分30の代表的な長さは、光線の槽断面領域
の全幅が25閣の場合には、30cIlである。しかし
ながら、これらの値は、応用が異なれば変化し、十分に
カバーするためには、光線の長さおよび幅の重要性は、
空気流量の大きさと比較した、光線が通過する領域の大
きさに関係する。
の全幅が25閣の場合には、30cIlである。しかし
ながら、これらの値は、応用が異なれば変化し、十分に
カバーするためには、光線の長さおよび幅の重要性は、
空気流量の大きさと比較した、光線が通過する領域の大
きさに関係する。
特異な場合の必要空気流に応じるために、ファンには、
可変速rvI御装置が取りつけられる。
可変速rvI御装置が取りつけられる。
別な実施例では、乱流発生装置が、上記に説明したよう
に、光路を横切るように指向される圧縮空気源の形態を
とって設けられる。
に、光路を横切るように指向される圧縮空気源の形態を
とって設けられる。
以上、本発明の原理を一つの実施例を参照して説明して
きたが、上記説明は例としてなされたものであって本願
の特許請求の範囲を限定するものではない。
きたが、上記説明は例としてなされたものであって本願
の特許請求の範囲を限定するものではない。
第1図は、本発明の好適な実施例による走査光および参
照光を発光かつ利用するための光路を示す一般的な光学
図の説明図であり、 第2図は、第1図の光路の一部分にわたる空気層中の熱
変動の略説明図であり、 第2a図は、第1図および第2図の集束された走査光お
よび参照光への熱変動の影響を図に表したものであり、 第3図は、第2図の熱変動を排除するための強制空気流
装置の略説明図であり、 第3a図は、第3図の空気流装置の効果を図に表したも
のである。 29・・・・・乱流発生装置、 30・・・・・レーザー光の光路の一部分、36・・・
・・空気層、 39・・・・・強制空気流。 (外4名) 手続補正書 1.事件の表示 昭和63年特許願第1788号 2、発明の名称 レーザー光走査装置における光線強度分布安定化装置3
、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 名 称 サイテックス中コーボレーシジン・リミテッ
ド4、代理人 住 所 東京都千代田区人手町二丁目2番1号新大千
町ビル 206号室 5、補正の対象
照光を発光かつ利用するための光路を示す一般的な光学
図の説明図であり、 第2図は、第1図の光路の一部分にわたる空気層中の熱
変動の略説明図であり、 第2a図は、第1図および第2図の集束された走査光お
よび参照光への熱変動の影響を図に表したものであり、 第3図は、第2図の熱変動を排除するための強制空気流
装置の略説明図であり、 第3a図は、第3図の空気流装置の効果を図に表したも
のである。 29・・・・・乱流発生装置、 30・・・・・レーザー光の光路の一部分、36・・・
・・空気層、 39・・・・・強制空気流。 (外4名) 手続補正書 1.事件の表示 昭和63年特許願第1788号 2、発明の名称 レーザー光走査装置における光線強度分布安定化装置3
、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 名 称 サイテックス中コーボレーシジン・リミテッ
ド4、代理人 住 所 東京都千代田区人手町二丁目2番1号新大千
町ビル 206号室 5、補正の対象
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)レーザー光路の一部分に隣接して設けられ、該光路
をほぼ横切り該光路の空気層の屈折率変動を排除する強
性空気流を発生するようにされた乱流発生装置を具備て
なることを特徴とするレーザー光走査装置における光線
強度分布安定化装置。 2)上記乱流発生装置が、上記光路に対しほぼ直交して
配置されたファンである特許請求の範囲第1項記載の光
線強度分布安定化装置。 3)上記ファンが、パンケーキ型の冷却ファンである特
許請求の範囲第2項記載の光線強度分布安定化装置。 4)上記ファンが、さらに、上記強制空気流を指向する
ための複数の気流そらせ板より成る特許請求の範囲第2
項または第3項記載の光線強度分布安定化装置。 5)上記ファンが可変速型である特許請求の範囲第2項
ないし第4項のいずれかに記載の光線強度分布安定化装
置。 6)上記乱流発生装置が、圧縮空気源である特許請求の
範囲第1項記載の光線強度分布安定化装置。 7)上記光路部分が、上記レーザー光の幅が最大となる
領域よりなる特許請求の範囲第1項ないし第6項のいず
れかに記載の光線強度分布安定化装置。 8)上記光線強度分布が、時間と空間が変わってもほぼ
不変である特許請求の範囲第1項ないし第7項のいずれ
かに記載の光線強度分布安定化装置。 9)上記光路部分をほぼ横切るように空気流を強制的に
送風して乱流を発生させる段階をそなえてなることを特
徴とする、レーザー光走査装置における光路の一部分に
沿った空気層間で屈折率変動を生じさせる空気層の層状
化を排除する方法。 10)特許請求の範囲第9項記載の方法において、上記
強制空気流を発生させるために、上記光路にほぼ直交し
てファンが配置される、光路の一部分に沿った空気層間
で屈折率変動を生じさせる空気層の層状化を排除する方
法。 11)特許請求の範囲第10項記載の方法において、上
記ファンがパンケーキ型の冷却ファンである、光路の一
部分に沿った空気層間で屈折率変動を生じさせる空気層
の層状化を排除する方法。 12)特許請求の範囲第10項または第11項記載の方
法において、上記ファンが、さらに、上記強制空気流を
指向するための複数の気流そらせ板よりなる、光路の一
部分に沿った空気層間で屈折率変動を生じさせる空気層
の層状化を排除する方法。 13)特許請求の範囲第10項ないし第12項のいずれ
かに記載の方法において、上記ファンが可変速型である
、光路の一部分に沿った空気層間で屈折率変動を生じさ
せる空気層の層状化を排除する方法。 14)特許請求の範囲第9項記載の方法において、上記
圧縮空気源が上記強制空気流を発生する、光路の一部分
に沿った空気層間で屈折率変動を生じさせる空気層の層
状化を排除する方法。 15)特許請求の範囲第9項ないし第14項のいずれか
に記載の方法において、上記光路部分が、上記レーザー
光の幅が最大となる領域よりなる、光路の一部分に沿っ
た空気層間で屈折率変動を生じさせる空気層の層状化を
排除する方法。 16)特許請求の範囲第9項ないし第15項のいずれか
に記載の方法において、上記光路部分にわたる光線強度
分布が、時間と空間が変わってもほぼ不変である、光路
の一部分に沿った空気層間で屈折率変動を生じさせる空
気層の層状化を排除する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IL81190 | 1987-01-07 | ||
IL81190A IL81190A (en) | 1987-01-07 | 1987-01-07 | Device for stabilization of beam intensity distribution in laser scanners |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63213813A true JPS63213813A (ja) | 1988-09-06 |
JPH0672982B2 JPH0672982B2 (ja) | 1994-09-14 |
Family
ID=11057423
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (8)
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---|---|
US (1) | US4834520A (ja) |
EP (1) | EP0277081B1 (ja) |
JP (1) | JPH0672982B2 (ja) |
AT (1) | ATE80744T1 (ja) |
CA (1) | CA1301501C (ja) |
DE (1) | DE3874556T2 (ja) |
ES (1) | ES2034350T3 (ja) |
IL (1) | IL81190A (ja) |
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-
1987
- 1987-01-07 IL IL81190A patent/IL81190A/xx not_active IP Right Cessation
-
1988
- 1988-01-05 US US07/141,060 patent/US4834520A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-01-06 ES ES198888630001T patent/ES2034350T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-06 AT AT88630001T patent/ATE80744T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-01-06 EP EP88630001A patent/EP0277081B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-01-06 CA CA000555981A patent/CA1301501C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-01-06 DE DE8888630001T patent/DE3874556T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-01-07 JP JP63001788A patent/JPH0672982B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
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DE3874556T2 (de) | 1993-02-04 |
IL81190A0 (en) | 1987-08-31 |
ES2034350T3 (es) | 1993-04-01 |
JPH0672982B2 (ja) | 1994-09-14 |
EP0277081A1 (en) | 1988-08-03 |
EP0277081B1 (en) | 1992-09-16 |
DE3874556D1 (de) | 1992-10-22 |
US4834520A (en) | 1989-05-30 |
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IL81190A (en) | 1990-11-29 |
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