JPS6198319A - 光学装置の冷却方法 - Google Patents
光学装置の冷却方法Info
- Publication number
- JPS6198319A JPS6198319A JP23092085A JP23092085A JPS6198319A JP S6198319 A JPS6198319 A JP S6198319A JP 23092085 A JP23092085 A JP 23092085A JP 23092085 A JP23092085 A JP 23092085A JP S6198319 A JPS6198319 A JP S6198319A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- cooling
- lens
- optical
- gas flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレンズまたは透明な薄板のような少なくとも一
つの構成要素を含有する光学装置の冷却方法に関する。
つの構成要素を含有する光学装置の冷却方法に関する。
本方法はレーザービームのような高出力のエネルギービ
ームに露出されたレンズの冷却に適用されるのが好まし
いが、必ずしもこれに限定されない。
ームに露出されたレンズの冷却に適用されるのが好まし
いが、必ずしもこれに限定されない。
ある種の利用において、たとえば調節された凹凸を圧延
機のシリング−に付与するためその表面に刻印をつける
ようなある種の制用において、数キロワットに達する出
力のレーデ−を用いることが知られている。この場合、
レーデビームを所望の面積に収束するためレンズで構成
された光学装置が一般に用いられる。
機のシリング−に付与するためその表面に刻印をつける
ようなある種の制用において、数キロワットに達する出
力のレーデ−を用いることが知られている。この場合、
レーデビームを所望の面積に収束するためレンズで構成
された光学装置が一般に用いられる。
従って問題のレンズはそれらに発熱をひ°きおこす強力
なエネルギービームの作用を受ける。
なエネルギービームの作用を受ける。
この発熱はもし大きければレンズの変形をひきおこす。
この変形はビームの伝達の不均斉、ビームの分散、ある
いは収束の損失などのような種々の不部会をひきおこす
。
いは収束の損失などのような種々の不部会をひきおこす
。
本発明はこれらの不部会を除去し得る方法を目的とする
。
。
本発明の目的たる、エネルギービームに曝された少なく
とも一つのレンズを含有する光学装＆ ＋１３
ｆｆｉの冷却方法は、該レンズの少なくとも一つの１１
え、よ６ｏヵ、７゜ゎゎ□おオ、。８４、特徴と
する。
とも一つのレンズを含有する光学装＆ ＋１３
ｆｆｉの冷却方法は、該レンズの少なくとも一つの１１
え、よ６ｏヵ、７゜ゎゎ□おオ、。８４、特徴と
する。
特殊な実施方法によれば、該装備の光学軸にほぼ垂直な
方向薔こ該カス流をＯｈｍさせる。
方向薔こ該カス流をＯｈｍさせる。
本発明の方法の特に有利な別の実施方法によれば、該装
置の光学軸に垂直に、かつ該レンズの少なくとも一つの
面から少し距離を置いて。
置の光学軸に垂直に、かつ該レンズの少なくとも一つの
面から少し距離を置いて。
レンズの光学的性質に影響しない透明な一枚の薄板を配
置してレンズと該透明薄板の間に該ガス流を循環させる
。
置してレンズと該透明薄板の間に該ガス流を循環させる
。
この実施方法の範囲においては、該透明薄板とレンズの
面の間の距ａは１朋以丁であることが有利であり、そし
て０．０１ｍｍと０．５ｍｍの間であることが好ましい
。
面の間の距ａは１朋以丁であることが有利であり、そし
て０．０１ｍｍと０．５ｍｍの間であることが好ましい
。
実際、該距離が小さくなると、即ちガスのフィルムが薄
くなると、冷却効率が高まることが明らかになった。
くなると、冷却効率が高まることが明らかになった。
また本発明によれば、ガス流の流量は冷却すべき一つの
面につき７５／分と１２５立／分の間であることが有利
である。この流量は、接面 １の寸法ならびに問題
のエネルギービームの強さに応じて上記限界内において
変化することができる。
面につき７５／分と１２５立／分の間であることが有利
である。この流量は、接面 １の寸法ならびに問題
のエネルギービームの強さに応じて上記限界内において
変化することができる。
本発明によれば、ガス流は、エネルギービームを乱さず
かつ光学装置の表面を汚しやすい物質を含まないガスな
らばいかなるガスから構成されてもよい。このためには
、たとえば濃過された乾いた空気を用いるがよい。しか
しヘリクムを用いることが有利であることが証明された
。
かつ光学装置の表面を汚しやすい物質を含まないガスな
らばいかなるガスから構成されてもよい。このためには
、たとえば濃過された乾いた空気を用いるがよい。しか
しヘリクムを用いることが有利であることが証明された
。
その理由はその不活性な性質とそのすぐれた熱伝導性で
ある。
ある。
しかしながら、用いられるガスが殆んど冗全に清潔であ
るにも拘らず、ガス流によって完全に除去されない塵の
堆積物が表面に現われることがある。
るにも拘らず、ガス流によって完全に除去されない塵の
堆積物が表面に現われることがある。
この塵の堆積物は、冷却ガスの摩擦によってひきおこさ
れた弱い摩［４気の荷電の出現によるものと考えらｎる
。
れた弱い摩［４気の荷電の出現によるものと考えらｎる
。
これら表面の塵の＃Ｍ積と保持を除去することによりガ
ス流で冷却されたこれら表面の清潔さを保つためには、
常に本発明の範囲内においては、該表面上に出現する１
荷を中和することが提案されている。
ス流で冷却されたこれら表面の清潔さを保つためには、
常に本発明の範囲内においては、該表面上に出現する１
荷を中和することが提案されている。
第一の変法においては、冷却すべき表面と接触させる前
に、冷却ガスをイオン化することである。
に、冷却ガスをイオン化することである。
このイオン化は公知のいかなる方法によって行なっても
よ、い。たとえば特にガスにα放射線を受けさせるかま
たは高圧のグロー放電（４弧〕を受けさせることによる
。
よ、い。たとえば特にガスにα放射線を受けさせるかま
たは高圧のグロー放電（４弧〕を受けさせることによる
。
このようにして、摩擦の機械的作用が出現させる電荷を
ガスそのものによって中和することがムエ能である。
ガスそのものによって中和することがムエ能である。
他の変法によれば、該電荷はその出現に応じて補整され
る。
る。
このためＣζは、清潔に保つべき表面にα放射線のよう
な適当な手段の直接作用を受けさせる。
な適当な手段の直接作用を受けさせる。
この変法に３いては、冷却ガスは全くイオン化を受けな
い。即ち４荷は表面に出現してもそれらに作用するα放
射線によって瞬間的に除去される。
い。即ち４荷は表面に出現してもそれらに作用するα放
射線によって瞬間的に除去される。
本発明の方法は、該光学装置の構成要素の冷却すること
を可能にし、そして場合によってはそれら表面を清潔番
こ保つことを口■能にし、このようにしてエネルギービ
ームの正ａ ｆｔ伝達を確保することを可能にする。
を可能にし、そして場合によってはそれら表面を清潔番
こ保つことを口■能にし、このようにしてエネルギービ
ームの正ａ ｆｔ伝達を確保することを可能にする。
付図は本発明の好ましい実施態様を図式的に説明してい
る。
る。
表面Ｓの処理操作において、レーザービーム１はレンズ
２によって表面に集束される。このレンズは２５ｆｌと
５０朋の間の直径、たとえば３５刷の直径を示す。それ
はセレン化亜鉛または砒化ガリクムよりなることが好ま
しい。レーデ−ビーム１は２ＫＷの出力を伝達し、その
一部分はレンズ２によって吸収される。それが熱くなり
変形することを避けるため、適当な支持体によって保た
れた光学的に不活性な二枚の透明薄板３と４をレンズ２
の前と後に押入する。透明薄板とレンズの対応面の最も
近い点との間の１ 距たりは０．２０ｍｍ）ζ等し
く、ガスの通過の最小’ ｉｉ＋□５ ｍ、Ｆあ、
。
２によって表面に集束される。このレンズは２５ｆｌと
５０朋の間の直径、たとえば３５刷の直径を示す。それ
はセレン化亜鉛または砒化ガリクムよりなることが好ま
しい。レーデ−ビーム１は２ＫＷの出力を伝達し、その
一部分はレンズ２によって吸収される。それが熱くなり
変形することを避けるため、適当な支持体によって保た
れた光学的に不活性な二枚の透明薄板３と４をレンズ２
の前と後に押入する。透明薄板とレンズの対応面の最も
近い点との間の１ 距たりは０．２０ｍｍ）ζ等し
く、ガスの通過の最小’ ｉｉ＋□５ ｍ、Ｆあ、
。
冷却ガス（ここではヘリクムンは支持体の中（こ設けら
れた通路５．６によって注入される。
れた通路５．６によって注入される。
そして全流ｔは約２００立／分である。ガスは５．６で
の注入の前にα放射線によるイオン化室７を横切る。ガ
スは圧縮機８Ｉこよって鎖環せしめられる。この圧縮機
は一方では戻り回路９によって帰って来たガスを再鎮環
し、他方では図に示されていない源から導管１０によっ
て供給された新しいガスを注入する。
の注入の前にα放射線によるイオン化室７を横切る。ガ
スは圧縮機８Ｉこよって鎖環せしめられる。この圧縮機
は一方では戻り回路９によって帰って来たガスを再鎮環
し、他方では図に示されていない源から導管１０によっ
て供給された新しいガスを注入する。
この配置はレンズの表面とそれｆこ向い金っている薄板
の表面を冷却し清潔に保ち、そしてその結果、レーザー
ビームを、処理表面まで完全な姿で伝達することを可能
にする。
の表面を冷却し清潔に保ち、そしてその結果、レーザー
ビームを、処理表面まで完全な姿で伝達することを可能
にする。
図は本発明の好ましい実施態様を図式的に説明するもの
である。 Ｓ処理表面、ル−ザービーム、２レンズ、３．４透明薄
板、５．６ガス通路、フイオン化室・８圧縮機・９Ｍ″
回路・ １０４ ｇ °＋手続補正書 ２・ 柘朗力３打 彬啓吸（浄ムＰ浪ム ３、補正をする者 事件との関係 ２１打し４１尺 鋤−ｉ禰トｉ− ４、代理人 ４溜、口肋−１
である。 Ｓ処理表面、ル−ザービーム、２レンズ、３．４透明薄
板、５．６ガス通路、フイオン化室・８圧縮機・９Ｍ″
回路・ １０４ ｇ °＋手続補正書 ２・ 柘朗力３打 彬啓吸（浄ムＰ浪ム ３、補正をする者 事件との関係 ２１打し４１尺 鋤−ｉ禰トｉ− ４、代理人 ４溜、口肋−１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、レーザービームのようなエネルギービームに露出さ
れた、レンズのような、少なくとも一つの構成要素を含
有する光学装置の冷却方法において、該要素の少なくと
も一つの面の上にガス流を循環させることを特徴とする
前記光学装置の冷却方法。 ２、該装置の光学軸にほぼ垂直な方向に該ガス流を循環
させることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
方法。 ３、該装置の光学軸に垂直にかつ該要素の少なくとも一
つの面から少し距離を置いて、装置の光学的性質に影響
しない透明な薄板を配置すること、および該要素と該透
明薄板の間にガス流を循環させることを特徴とする特許
請求の範囲第１項と第２項のいづれかに記載の方法。 ４、該薄板と要素の面との間の距離は１ｍｍ以下であり
、好ましくは０．０１ｍｍと０．５ｍｍの間であること
を特徴とする特許請求の範囲第３項に記載の方法。 ５、ガス流の流量は要素の一つの面につき７５立／分と
１２５立／分の間であることを特徴とする特許請求の範
囲第１項から第４項までのいづれかに記載の方法。 ６、該要素の面と接触させる前に該ガスをイオン化する
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項から第５項まで
のいづれかに記載の方法。 ７、該要素の面にα放射線を受けさせることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項から第５項までのいづれかに記
載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BE6/48018 | 1984-10-18 | ||
| BE6/48018A BE900852A (fr) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | Procede de refroidissement d'un ensemble optique. |
| BE6/48020 | 1984-10-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6198319A true JPS6198319A (ja) | 1986-05-16 |
Family
ID=3874962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23092085A Pending JPS6198319A (ja) | 1984-10-18 | 1985-10-16 | 光学装置の冷却方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6198319A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63213813A (ja) * | 1987-01-07 | 1988-09-06 | サイテックス・コーポレーション・リミテッド | レーザー光走査装置における光線強度分布安定化装置 |
| JPH05151838A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-06-18 | Totoku Electric Co Ltd | 被覆電線用通電装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5948703A (ja) * | 1982-09-10 | 1984-03-21 | Mitsubishi Electric Corp | 光伝送部品の冷却装置 |
-
1985
- 1985-10-16 JP JP23092085A patent/JPS6198319A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5948703A (ja) * | 1982-09-10 | 1984-03-21 | Mitsubishi Electric Corp | 光伝送部品の冷却装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63213813A (ja) * | 1987-01-07 | 1988-09-06 | サイテックス・コーポレーション・リミテッド | レーザー光走査装置における光線強度分布安定化装置 |
| JPH05151838A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-06-18 | Totoku Electric Co Ltd | 被覆電線用通電装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Bedair et al. | Atomically clean surfaces by pulsed laser bombardment | |
| CZ2001216A3 (cs) | Zařízení a způsob pro vytváření zlepšeného laserového paprsku | |
| FR2532297A1 (fr) | Procede de refonte d'une couche de verre au phosphosilicate, notamment pour le traitement de composants semi-conducteurs | |
| CN110523715A (zh) | 一种铝合金反射镜表面超快激光清洗的方法及装置 | |
| JPS6198319A (ja) | 光学装置の冷却方法 | |
| Jiang et al. | UV laser conditioning of the sol-gel SiO2 film coated fused silica optics | |
| ATE529880T1 (de) | Teilchenstrahlgerät mit gekühltem antikontaminator und/oder probenhalter | |
| Lin et al. | Evidence for beam self-focusing in the corona of laser-irradiated spherical targets | |
| CN112578538A (zh) | 一种蓝色激光加工远心F-Theta扫描透镜 | |
| MacDowell et al. | The mirror material test programme at the Daresbury SRS | |
| CN104880807B (zh) | 一种用于双波长激光加工的F‑θ光学镜头 | |
| JPS5980728A (ja) | 薄板の熱処理方法 | |
| CN218512724U (zh) | 基于可调贝塞尔光束对液体中微粒捕获和操控装置 | |
| Snavely et al. | Proton Beam Focusing and Heating in Petawatt Laser-Solid Interactions | |
| Sugiyama et al. | Nd: YVO 4 and YVO 4 laser crystal integration by a direct bonding technique | |
| CN115390259A (zh) | 基于可调贝塞尔光束对液体中微粒捕获和操控方法 | |
| JPH0253019A (ja) | 光学的組装置の冷却方法 | |
| Zhang et al. | Analysis of the brightness of molten liquid ejection in a millisecond laser interaction with a silicon plate | |
| Bondarenko et al. | Experimental study of the acceleration of thin foils by high-power laser pulses | |
| Demos et al. | Microscopic spectral imaging of defect centers in KDP | |
| Merkul'ev et al. | Observation of compression of high-aspect-ratio shell targets in the DEL'FIN-1 laser-fusion device | |
| Ashkenasi et al. | Beam propagation of high-power ultrashort laser pulses inside transparent dielectrics for controlled 3D microstructuring | |
| Askar'yan et al. | NONLINEAR EFFECTS IN THE TRANSMISSION OF HIGH-POWER CONTINUOUS LIGHT BEAMS THROUGH MEDIA | |
| Bloehs et al. | Efficient hardening with high-power solid-state lasers | |
| Brauch et al. | Laser amplifying system |