JPH0253019A - 光学的組装置の冷却方法 - Google Patents
光学的組装置の冷却方法Info
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- JPH0253019A JPH0253019A JP1163611A JP16361189A JPH0253019A JP H0253019 A JPH0253019 A JP H0253019A JP 1163611 A JP1163611 A JP 1163611A JP 16361189 A JP16361189 A JP 16361189A JP H0253019 A JPH0253019 A JP H0253019A
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B23/00—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices
- G02B23/16—Housings; Caps; Mountings; Supports, e.g. with counterweight
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/70—Auxiliary operations or equipment
- B23K26/702—Auxiliary equipment
- B23K26/703—Cooling arrangements
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、レンズ及び透明薄板など二以上の要素を含む
光学的組装置（ｕｎ ｅｎｓｅｍｂｌｅ ｏｐｔｉｑｕ
ｅ）を冷却する方法に関する。この方法は、特にレーザ
束のような高出力エネルギー束に露出される光学的組装
置の冷却に適用される。
光学的組装置（ｕｎ ｅｎｓｅｍｂｌｅ ｏｐｔｉｑｕ
ｅ）を冷却する方法に関する。この方法は、特にレーザ
束のような高出力エネルギー束に露出される光学的組装
置の冷却に適用される。
（従来の技術）
圧延機（ｌａｍｉｎｏｉｒ）シリンダの表面処理などに
は、出力が何キロワットにもなるレーザが用いられる。
は、出力が何キロワットにもなるレーザが用いられる。
従ってエネルギー束に露出される光学的組装置は、加熱
されて望ましくないレンズの変形を受けるおそれがある
。その結果、伝送されるエネルギー束の正規性、特に焦
点位置を乱すなど種々の不都合がもたらされる。
されて望ましくないレンズの変形を受けるおそれがある
。その結果、伝送されるエネルギー束の正規性、特に焦
点位置を乱すなど種々の不都合がもたらされる。
前記型の光学的組装置の冷却方法は、ベルギー特許ＢＥ
−Ａ−９００，８５２号により既に知られるところであ
り、該特許ではレンズの少くとも一面上、該レンズ面と
光学的に不活性な透明薄膜との間にガス流を循環させて
いる。透明薄板を一枚しか用いない場合には、その薄板
はレンズと焦点との間に配されることが最も多い。
−Ａ−９００，８５２号により既に知られるところであ
り、該特許ではレンズの少くとも一面上、該レンズ面と
光学的に不活性な透明薄膜との間にガス流を循環させて
いる。透明薄板を一枚しか用いない場合には、その薄板
はレンズと焦点との間に配されることが最も多い。
この既知のレンズ冷却法を使用すると、レンズ到達時の
直径が１７ｍｍのＣＯ□レーザ束の場合、レーザ束出力
を１．５ＫＷ乃至２Ｋｌ（に増やしても焦点に重大な変
化をもたらすようなレンズの膨張は認められなかった。
直径が１７ｍｍのＣＯ□レーザ束の場合、レーザ束出力
を１．５ＫＷ乃至２Ｋｌ（に増やしても焦点に重大な変
化をもたらすようなレンズの膨張は認められなかった。
２ＫＷを超える出力では、この方法は光学的組装置の正
規機能を確保するには不十分である。
規機能を確保するには不十分である。
（発明が解決しようとする課題）
本発明の目的は、２ＫＷを超える出力のレーザ束を使用
しても前記の不都合を起こさぬような光学的組装置の冷
却方法を提出することである。
しても前記の不都合を起こさぬような光学的組装置の冷
却方法を提出することである。
（課題を解決するための手段）
本発明は、レンズなど一以上の第一要素と前記第一要素
の少くとも一面から僅かに離れて配置される板など一以
上の第二要素とを含み、前記の第−要素及び第二要素が
エネルギー束に露出されるような光学的組装置を、該装
置の前記第一要素と第二要素との間にガス流を循環させ
て冷却する方法であって、前記第二要素の一以上の外面
上にも等しくガス流を循環させることを特徴とする。
の少くとも一面から僅かに離れて配置される板など一以
上の第二要素とを含み、前記の第−要素及び第二要素が
エネルギー束に露出されるような光学的組装置を、該装
置の前記第一要素と第二要素との間にガス流を循環させ
て冷却する方法であって、前記第二要素の一以上の外面
上にも等しくガス流を循環させることを特徴とする。
「外面」なる表現は、本願では、前記第一要素に向き合
っていない前記第二要素の面を意味する。
っていない前記第二要素の面を意味する。
同様に「僅かに離れた距離」は、１ｍｍ未満、好ましく
は０．０１ｍＷｌ乃至０．５ｍｍの距離を意味する。
は０．０１ｍＷｌ乃至０．５ｍｍの距離を意味する。
本発明の範囲では、光学的組装置の第一要素と第二要素
との間を流れる一方のガスと、前記第二要素の外面上を
流れる他方のガスは一般にいかなるガスでもよい；すな
わち、相異なるガスであってもよい、しかしながら、こ
の両ガス流として単一ガス源から供給される同一ガスを
使用することが有利である。
との間を流れる一方のガスと、前記第二要素の外面上を
流れる他方のガスは一般にいかなるガスでもよい；すな
わち、相異なるガスであってもよい、しかしながら、こ
の両ガス流として単一ガス源から供給される同一ガスを
使用することが有利である。
本発明では、室温よりも低い温度のガスを使用すると有
利なことも明らかである。使用可能なガスとしては、室
温すなわち＋２０℃乃至−８０℃範囲の温度を有する空
気、窒素、ヘリウム及びアルゴンを特に挙げることがで
きる。冷却ガスを使用すると、冷却率（Ｉｅ ｒｅｆｒ
ｏｉｄｉｓｓｅｌＩｅｎＬ ５ｐｅｃｉｆｉｑｕｅ）を
強めてガス流量を減らすことが可能となる。
利なことも明らかである。使用可能なガスとしては、室
温すなわち＋２０℃乃至−８０℃範囲の温度を有する空
気、窒素、ヘリウム及びアルゴンを特に挙げることがで
きる。冷却ガスを使用すると、冷却率（Ｉｅ ｒｅｆｒ
ｏｉｄｉｓｓｅｌＩｅｎＬ ５ｐｅｃｉｆｉｑｕｅ）を
強めてガス流量を減らすことが可能となる。
前記第一要素と第二要素との支持体はアルミニウム類で
あって水冷されることが多い、この支持体の冷却回路が
循環水凍結のため閏塞されぬよう、冷却水を低露点の冷
たい乾燥した空気に代える。
あって水冷されることが多い、この支持体の冷却回路が
循環水凍結のため閏塞されぬよう、冷却水を低露点の冷
たい乾燥した空気に代える。
この冷空気は、既知方法たとえば液体空気又は液体窒素
を注入した冷却トラップに通して製造することができる
。
を注入した冷却トラップに通して製造することができる
。
本発明では、先ず前記の光学的組装置内にガス流を循環
させ、該装置が冷却条件たとえば冷却ガスの温度及び流
量に対応する平衡温度に達した際にエネルギー束を通す
のである。
させ、該装置が冷却条件たとえば冷却ガスの温度及び流
量に対応する平衡温度に達した際にエネルギー束を通す
のである。
このようにすると、レンズの初期形態及び初期寸法の変
化によるレンズの膨張が回避され、光学的組装置の機能
安定性が保証される。
化によるレンズの膨張が回避され、光学的組装置の機能
安定性が保証される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、レンズなど一以上の第一要素と、前記第一要素の少
くとも一面から僅かに離れて配置される光学的に不活性
な透明薄板など一以上の第二要素とを含み、前記の第一
要素と第二要素がエネルギー束に露出されるような光学
的組装置を、該装置の前記第一要素と第二要素との間に
ガス流を循環させて冷却する方法であって、前記第二要
素の一以上の外面上にも等しくガス流を循環させること
を特徴とする光学的組装置を冷却する方法。 ２、前記の第一要素と第二要素との間及び前記第二要素
の外面上をそれぞれ循環する両ガス流に、同一のガスを
使用することを特徴とする請求項１記載の方法。 ３、前記のガスが常温すなわち＋２０℃と−８０℃との
間の温度にあることを特徴とする請求項１又は２に記載
の方法。 ４、先ずガス流を前記の光学的組装置内に循環させるこ
と、及び該光学的組装置が冷却条件に対応する平衡温度
に達した際にエネルギー束を通すことを特徴とする請求
項１、２、又は３に記載の方法。 ５、前記のエネギー束がレーザ束であることを特徴とす
る請求項１、２、３又は４に記載の方法。 ６、空気、窒素、アルゴン、ヘリウム及びそれらの混合
物からなる群から前記ガスを選択することを特徴とする
請求項１、２、３、４、又は５に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BE8800754A BE1002076A6 (fr) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | Procede pour refroidir un ensemble optique. |
| BE08800754 | 1988-06-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0253019A true JPH0253019A (ja) | 1990-02-22 |
Family
ID=3883508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1163611A Pending JPH0253019A (ja) | 1988-06-29 | 1989-06-26 | 光学的組装置の冷却方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0349511A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0253019A (ja) |
| BE (1) | BE1002076A6 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03216287A (ja) * | 1990-01-19 | 1991-09-24 | Fanuc Ltd | レーザ切断加工方法 |
| US6354370B1 (en) * | 1999-12-16 | 2002-03-12 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Liquid spray phase-change cooling of laser devices |
| US6617555B1 (en) * | 2001-08-06 | 2003-09-09 | Ultratech Stepper, Inc. | Imaging stabilization apparatus and method for high-performance optical systems |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1246416A (en) * | 1969-04-18 | 1971-09-15 | Central Electr Generat Board | Improvements in or relating to television cameras |
| BE900852A (fr) * | 1984-10-18 | 1985-04-18 | Centre Rech Metallurgique | Procede de refroidissement d'un ensemble optique. |
-
1988
- 1988-06-29 BE BE8800754A patent/BE1002076A6/fr not_active IP Right Cessation
-
1989
- 1989-06-12 EP EP19890870089 patent/EP0349511A3/fr not_active Withdrawn
- 1989-06-26 JP JP1163611A patent/JPH0253019A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0349511A3 (fr) | 1990-11-07 |
| EP0349511A2 (fr) | 1990-01-03 |
| BE1002076A6 (fr) | 1990-06-19 |
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