JPS63212545A - 防汚性無反射板 - Google Patents
防汚性無反射板Info
- Publication number
- JPS63212545A JPS63212545A JP62047171A JP4717187A JPS63212545A JP S63212545 A JPS63212545 A JP S63212545A JP 62047171 A JP62047171 A JP 62047171A JP 4717187 A JP4717187 A JP 4717187A JP S63212545 A JPS63212545 A JP S63212545A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- refractive index
- antifouling
- reflective plate
- low refractive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 title claims description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 6
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 claims description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910003447 praseodymium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は表面が防汚性をもった無反射板に関する。
従来、無反射板としては、ガラス板等の透明基板表面に
、低屈折率無機透明膜を付着したり、最外表面層が低屈
折率無機透明膜になるように高屈折率透明膜と低屈折率
透明膜とを交互に付着した反射防止膜を有する無反射板
が知られている。
、低屈折率無機透明膜を付着したり、最外表面層が低屈
折率無機透明膜になるように高屈折率透明膜と低屈折率
透明膜とを交互に付着した反射防止膜を有する無反射板
が知られている。
また、無反射板の表面の汚れを防止したものとして、透
明基板と同程度以上の屈折率を有するシラン化合物塗膜
等を該透明基板に付着し、該塗膜上にポリフルオロ化基
含有化合物からなる薄膜を形成した防汚性兼反射板が特
開昭！ター／／１１１１０号により知られている。
明基板と同程度以上の屈折率を有するシラン化合物塗膜
等を該透明基板に付着し、該塗膜上にポリフルオロ化基
含有化合物からなる薄膜を形成した防汚性兼反射板が特
開昭！ター／／１１１１０号により知られている。
従来の無機透明膜を用いた無反射板はその表面に汚れが
付きやすく、且つ汚れの除去が困難であるＯ また、シラン化合物塗膜とポリフルオロ化基含有化合物
薄膜を形成した無反射板は表面がフッ素系高分子特有の
表面エネルギーが低いことから、水、油等の付着をさま
たげる効果はあるが、シラン化合物塗膜等の樹脂膜に高
い屈折率を有するものが得られないため、無反射の特性
が劣るという欠点があった。
付きやすく、且つ汚れの除去が困難であるＯ また、シラン化合物塗膜とポリフルオロ化基含有化合物
薄膜を形成した無反射板は表面がフッ素系高分子特有の
表面エネルギーが低いことから、水、油等の付着をさま
たげる効果はあるが、シラン化合物塗膜等の樹脂膜に高
い屈折率を有するものが得られないため、無反射の特性
が劣るという欠点があった。
本発明は前記した無機透明膜を用いた無反射板のもつ汚
れやすい欠点と、有機透明膜を用いた無反射特性の劣勢
を解決するためになされたものである。
れやすい欠点と、有機透明膜を用いた無反射特性の劣勢
を解決するためになされたものである。
〔間１点を解決するための手段〕
すなわち、本発明は透明基板上に形成された反射防止無
機膜の最表面層の低屈折率膜上に含フッ素高分子膜を形
成した防汚性無反射板である。
機膜の最表面層の低屈折率膜上に含フッ素高分子膜を形
成した防汚性無反射板である。
本発明においては含フッ素高分子膜としてポリテトラフ
ルオロエチレン、（ＰＴＦＥ）、ポリフルオロアルキル
メタクリレート（ＲｆＭＡ） 、ポリトリプルオロエチ
レン（ＰＴｒＦＩ）、パーフルオロアルキルシラン（（
ＣＦ３）２０ＦＯ（ＣＨ２）３ＳｉｌＪ３）重合体、あ
るいはパーフルオロアルキルア七チ駿ン（ＣＦ３（ＣＦ
２） ６（ＣＨ２） １１ａ−ＣＣ０ＯＨ）重合体のい
ずれかの膜が好んパで用いられる。
ルオロエチレン、（ＰＴＦＥ）、ポリフルオロアルキル
メタクリレート（ＲｆＭＡ） 、ポリトリプルオロエチ
レン（ＰＴｒＦＩ）、パーフルオロアルキルシラン（（
ＣＦ３）２０ＦＯ（ＣＨ２）３ＳｉｌＪ３）重合体、あ
るいはパーフルオロアルキルア七チ駿ン（ＣＦ３（ＣＦ
２） ６（ＣＨ２） １１ａ−ＣＣ０ＯＨ）重合体のい
ずれかの膜が好んパで用いられる。
本発明は透明基板上に形成した反射防止無機膜の最表面
層の低屈折率膜上に低屈折率で、且つ表面エネルギーが
低い含フッ素高分子膜を形成したものであるから、炉反
射特性が低下することなく、無反射板の表面が他の物質
に対してぬれにくくなる。
層の低屈折率膜上に低屈折率で、且つ表面エネルギーが
低い含フッ素高分子膜を形成したものであるから、炉反
射特性が低下することなく、無反射板の表面が他の物質
に対してぬれにくくなる。
以下、本発明を図面に示した実施例について説明する。
屈折率へｊ／であるガラス板（１）の表面に、屈折率が
２．／ｊで、且つ光学厚みがｏ、ｏｔｏｚ・λ０（λ０
は可視光中心波長）の酸化チタンと酸化プラセオジムの
混合物からなる高屈折率態様Ｍ（２）を蒸着法により形
成し、この高屈折率＃機膜（２）上に、屈折率が／、ｊ
ｒで且つ光学厚みがｏ、ｏり１０・λ０の弗化マグネシ
ウムの低屈折率無機膜（３）を蒸着法により形成し、こ
の低屈折率無機膜（３）上に光学厚みがＯ，Ｚ４！りＯ
・λ０の高屈折率無機膜Ｉ膜（２）と同種の高屈折率無
機膜（４）を蒸着法により形成し、更にその上に光学厚
みが０．Ｉｒ７０・λ０の弗化マグネシウムの低屈折率
無機膜（５）を蒸着し、その上に屈折率が７．３ｔで且
つ光学厚みが０． Ｏｌｒ ／コ・λ０のＰＴＦＥ ＃
（６）を形成して防汚性無反射板を得た。ＰＴＦＩＣ層
（６）は、電子線加熱による蒸着法、ＲＦスパッタ法、
あるいはプラズマ重合法のいずれかによっても形成でき
る。
２．／ｊで、且つ光学厚みがｏ、ｏｔｏｚ・λ０（λ０
は可視光中心波長）の酸化チタンと酸化プラセオジムの
混合物からなる高屈折率態様Ｍ（２）を蒸着法により形
成し、この高屈折率＃機膜（２）上に、屈折率が／、ｊ
ｒで且つ光学厚みがｏ、ｏり１０・λ０の弗化マグネシ
ウムの低屈折率無機膜（３）を蒸着法により形成し、こ
の低屈折率無機膜（３）上に光学厚みがＯ，Ｚ４！りＯ
・λ０の高屈折率無機膜Ｉ膜（２）と同種の高屈折率無
機膜（４）を蒸着法により形成し、更にその上に光学厚
みが０．Ｉｒ７０・λ０の弗化マグネシウムの低屈折率
無機膜（５）を蒸着し、その上に屈折率が７．３ｔで且
つ光学厚みが０． Ｏｌｒ ／コ・λ０のＰＴＦＥ ＃
（６）を形成して防汚性無反射板を得た。ＰＴＦＩＣ層
（６）は、電子線加熱による蒸着法、ＲＦスパッタ法、
あるいはプラズマ重合法のいずれかによっても形成でき
る。
そして、ＰＴＦＥ層（６）は低屈折率無ｌ１１４膜（５
）と共に無反射性能に寄与し、得られた防汚性無反射板
は第２図に示す如き、反射率特性を示す。
）と共に無反射性能に寄与し、得られた防汚性無反射板
は第２図に示す如き、反射率特性を示す。
（発明の効果〕
本発明により得られた防汚性無反射板は低屈折率で且つ
表面エネルギーが低い含フッ素高分子膜を反射防止無機
膜の低屈折率膜の一部として組込んだため、第２図に示
す如く無反射特性が低下す汚れ、特に指紋等の汚れが付
着しにくくなった。
表面エネルギーが低い含フッ素高分子膜を反射防止無機
膜の低屈折率膜の一部として組込んだため、第２図に示
す如く無反射特性が低下す汚れ、特に指紋等の汚れが付
着しにくくなった。
図面は本発明の実施例を示すものであって、第１図は防
汚性無反射板の断面図、第２図は防汚性無反射板の反射
率特性図である。 ｌニガラス板、λ、μ：高μ：率無機膜。 ３、ｊ：低屈折率無機膜、 ４ ｎ ＰＴＦＥ層第１図 手 続 補 正 書（自発） 昭和６２年牛刀ｔｏ日 特許庁長官殿 、八
−シ ／ 事件の表示 特願昭４２ ＋＋ ＜’ｒｔｒｔ号 特公昭 −号 Ｊ 発明の名称 防汚性無反射板 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住、所 大阪府大阪市東区道修町４丁目８番地名称 （
＜ｔｏｏ）日本板硝子株式会社代表者 刺 賀 信
雄 ダ代理人 ２ 補正の内容 −（１） 明細書第３頁第１ｊ行目から同第７４行目
までの （ＯＦ３（ＣＦｇ）６（ＣＨｇｈｌ：ａｃｃＯＯＨ）
ヲＣＣＦ３（ＣＦｚ）６（０１ｈｈｌＯミｃｃｏｏａ
）に補正する。 （２） 第２図を別紙第２図の如く補正する。 以 上
汚性無反射板の断面図、第２図は防汚性無反射板の反射
率特性図である。 ｌニガラス板、λ、μ：高μ：率無機膜。 ３、ｊ：低屈折率無機膜、 ４ ｎ ＰＴＦＥ層第１図 手 続 補 正 書（自発） 昭和６２年牛刀ｔｏ日 特許庁長官殿 、八
−シ ／ 事件の表示 特願昭４２ ＋＋ ＜’ｒｔｒｔ号 特公昭 −号 Ｊ 発明の名称 防汚性無反射板 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住、所 大阪府大阪市東区道修町４丁目８番地名称 （
＜ｔｏｏ）日本板硝子株式会社代表者 刺 賀 信
雄 ダ代理人 ２ 補正の内容 −（１） 明細書第３頁第１ｊ行目から同第７４行目
までの （ＯＦ３（ＣＦｇ）６（ＣＨｇｈｌ：ａｃｃＯＯＨ）
ヲＣＣＦ３（ＣＦｚ）６（０１ｈｈｌＯミｃｃｏｏａ
）に補正する。 （２） 第２図を別紙第２図の如く補正する。 以 上
Claims (2)
- （１）透明基板上に形成された反射防止無機膜の最表面
層の低屈折率膜上に含フッ素高分子膜を形成した防汚性
無反射板。 - （２）前記含フッ素高分子膜がポリテトラフルオロエチ
レン、ポリフルオロアルキルメタクリレート、ポリトリ
フルオロエチレン、パーフルオロアルキルシラン重合体
、あるいはパーフルオロアルキルアセチレン重合体の膜
のいずれかである特許請求の範囲第１項に記載の防汚性
無反射板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62047171A JPS63212545A (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 防汚性無反射板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62047171A JPS63212545A (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 防汚性無反射板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63212545A true JPS63212545A (ja) | 1988-09-05 |
Family
ID=12767617
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62047171A Pending JPS63212545A (ja) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | 防汚性無反射板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63212545A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05238781A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-09-17 | Ppg Ind Inc | 耐久撥水性表面を有するガラス物品 |
| JPH11286047A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-10-19 | Creavis G Fuer Technol & Innov Mbh | 構造化された表面、その製造法および該表面の使用 |
| WO2001018773A1 (fr) * | 1999-09-06 | 2001-03-15 | Seiko Epson Corporation | Verre de recouvrement |
| JP2002544115A (ja) * | 1999-05-15 | 2002-12-24 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | フッ化物層の上に疎水性層を製造するための方法および組成物 |
-
1987
- 1987-03-02 JP JP62047171A patent/JPS63212545A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05238781A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-09-17 | Ppg Ind Inc | 耐久撥水性表面を有するガラス物品 |
| JPH11286047A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-10-19 | Creavis G Fuer Technol & Innov Mbh | 構造化された表面、その製造法および該表面の使用 |
| JP2002544115A (ja) * | 1999-05-15 | 2002-12-24 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | フッ化物層の上に疎水性層を製造するための方法および組成物 |
| JP4896297B2 (ja) * | 1999-05-15 | 2012-03-14 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | フッ化物層の上に疎水性層を製造するための多孔質モールド |
| WO2001018773A1 (fr) * | 1999-09-06 | 2001-03-15 | Seiko Epson Corporation | Verre de recouvrement |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4784467A (en) | Multi-layered anti-reflection coating | |
| JP2561395B2 (ja) | 撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法 | |
| WO2007092746A2 (en) | Transparent articles having hydrophobic or super-hydrophobic surfaces | |
| JPS63228101A (ja) | 防汚性を有する帯電防止無反射板 | |
| JPS63212545A (ja) | 防汚性無反射板 | |
| JPS5860701A (ja) | 反射防止膜 | |
| JP2019133153A (ja) | 光学的特性及び機械的特性を有する光学デバイス | |
| JPS6135521B2 (ja) | ||
| JP2001183506A (ja) | 光学素子及び表示装置 | |
| JP3449070B2 (ja) | 汚れ防止処理方法 | |
| JP2748413B2 (ja) | 低反射加工剤 | |
| JP2004126532A (ja) | 光学部材 | |
| JP3012712B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
| JP4023065B2 (ja) | 反射防止部材 | |
| JPH0781978A (ja) | ガラス製光学部品における撥水性を有する反射防止膜 | |
| JP2001096669A (ja) | 反射防止積層体、光学機能性積層体、および表示装置 | |
| JPH0756003A (ja) | 撥水性を有する光学素子 | |
| JPH10123303A (ja) | 反射防止光学部品 | |
| KR102584462B1 (ko) | 발수성 코팅 렌즈의 제조 방법 | |
| JPH11248904A (ja) | 反射防止膜の製造方法 | |
| JPH08152502A (ja) | 導電性反射防止膜及び導電性反射防止フィルム | |
| JP3502150B2 (ja) | 反射防止コーティング | |
| JP2777937B2 (ja) | 樹脂製光学素子及びその製造方法 | |
| JP3353948B2 (ja) | ビームスプリッター | |
| JPS6042445B2 (ja) | 多層薄膜光学系 |