JPS63208592A - トリアルコキシシランの製造方法 - Google Patents
トリアルコキシシランの製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 69
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 claims abstract description 29
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 15
- -1 alkenyl halide Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 150000001502 aryl halides Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 33
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 13
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 27
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 23
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 9
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 7
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 7
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 5
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 4
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 4
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N butylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1 OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L copper(ii) bromide Chemical compound [Cu+2].[Br-].[Br-] QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N icosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N octadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- WJECKFZULSWXPN-UHFFFAOYSA-N 1,2-didodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1CCCCCCCCCCCC WJECKFZULSWXPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYNYIHKIEHGYOZ-UHFFFAOYSA-N 1-bromopropane Chemical compound CCCBr CYNYIHKIEHGYOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRNSSRODJSSVEJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentacosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(C)C ZRNSSRODJSSVEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021593 Copper(I) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021590 Copper(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWATWSYOIIXYMA-UHFFFAOYSA-N Pentylbenzene Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1 PWATWSYOIIXYMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M copper(1+);acetate Chemical compound [Cu+].CC([O-])=O RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N copper;4-hydroxypent-3-en-2-one Chemical compound [Cu].CC(O)=CC(C)=O.CC(O)=CC(C)=O ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940076286 cupric acetate Drugs 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 1
- 229930007927 cymene Natural products 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UHCBBWUQDAVSMS-UHFFFAOYSA-N fluoroethane Chemical compound CCF UHCBBWUQDAVSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N iodoethane Chemical compound CCI HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N monofluoromethane Natural products FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N n-propyl chloride Chemical compound CCCCl SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940038384 octadecane Drugs 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNSQGRKHCZUSU-UHFFFAOYSA-N octylbenzene Chemical compound [CH2]CCCCCCCC1=CC=CC=C1 VXNSQGRKHCZUSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、アルコキシシランの製造方法に係り、特に
銅触媒の存在下に金属硅素粉末とアルコール類とを反応
させてトリアルコキシシランを選択的に製造する方法に
関する。
銅触媒の存在下に金属硅素粉末とアルコール類とを反応
させてトリアルコキシシランを選択的に製造する方法に
関する。
[従来の技術]
例えばトリメトキシシランやトリエトキシシランのよう
に、1つの硅素原子に3つのアルコキシ基と1つの水素
原子が結合したトリアルコキシシランは、それ自体極め
て不安定で反応性に富み、多くの有機化合物に対して付
加、共重合、共縮合等の反応をして有用な物質を生成し
、例えばシランカップリング剤、コーティング剤、耐熱
塗料等を製造する際の原料物質として使用されている。
に、1つの硅素原子に3つのアルコキシ基と1つの水素
原子が結合したトリアルコキシシランは、それ自体極め
て不安定で反応性に富み、多くの有機化合物に対して付
加、共重合、共縮合等の反応をして有用な物質を生成し
、例えばシランカップリング剤、コーティング剤、耐熱
塗料等を製造する際の原料物質として使用されている。
このようなトリアルコキシシランを製造するための方法
としては、トリクロルシランとアルコールとを反応させ
る方法: H4−n S I X n + n ROH→H4−n
S i (OR) n 十n HX(但し、式中Rは
アルキル基を示し、Xはハロゲン原子を示し、nは1〜
4の整数である。)や、反応条件に応じて以下に示す5
種類の反応が複雑に起ると考えられる銅触媒の存在下に
気相あるいは液相で金属硅素粉末とアルコールとを直接
反応させる方法: (1)Si+4ROH−48i (OR> +282
(2) S i +3 ROM−H8i (OR> 3
+82(3) S i +2ROH−+H2S i
(OR>2(4) S i +2ROH−”S i 0
2 +2R−H(5) ROH+H2−R−H+1−1
20(但し、式中Rはアルキル基を示す。)が知られて
いる。
としては、トリクロルシランとアルコールとを反応させ
る方法: H4−n S I X n + n ROH→H4−n
S i (OR) n 十n HX(但し、式中Rは
アルキル基を示し、Xはハロゲン原子を示し、nは1〜
4の整数である。)や、反応条件に応じて以下に示す5
種類の反応が複雑に起ると考えられる銅触媒の存在下に
気相あるいは液相で金属硅素粉末とアルコールとを直接
反応させる方法: (1)Si+4ROH−48i (OR> +282
(2) S i +3 ROM−H8i (OR> 3
+82(3) S i +2ROH−+H2S i
(OR>2(4) S i +2ROH−”S i 0
2 +2R−H(5) ROH+H2−R−H+1−1
20(但し、式中Rはアルキル基を示す。)が知られて
いる。
しかしながら、前者の方法においては、副生じたハロゲ
ン化水素がアルコールと反応してハロゲン化アルキルと
水を生成し、この生成した水が原料のトリクロルシラン
を加水分解して反応が停止するためと考えられるが、目
的物のトリアルコキシシランの収率が低く、また、副生
したハロゲン化水素が反応装置を腐蝕するという製造上
の問題があった。
ン化水素がアルコールと反応してハロゲン化アルキルと
水を生成し、この生成した水が原料のトリクロルシラン
を加水分解して反応が停止するためと考えられるが、目
的物のトリアルコキシシランの収率が低く、また、副生
したハロゲン化水素が反応装置を腐蝕するという製造上
の問題があった。
また、後者の方法においては、金属硅素粉末の反応率と
反応速度を高くするために通常金属硅素粉末に対して過
剰のアルコールが使用されるが、反応が気相反応である
と上記一般式(1)の反応が優先し、また、反応温度が
高いために一般式(4)の反応が起り、加えて、一般式
(5)の反応が起ってこの際に生成した水が金属硅素粉
末と反応してその表面に硅酸若しくは酸化硅素(シリカ
)の被膜を生成せしめて反応が停止し、結局金属硅素粉
末の反応率が低くて金属硅素粉末に対する目的物のトリ
アルコキシシランの収率が悪いという問題があった。
反応速度を高くするために通常金属硅素粉末に対して過
剰のアルコールが使用されるが、反応が気相反応である
と上記一般式(1)の反応が優先し、また、反応温度が
高いために一般式(4)の反応が起り、加えて、一般式
(5)の反応が起ってこの際に生成した水が金属硅素粉
末と反応してその表面に硅酸若しくは酸化硅素(シリカ
)の被膜を生成せしめて反応が停止し、結局金属硅素粉
末の反応率が低くて金属硅素粉末に対する目的物のトリ
アルコキシシランの収率が悪いという問題があった。
ところで、液相反応で行う後者の方法には、反応開始当
初は上記一般式(2)で示される反応が優先して目的物
であるトリアルコキシシランの選択率は向上するが、反
応が進行するにつれて次第にトリアルコキシシランの選
択率が低下し、目的物のトリアルコキシシランについて
依然として満足し得る収率を達成することができないと
いう問題があった。そして、このように反応が進行する
につれてトリアルコキシシランの選択率が低下するのは
、工業原料として使用される金属硅素粉末中に不純物と
して各々約1重量%以下の濃度で含有されている種々の
アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属がアルコール
と反応して金属アルコラードを生成し、反応が進行する
につれて生成した金属アルコラードが徐々に蓄積し、金
属アルコラードの蓄積が増加するにつれて一旦生成した
トリアルコキシシランがテトラアルコキシシランに分解
するためであると考えられる。
初は上記一般式(2)で示される反応が優先して目的物
であるトリアルコキシシランの選択率は向上するが、反
応が進行するにつれて次第にトリアルコキシシランの選
択率が低下し、目的物のトリアルコキシシランについて
依然として満足し得る収率を達成することができないと
いう問題があった。そして、このように反応が進行する
につれてトリアルコキシシランの選択率が低下するのは
、工業原料として使用される金属硅素粉末中に不純物と
して各々約1重量%以下の濃度で含有されている種々の
アルカリ金属及び/又はアルカリ土類金属がアルコール
と反応して金属アルコラードを生成し、反応が進行する
につれて生成した金属アルコラードが徐々に蓄積し、金
属アルコラードの蓄積が増加するにつれて一旦生成した
トリアルコキシシランがテトラアルコキシシランに分解
するためであると考えられる。
このため、上記液相反応で行う後者の方法においては、
上述した問題を解決するために原料として使用する金属
硅素粉末それ自体の純度の向上を図ればよいと考えられ
るが、金属硅素の精製には多大の手間と費用を要し、ト
リアルコキシシランを製造する際に工業的規模で使用す
る金属硅素について反応に悪影響を及ぼさない程度にま
でその純度を上げることはほとんど不可能に近いことで
ある。
上述した問題を解決するために原料として使用する金属
硅素粉末それ自体の純度の向上を図ればよいと考えられ
るが、金属硅素の精製には多大の手間と費用を要し、ト
リアルコキシシランを製造する際に工業的規模で使用す
る金属硅素について反応に悪影響を及ぼさない程度にま
でその純度を上げることはほとんど不可能に近いことで
ある。
[発明が解決しようとする問題点]
そこで、本発明者等は、かかる観点に鑑みて鋭意研究を
重ねた結果、銅触媒の存在下に液相で金属硅素粉末とア
ルコール類とを直接反応させる際にその反応系に有機ハ
ロゲン化物を共存させることにより、反応の進行に伴う
トリアルコキシシランの選択率の低下を防止できること
を見出し、本発明に到達したものである。
重ねた結果、銅触媒の存在下に液相で金属硅素粉末とア
ルコール類とを直接反応させる際にその反応系に有機ハ
ロゲン化物を共存させることにより、反応の進行に伴う
トリアルコキシシランの選択率の低下を防止できること
を見出し、本発明に到達したものである。
従って、本発明の目的は、金属硅素の反応率とトリアル
コキシシランの選択率とが共に優れており、これによっ
て収率良くトリアルコキシシランを製造することができ
る1−リアルコキシシランの製造方法を提供することに
ある。
コキシシランの選択率とが共に優れており、これによっ
て収率良くトリアルコキシシランを製造することができ
る1−リアルコキシシランの製造方法を提供することに
ある。
[問題点を解決するための手段]。
すなわち、本発明は、反応溶媒中銅触媒の存在下に金属
硅素粉末とアルコール類とを反応させてトリアルコキシ
シランを製造する際に、上記反応系に有機ハロゲン化物
を添加するトリアルコキシシランの製造方法である。
硅素粉末とアルコール類とを反応させてトリアルコキシ
シランを製造する際に、上記反応系に有機ハロゲン化物
を添加するトリアルコキシシランの製造方法である。
本発明方法において、原料として使用する金属硅素粉末
は、その純度が80重量%以上であってその平均粒径が
200μm以下であればよく、例えば振動ミル、ボール
ミル等の手段で製造され、その純度が80〜99重伍%
であって平均粒径50〜100μmの安価な一般市販品
がそのまま使用される。このような金属硅素中には、通
常、Fe、CaSHg、Zn、 AI、Ti、 Cr、
N15HnSBa、 Cu、 Zr等の金属が多いも
ので1型組%前後、少ないもので数ppm程度含有され
ている。
は、その純度が80重量%以上であってその平均粒径が
200μm以下であればよく、例えば振動ミル、ボール
ミル等の手段で製造され、その純度が80〜99重伍%
であって平均粒径50〜100μmの安価な一般市販品
がそのまま使用される。このような金属硅素中には、通
常、Fe、CaSHg、Zn、 AI、Ti、 Cr、
N15HnSBa、 Cu、 Zr等の金属が多いも
ので1型組%前後、少ないもので数ppm程度含有され
ている。
また、原料として使用するアルコール類としては、通常
アルキルアルコール、好ましくはメルアルコール、エチ
ルアルコール、n−プロピルアルコール、1SO−プロ
ピルアルコール、n−ブチルアルコール、1so−ブチ
ルアルコール、アミルアルコール等の炭素数1〜6の低
級アルキルアルコールである。これらのアルコール類に
ついては、その純度が98重量%以上、好ましくは99
.9重量%以上であって、水分含有量については0.2
重量%以下、好ましくは0.1重量%以下のものがよい
。
アルキルアルコール、好ましくはメルアルコール、エチ
ルアルコール、n−プロピルアルコール、1SO−プロ
ピルアルコール、n−ブチルアルコール、1so−ブチ
ルアルコール、アミルアルコール等の炭素数1〜6の低
級アルキルアルコールである。これらのアルコール類に
ついては、その純度が98重量%以上、好ましくは99
.9重量%以上であって、水分含有量については0.2
重量%以下、好ましくは0.1重量%以下のものがよい
。
このアルコール類の使用量は、金属硅素粉末1モルに対
して通常3〜10モルであるが、金属硅素粉末の反応率
を向上させるためには金属硅素粉末に対して過剰に使用
するのがよく、好ましくは4〜8モルである。
して通常3〜10モルであるが、金属硅素粉末の反応率
を向上させるためには金属硅素粉末に対して過剰に使用
するのがよく、好ましくは4〜8モルである。
本発明方法で使用する銅触媒としては、従来公知のもの
でよく、例えば、金属銅粉末や、塩化第一銅、塩化第二
銅、臭化第一銅、臭化第二銅、沃化第一銅、沃化第二銅
、弗化第一銅、1i酸銅、銅アセチルアセトナート、酢
酸第一銅、酢酸第二銅、酸化第一銅、酸化第二銅等の銅
化合物等を挙げることができる。これら金属銅粉末や銅
化合物についてはその1種のみを使用してもよく、また
、2種以上を組合せて使用してもよい。これらの銅触媒
は、金属硅素1モルに対して通常0.005〜0.5モ
ル、好ましくは0.01〜O,lEルの範囲で使用され
、この使用量が0.005モルより少ないと金属硅素の
反応率の低下という問題が生じ、また、0.5モルより
多いとトリアルコキシシランの選択率の低下という問題
が生じる。また、この銅触媒については、これを上記金
属硅素粉末と予め混合粉砕し、窒素気流中300〜1゜
000℃、好ましくは400〜600℃で熱処理して活
性化させてから使用してもよく、これによって反応温度
を低下させ、水のできる副反応を抑制するという利点が
生じる。
でよく、例えば、金属銅粉末や、塩化第一銅、塩化第二
銅、臭化第一銅、臭化第二銅、沃化第一銅、沃化第二銅
、弗化第一銅、1i酸銅、銅アセチルアセトナート、酢
酸第一銅、酢酸第二銅、酸化第一銅、酸化第二銅等の銅
化合物等を挙げることができる。これら金属銅粉末や銅
化合物についてはその1種のみを使用してもよく、また
、2種以上を組合せて使用してもよい。これらの銅触媒
は、金属硅素1モルに対して通常0.005〜0.5モ
ル、好ましくは0.01〜O,lEルの範囲で使用され
、この使用量が0.005モルより少ないと金属硅素の
反応率の低下という問題が生じ、また、0.5モルより
多いとトリアルコキシシランの選択率の低下という問題
が生じる。また、この銅触媒については、これを上記金
属硅素粉末と予め混合粉砕し、窒素気流中300〜1゜
000℃、好ましくは400〜600℃で熱処理して活
性化させてから使用してもよく、これによって反応温度
を低下させ、水のできる副反応を抑制するという利点が
生じる。
さらに、本発明で使用する有機ハロゲン化物としては、
塩化メチル、臭化メチル、弗化メチル、沃化メチル、塩
化エチル、臭化エチル、弗化エチル、沃化エチル、塩化
n−プロピル、臭化n−プロピル等のハロゲン化アルキ
ルや、ジクロルメタン、ジクロルエタン等のハロゲン化
アルケニルや、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン等の
ハロゲン化アリールや、その他クロロホルム、四塩化炭
素、酢酸クロライド等の有機酸ハロゲン化物等を挙げる
ことができる。この有機ハロゲン化物の使用量について
は、上記アルコール類1モルに対して通常o、oooi
〜1モル、好ましくは0.001〜0.5モルであり、
0.0001モルより少ないと金属硅素の不純物である
アルカリ及びアルカリ土類金属のアルコラードができ、
反応系内がアルカリ性になってトリアルコキシシランの
生成が低下するという問題があり、また、1モルより多
くなると酸性が強くなりすぎてトリアルコキシシランの
選択率が低下し経済的にも不利であるという問題が生じ
る。なお、この有機ハロゲン化物については、必要によ
りこれを窒素ガス等の不活性ガスで希釈して使用するこ
ともできる。
塩化メチル、臭化メチル、弗化メチル、沃化メチル、塩
化エチル、臭化エチル、弗化エチル、沃化エチル、塩化
n−プロピル、臭化n−プロピル等のハロゲン化アルキ
ルや、ジクロルメタン、ジクロルエタン等のハロゲン化
アルケニルや、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン等の
ハロゲン化アリールや、その他クロロホルム、四塩化炭
素、酢酸クロライド等の有機酸ハロゲン化物等を挙げる
ことができる。この有機ハロゲン化物の使用量について
は、上記アルコール類1モルに対して通常o、oooi
〜1モル、好ましくは0.001〜0.5モルであり、
0.0001モルより少ないと金属硅素の不純物である
アルカリ及びアルカリ土類金属のアルコラードができ、
反応系内がアルカリ性になってトリアルコキシシランの
生成が低下するという問題があり、また、1モルより多
くなると酸性が強くなりすぎてトリアルコキシシランの
選択率が低下し経済的にも不利であるという問題が生じ
る。なお、この有機ハロゲン化物については、必要によ
りこれを窒素ガス等の不活性ガスで希釈して使用するこ
ともできる。
また、反応溶媒としては、それが反応系で安定であって
所定の反応温度にまで上昇可能なものであればよく、種
々の炭化水素化合物を使用することができ、例えば、オ
クタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカ
ン、オクタデカン、エイコサン等のパラフィン系炭化水
素、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、シメン、ジ
エチルベンゼン、ブチルベンゼン、ブチルトルエン、オ
クチルベンゼン、ドデシルベンゼン、ジドデシルベンゼ
ン等のアルキルベンゼン系炭化水素あるいはその水素化
物、ジフェニル、ジフェニルエーテル、モノエチルジフ
ェニル、ジエチルジフェニル、トリエチルジフェニル等
のジフェニル系炭化水素あるいはその水素化物、アルキ
ルナフタリン系炭化水素あるいはその水素化物、トリフ
ェニル系炭化水素あるいはその水素化物等を挙げること
ができ、その1種のみを使用してもよく、また、2種以
上を組合せて使用してもよい。これらの反応溶媒のうち
好ましいのは、その沸点が常圧で100〜300°C1
好ましくは140〜250℃、より好ましくは150〜
200℃のものである。
所定の反応温度にまで上昇可能なものであればよく、種
々の炭化水素化合物を使用することができ、例えば、オ
クタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカ
ン、オクタデカン、エイコサン等のパラフィン系炭化水
素、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、シメン、ジ
エチルベンゼン、ブチルベンゼン、ブチルトルエン、オ
クチルベンゼン、ドデシルベンゼン、ジドデシルベンゼ
ン等のアルキルベンゼン系炭化水素あるいはその水素化
物、ジフェニル、ジフェニルエーテル、モノエチルジフ
ェニル、ジエチルジフェニル、トリエチルジフェニル等
のジフェニル系炭化水素あるいはその水素化物、アルキ
ルナフタリン系炭化水素あるいはその水素化物、トリフ
ェニル系炭化水素あるいはその水素化物等を挙げること
ができ、その1種のみを使用してもよく、また、2種以
上を組合せて使用してもよい。これらの反応溶媒のうち
好ましいのは、その沸点が常圧で100〜300°C1
好ましくは140〜250℃、より好ましくは150〜
200℃のものである。
本発明方法において、反応は例えば以下のような方法で
行う。すなわち、攪拌機付反応容器にアルコール導入管
、有機ハロゲン化物導入管、生成物留出管及び温度計を
セットし、反応容器内(は金属硅素粉末、反応溶媒及び
銅触媒を仕込み、窒素ガス気流中攪拌下に100〜30
0℃に加熱し、必要により金属硅素粉末と銅触媒とを所
定時間接触させて熟成させた後、アルコール導入管から
アルコールを、また、有機ハロゲン化物導入管から有機
ハロゲン化物を反応容器内にそれぞれ一定の速度で流し
込んで反応させ、生成物留出管より留出してくる反応生
成物をこの生成物留出管の出口に接続した冷却器で冷却
し、目的物のトリアルコキシシランと未反応アルコール
とを凝縮して捕集する。
行う。すなわち、攪拌機付反応容器にアルコール導入管
、有機ハロゲン化物導入管、生成物留出管及び温度計を
セットし、反応容器内(は金属硅素粉末、反応溶媒及び
銅触媒を仕込み、窒素ガス気流中攪拌下に100〜30
0℃に加熱し、必要により金属硅素粉末と銅触媒とを所
定時間接触させて熟成させた後、アルコール導入管から
アルコールを、また、有機ハロゲン化物導入管から有機
ハロゲン化物を反応容器内にそれぞれ一定の速度で流し
込んで反応させ、生成物留出管より留出してくる反応生
成物をこの生成物留出管の出口に接続した冷却器で冷却
し、目的物のトリアルコキシシランと未反応アルコール
とを凝縮して捕集する。
[作 用]
本発明方法においては、反応溶媒中銅触媒の存在下に金
属硅素粉末とアルコール類とを反応させる反応系に有機
ハロゲン化物を存在させているので、この有機ハロゲン
化物が金属硅素粉末に不純物として随伴されてくるアル
カリ金属及び/又はアルカリ土類金属とアルコール類と
が反応して生成するアルコラ−I・と反応し、これを中
和して反応系内を常時弱酸性の状態に維持し、これによ
って一旦生成したトリアルコキシシランがテトラアルコ
キシシランに分解するのを防止し、トリアルコキシシラ
ンの選択率を高い水準に維持すると共に、金属硅素及び
触媒の銅を活性化し、金属硅素の反応率を向上させるも
のと考えられ、また、その理論的根拠は明らかではない
が、得られた反応生成物の安定性も著しく向上する。
属硅素粉末とアルコール類とを反応させる反応系に有機
ハロゲン化物を存在させているので、この有機ハロゲン
化物が金属硅素粉末に不純物として随伴されてくるアル
カリ金属及び/又はアルカリ土類金属とアルコール類と
が反応して生成するアルコラ−I・と反応し、これを中
和して反応系内を常時弱酸性の状態に維持し、これによ
って一旦生成したトリアルコキシシランがテトラアルコ
キシシランに分解するのを防止し、トリアルコキシシラ
ンの選択率を高い水準に維持すると共に、金属硅素及び
触媒の銅を活性化し、金属硅素の反応率を向上させるも
のと考えられ、また、その理論的根拠は明らかではない
が、得られた反応生成物の安定性も著しく向上する。
これを反応式を用いて考察してみると、反応系内に有機
ハロゲン化物を導入することにより、以下のような反応
が起こっていると考えられる。
ハロゲン化物を導入することにより、以下のような反応
が起こっていると考えられる。
■Si+ 2 RCI→R31C13+R25iCI2
+R35iCI(Rはメチル、エチル等のアルキル基で
ある。)■(R8ICl3 + R25ic12+ R
35ICI > + ROH→RS+ (OR) y
Cl□+y HCI× (但し、X%y及び2は1.2又は3である。)■HC
1+MOH→MCI+RO1−1(MはA1、Zn、
Hg、 Na、 K等のアルカリ又はアルカリ土類金属
である。) ■2cu+ RCl−sCuCI+RCLI[実施例] 以下、実施例及び比較例に基いて、本発明方法を具体的
に説明する。
+R35iCI(Rはメチル、エチル等のアルキル基で
ある。)■(R8ICl3 + R25ic12+ R
35ICI > + ROH→RS+ (OR) y
Cl□+y HCI× (但し、X%y及び2は1.2又は3である。)■HC
1+MOH→MCI+RO1−1(MはA1、Zn、
Hg、 Na、 K等のアルカリ又はアルカリ土類金属
である。) ■2cu+ RCl−sCuCI+RCLI[実施例] 以下、実施例及び比較例に基いて、本発明方法を具体的
に説明する。
実施例1
500dの攪拌機付反応容器にアルコール導入管、有機
ハロゲン化物導入管、生成物留出管及び温度計をセット
し、反応容器内には純度98重量%(不純物: Fe:
0.83wt%、Ca:0.35wt%、14g:15
01)pm SZn:320ppm 、 Al:0.6
0wt%、Ti:860ppm 、 Cr:4DI)E
)Ill、 Ni:43ppm、 )In:240pp
m 、Ba:50ppm1Cu:32ppm、 Zr:
180ppm (I CP発光分光分析法により測定
))の平均粒径的50μmの金属硅素粉末150gと、
沸点280℃のアルキルベンゼン系炭化水素(三菱油化
@製商品名:AB−HL)300dと、塩化第一銅7.
5gとを仕込み、また、留出管出口には冷却器をセット
した。
ハロゲン化物導入管、生成物留出管及び温度計をセット
し、反応容器内には純度98重量%(不純物: Fe:
0.83wt%、Ca:0.35wt%、14g:15
01)pm SZn:320ppm 、 Al:0.6
0wt%、Ti:860ppm 、 Cr:4DI)E
)Ill、 Ni:43ppm、 )In:240pp
m 、Ba:50ppm1Cu:32ppm、 Zr:
180ppm (I CP発光分光分析法により測定
))の平均粒径的50μmの金属硅素粉末150gと、
沸点280℃のアルキルベンゼン系炭化水素(三菱油化
@製商品名:AB−HL)300dと、塩化第一銅7.
5gとを仕込み、また、留出管出口には冷却器をセット
した。
次に、反応容器内に100a+4!/min、で窒素ガ
スを流しながら攪拌下に200〜250℃に加熱し、5
時間金属硅素粉末と塩化第一銅とを接触させ、その後、
反応容器内にはアルコール導入管から純度99.9重置
%以上のメチルアルコールを液として30Id/hr、
の速度で導入すると共に、有機ハロゲン化物導入管から
は塩化メチルをガスとして20ad!/min、の速度
で導入し、反応容器内を180℃に保って40時間反応
を行い、生成物留出管の出口から留出してくる反応生成
物をその出口に接続した冷却器で冷却し、1.0409
の反応生成物を得た。
スを流しながら攪拌下に200〜250℃に加熱し、5
時間金属硅素粉末と塩化第一銅とを接触させ、その後、
反応容器内にはアルコール導入管から純度99.9重置
%以上のメチルアルコールを液として30Id/hr、
の速度で導入すると共に、有機ハロゲン化物導入管から
は塩化メチルをガスとして20ad!/min、の速度
で導入し、反応容器内を180℃に保って40時間反応
を行い、生成物留出管の出口から留出してくる反応生成
物をその出口に接続した冷却器で冷却し、1.0409
の反応生成物を得た。
得られた反応生成物について、その組成をガスクロマト
グラフィにより分析した結果、目的物のトリメトキシシ
ラン44.33重ffi%、テトラメトキシシラン8.
75重1%、未反応メチルアルコール46.92重量%
であり、金属硅素の反応率は81重量%であって、トリ
メトキシシランの選択率は86モル%であった。
グラフィにより分析した結果、目的物のトリメトキシシ
ラン44.33重ffi%、テトラメトキシシラン8.
75重1%、未反応メチルアルコール46.92重量%
であり、金属硅素の反応率は81重量%であって、トリ
メトキシシランの選択率は86モル%であった。
さらに、1qられた反応生成物を18℃で4日間密栓し
て放置した後、再度ガスクロマトグラフィ分析を行った
が、この反応生成物の組成変化は認められず、反応生成
物の安定性が良好であることが判明した。
て放置した後、再度ガスクロマトグラフィ分析を行った
が、この反応生成物の組成変化は認められず、反応生成
物の安定性が良好であることが判明した。
実施例2
実施例1で使用した金属硅素粉末500gと塩化第一銅
259とを磁製ボールミルで8時間粉砕混合し、これを
石英管に充填し、電気炉にてして窒素ガス気流中600
℃で3時間熱処理した。
259とを磁製ボールミルで8時間粉砕混合し、これを
石英管に充填し、電気炉にてして窒素ガス気流中600
℃で3時間熱処理した。
得られた熱処理後の金属硅素粉末及び塩化第一銅と実施
例1で使用した沸点280℃のアルキルベンゼン系炭化
水素900rrIlとをアルコール導入管、有機ハロゲ
ン化物導入管、生成物留出管及び温度計がセットされた
直径10zX高さ230のステンレス製攪拌機付反応容
器に仕込み、この反応容器内を180℃に保って実施例
1と同様に純度99.9重量%以上のメチルアルコール
を液として30d/hr、の速度で導入すると共に塩化
メチルをガスとして30I111/min、の速度で導
入し100時間反応を行い、生成物留出管の出口から留
出してくる反応生成物をその出口に接続した冷却器で冷
却し、2,350gの反応生成物を得た。
例1で使用した沸点280℃のアルキルベンゼン系炭化
水素900rrIlとをアルコール導入管、有機ハロゲ
ン化物導入管、生成物留出管及び温度計がセットされた
直径10zX高さ230のステンレス製攪拌機付反応容
器に仕込み、この反応容器内を180℃に保って実施例
1と同様に純度99.9重量%以上のメチルアルコール
を液として30d/hr、の速度で導入すると共に塩化
メチルをガスとして30I111/min、の速度で導
入し100時間反応を行い、生成物留出管の出口から留
出してくる反応生成物をその出口に接続した冷却器で冷
却し、2,350gの反応生成物を得た。
得られた反応生成物について、実施例1と同様にその組
成を分析した結果、目的物のトリメトキシシラン57.
451fi%、テトラメトキシシラン12.38重量%
、未反応メチルアルコール30.17重ω%であり、金
属硅素の反応率は72重量%であって、トリメトキシシ
ランの選択率は85モル%であった。また、この反応生
成物を16℃で5日間密栓して放置した後、再度ガスク
ロマトグラフィ分析を行ったがその組成変化は認められ
ず、反応生成物の安定性が良好であることが判明した。
成を分析した結果、目的物のトリメトキシシラン57.
451fi%、テトラメトキシシラン12.38重量%
、未反応メチルアルコール30.17重ω%であり、金
属硅素の反応率は72重量%であって、トリメトキシシ
ランの選択率は85モル%であった。また、この反応生
成物を16℃で5日間密栓して放置した後、再度ガスク
ロマトグラフィ分析を行ったがその組成変化は認められ
ず、反応生成物の安定性が良好であることが判明した。
比較例1
塩化メチルの導入を行わなかった以外は上記実施例1と
全く同様にして反応を行い、反応生成物1.050gを
得た。
全く同様にして反応を行い、反応生成物1.050gを
得た。
得られた反応生成物について、実施例1と同様にその組
成を分析した結果、目的物のトリメトキシシラン11.
5211%、テトラメトキシシラン23.33重量%、
未反応メチルアルコール65.15重量%であり、金属
硅素の反応率は49重量%であって、トリメトキシシラ
ンの選択率は38モル%であった。また、この反応生成
物を18℃で4日間密栓して放置した後、再度ガスクロ
マトグラフィ分析を行ったところ、その組成は目的物の
トリメトキシシランが5.06重量%に、また、テトラ
メトキシシランが29.8114t%にそれぞれ変化し
ていた。
成を分析した結果、目的物のトリメトキシシラン11.
5211%、テトラメトキシシラン23.33重量%、
未反応メチルアルコール65.15重量%であり、金属
硅素の反応率は49重量%であって、トリメトキシシラ
ンの選択率は38モル%であった。また、この反応生成
物を18℃で4日間密栓して放置した後、再度ガスクロ
マトグラフィ分析を行ったところ、その組成は目的物の
トリメトキシシランが5.06重量%に、また、テトラ
メトキシシランが29.8114t%にそれぞれ変化し
ていた。
比較例2
塩化メチルの導入を行わなかった以外は上記実施例2と
全く同様にして反応を行い、反応生成物2.4609を
得た。
全く同様にして反応を行い、反応生成物2.4609を
得た。
得られた反応生成物について、実施例1と同様にその組
成を分析した結果、目的物のトリメトキシシラン16.
8711%、テトラメトキシシラン39.841量%、
未反応メチルアルコール43.29重量%であり、金属
硅素の反応率は55重置%であって、トリメトキシシラ
ンの選択率は35モル%であった。また、この反応生成
物を16℃で5日間密栓して放置した後、再度ガスクロ
マトグラフィ分析を行ったところ、その組成は目的物の
トリメトキシシランが8.33重型組に、また、テトラ
メトキシシランが48.34ffl償%にそれぞれ変化
していた。
成を分析した結果、目的物のトリメトキシシラン16.
8711%、テトラメトキシシラン39.841量%、
未反応メチルアルコール43.29重量%であり、金属
硅素の反応率は55重置%であって、トリメトキシシラ
ンの選択率は35モル%であった。また、この反応生成
物を16℃で5日間密栓して放置した後、再度ガスクロ
マトグラフィ分析を行ったところ、その組成は目的物の
トリメトキシシランが8.33重型組に、また、テトラ
メトキシシランが48.34ffl償%にそれぞれ変化
していた。
実施例3
実施例1で使用した金属硅素粉末100gと塩化第一銅
5gとをwi磁製ボールミル8時間粉砕混合し、これを
石英管に充瞑し、電気炉にてして窒素ガス気流中600
℃で3時間熱処理した。
5gとをwi磁製ボールミル8時間粉砕混合し、これを
石英管に充瞑し、電気炉にてして窒素ガス気流中600
℃で3時間熱処理した。
得られた熱処理後の金属硅素粉末及び塩化第一銅と実施
例1で使用した沸点280℃のアルキルベンゼン系炭化
水素300agとをアルコール導入管、有機ハロゲン化
物導入管、生成物留出管及び温度計がセットされた50
0dの攪拌機付反応容器に仕込み、この反応容器内を2
00℃に保って塩化エチルを2.5重口%含有するエチ
ルアルコ−ルを液として30rfdl/hrの速度で導
入し、20時間反応を行い、生成物預出管の出口から留
出してくる反応生成物をその出口に接続した冷却器で冷
却し、400gの反応生成物を得た。
例1で使用した沸点280℃のアルキルベンゼン系炭化
水素300agとをアルコール導入管、有機ハロゲン化
物導入管、生成物留出管及び温度計がセットされた50
0dの攪拌機付反応容器に仕込み、この反応容器内を2
00℃に保って塩化エチルを2.5重口%含有するエチ
ルアルコ−ルを液として30rfdl/hrの速度で導
入し、20時間反応を行い、生成物預出管の出口から留
出してくる反応生成物をその出口に接続した冷却器で冷
却し、400gの反応生成物を得た。
得られた反応生成物について、実施例1と同様にその組
成を分析した結果、目的物のトリエトキシシラン35重
量%、テトラエトキシシラン11重量%、未反応エチル
アルコール40重量%であり、金属硅素の反応率は30
重口%であって、トリエトキシシランの選択率は80モ
ル%であった。
成を分析した結果、目的物のトリエトキシシラン35重
量%、テトラエトキシシラン11重量%、未反応エチル
アルコール40重量%であり、金属硅素の反応率は30
重口%であって、トリエトキシシランの選択率は80モ
ル%であった。
比較例3
塩化エチルの導入を行わなかった以外は上記実施例3と
全く同様にして反応を行い、反応生成物420gを得た
。
全く同様にして反応を行い、反応生成物420gを得た
。
得られた反応生成物について、実施例1と同様にその組
成を分析した結果、目的物のトリエトキシシラン7重量
%、テトラエトキシシラン24重量%、未反応エチルア
ルコール71重量%であり、金属硅素の反応率は18重
量%であって、トリエトキシシランの選択率は26モル
%であった。
成を分析した結果、目的物のトリエトキシシラン7重量
%、テトラエトキシシラン24重量%、未反応エチルア
ルコール71重量%であり、金属硅素の反応率は18重
量%であって、トリエトキシシランの選択率は26モル
%であった。
[発明の効果]
本発明方法によれば、金属硅素の反応率及びトリアルコ
キシシランの選択率が共に向上し、収率良くトリアルコ
キシシランを製造することができる。
キシシランの選択率が共に向上し、収率良くトリアルコ
キシシランを製造することができる。
Claims (3)
- (1)反応溶媒中銅触媒の存在下に金属硅素粉末とアル
コール類とを反応させてトリアルコキシシランを製造す
る方法において、上記反応系に有機ハロゲン化物を添加
することを特徴とするトリアルコキシシランの製造方法
。 - (2)アルコール類が低級アルキルアルコールである特
許請求の範囲第1項記載のトリアルコキシシランの製造
方法。 - (3)有機ハロゲン化物がハロゲン化アルキル、ハロゲ
ン化アルケニル又はハロゲン化アリールである特許請求
の範囲第1項又は第2項記載のトリアルコキシシランの
製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62037895A JP2563305B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | トリアルコキシシランの製造方法 |
CA000559356A CA1323037C (en) | 1987-02-23 | 1988-02-19 | Process for the production of trialkoxysilanes |
US07/158,480 US4931578A (en) | 1987-02-23 | 1988-02-22 | Process for the production of trialkoxysilanes |
DE3851243T DE3851243T2 (de) | 1987-02-23 | 1988-02-23 | Verfahren zur Herstellung von Trialkoxysilanen. |
EP88301550A EP0280517B1 (en) | 1987-02-23 | 1988-02-23 | Process for the production of trialkoxysilanes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62037895A JP2563305B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | トリアルコキシシランの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63208592A true JPS63208592A (ja) | 1988-08-30 |
JP2563305B2 JP2563305B2 (ja) | 1996-12-11 |
Family
ID=12510276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62037895A Expired - Lifetime JP2563305B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | トリアルコキシシランの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2563305B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01128989A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-05-22 | Union Carbide Corp | トリアルコキシシラン−テトラアルコキシシラン混合物の製造方法 |
JPH05194540A (ja) * | 1992-01-13 | 1993-08-03 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | トリアルコキシシランの製造方法 |
JPH0665258A (ja) * | 1992-08-18 | 1994-03-08 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | トリアルコキシシランの製造方法 |
-
1987
- 1987-02-23 JP JP62037895A patent/JP2563305B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01128989A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-05-22 | Union Carbide Corp | トリアルコキシシラン−テトラアルコキシシラン混合物の製造方法 |
JPH05194540A (ja) * | 1992-01-13 | 1993-08-03 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | トリアルコキシシランの製造方法 |
JPH0665258A (ja) * | 1992-08-18 | 1994-03-08 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | トリアルコキシシランの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2563305B2 (ja) | 1996-12-11 |
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