JPS63203784A - 高純度電気銅の製造方法 - Google Patents
高純度電気銅の製造方法Info
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- JPS63203784A JPS63203784A JP62034434A JP3443487A JPS63203784A JP S63203784 A JPS63203784 A JP S63203784A JP 62034434 A JP62034434 A JP 62034434A JP 3443487 A JP3443487 A JP 3443487A JP S63203784 A JPS63203784 A JP S63203784A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
見匪血茨亙分更
本発明は高純度電気銅の製造方法に関する。
見班立吏米挟携
従来、高純度銅の製法としては、例えば、銀が８〜１４
ｐｐｍ、イオウが５〜１５ｐｐｍ含む電気銅を硝酸浴で
電気分解し、イオウ分の少ない電気銅を得る方法である
。
ｐｐｍ、イオウが５〜１５ｐｐｍ含む電気銅を硝酸浴で
電気分解し、イオウ分の少ない電気銅を得る方法である
。
この方法によれば、通常の電気銅中のイオウが５〜９
ｐｐｍあるものがかなり低下するのであるが。
ｐｐｍあるものがかなり低下するのであるが。
最も高い銀については、好ましく除去することができな
い。
い。
更に塩素源を添加し、電解浴温を規制して、銀含有量を
低下させる方法等が行われているが好ましく除去するこ
とができていない。
低下させる方法等が行われているが好ましく除去するこ
とができていない。
見匪ム鼠双
そこで発明者等が鋭意検討した結果、以下の発明をなし
た。
た。
即ち、本発明は、硝酸浴での通常の電気銅の再電解にお
いて、陽、陰極室を隔膜で区分し、陽極室排出液を脱銀
したのち、陰極室に給液する高純度銅の製造方法である
。
いて、陽、陰極室を隔膜で区分し、陽極室排出液を脱銀
したのち、陰極室に給液する高純度銅の製造方法である
。
又本発明の実施態様として、銅粉を脱銀剤とすることを
特徴とする上記記載の高純度銅の製造方法、脱銀後液を
孔径ｏ、ｉμ〜２μのが材で濾過することを特徴とする
上記記載の高純度銅の製造方法、遊離塩素が２０ｍｇ／
Ｑ〜２０ ｇｌＱ液存する電解液を用いることを特徴と
する上記記載の高純度電気銅の製造方法を提供する。
特徴とする上記記載の高純度銅の製造方法、脱銀後液を
孔径ｏ、ｉμ〜２μのが材で濾過することを特徴とする
上記記載の高純度銅の製造方法、遊離塩素が２０ｍｇ／
Ｑ〜２０ ｇｌＱ液存する電解液を用いることを特徴と
する上記記載の高純度電気銅の製造方法を提供する。
見匪立人生血腹匪
本発明で用いる電解浴は硝酸酸性浴である。硝酸の濃度
はｐＨが３以下に保持されるように調整される。好まし
くはｐＨ＝１．５〜２．０に調整される。
はｐＨが３以下に保持されるように調整される。好まし
くはｐＨ＝１．５〜２．０に調整される。
アノードは電気銅、無酸素銅等を用いる。これらの品位
は、銀が８〜１４ｐｐｍ、イオウが５〜１５ρρ■、砒
素０．２〜ＩＰＰ閣、アンチモン０．１”０．６ｐｐｍ
、ビスマス０．１〜０．５ｐｐ園、鉛０．３〜１．０ρ
Ｐ朧含むものが。
は、銀が８〜１４ｐｐｍ、イオウが５〜１５ρρ■、砒
素０．２〜ＩＰＰ閣、アンチモン０．１”０．６ｐｐｍ
、ビスマス０．１〜０．５ｐｐ園、鉛０．３〜１．０ρ
Ｐ朧含むものが。
通常である。
これらの不純物を効率的に除くためには、陽、陰極室を
隔膜で区分することが不可欠である。即ち、隔膜の主目
的は陽極の溶解によって生ずる不純物と陰極との隔離で
ある。上記不純物は沈降する固形物、懸濁する固形物及
び溶存物とに大別される。溶存不純物は電気泳動によっ
て、陰極室に到達しようとするので、隔膜を通過する陰
極室液で押し戻し排除しなければならない。従って、隔
膜の選定に当たっては通液性、給液量、溶存不純物の電
気泳動度等を考慮しなければならない。しかしながら通
常の隔膜材の場合、有孔度、孔径ともに不明の場合が多
く、実験結果によって選定する例が多い、隔膜材として
はイオン交換膜、布地、セラミック等があるが耐酸性の
布地、例えばテビロン、テトロン等の化繊布が好ましい
。
隔膜で区分することが不可欠である。即ち、隔膜の主目
的は陽極の溶解によって生ずる不純物と陰極との隔離で
ある。上記不純物は沈降する固形物、懸濁する固形物及
び溶存物とに大別される。溶存不純物は電気泳動によっ
て、陰極室に到達しようとするので、隔膜を通過する陰
極室液で押し戻し排除しなければならない。従って、隔
膜の選定に当たっては通液性、給液量、溶存不純物の電
気泳動度等を考慮しなければならない。しかしながら通
常の隔膜材の場合、有孔度、孔径ともに不明の場合が多
く、実験結果によって選定する例が多い、隔膜材として
はイオン交換膜、布地、セラミック等があるが耐酸性の
布地、例えばテビロン、テトロン等の化繊布が好ましい
。
更に１本発明の方法においては陽極排出液の脱銀が不可
欠である。脱銀方法としては。
欠である。脱銀方法としては。
■キレート樹脂塔を通過させる方法
■金属銅片充填塔を通過させる方法
等があるが、■の方法の場合、樹脂の劣化等の問題があ
るので■の方法が好ましい。
るので■の方法が好ましい。
又、塩素の添加は脱銀効率を高める。
塩素源としては塩酸、塩素ガス、塩化銅等がある。これ
らの塩素量としてはフリーの塩素が２０ｒａｇ／Ｑ〜２
０ｇ／ｌあると好ましく、より好ましくは、０．１ｇ／
Ｑ〜１．０ｇ／Ｑである。
らの塩素量としてはフリーの塩素が２０ｒａｇ／Ｑ〜２
０ｇ／ｌあると好ましく、より好ましくは、０．１ｇ／
Ｑ〜１．０ｇ／Ｑである。
又、脱銀後液を孔径０．１μ〜２μのび材（孔径は小さ
いほど好ましい）で濾過することによって不純物がより
好ましく除去できることを把握した。
いほど好ましい）で濾過することによって不純物がより
好ましく除去できることを把握した。
電流密度は０．８〜１．５Ａ／ｄ ｉｒｒで実施される
。
。
実施例１
電気銅（成分品位 Ａ ｇ ： １３．９ Ｓ ：
１１．０Ａｓ ：０．５ ｓｂ ：０．３ Ｂｉ
：０．３ Ｐｂ ：０．７ｐｐｍ）を陽極とし、Ｔｉ
板を陰極として、陽、陰極間にテトロン（ＴＲ８４５０
１商品名、北村製布（株）製）を配し両極液を区分する
隔膜とした。電解浴の流れは、陽極室より排出された不
純電解液が脱銀処理され引き続き陰極室に給液されるよ
うにした。脱銀処理は特願（６１−２６２６７０号）の
方法とし、金属銅に接触する脱銀時間即ち脱銀工程での
滞留時間は４．Ｏｈとし、隔膜回当たりの給液量は１．
６５ａｍ／ｈとした。
１１．０Ａｓ ：０．５ ｓｂ ：０．３ Ｂｉ
：０．３ Ｐｂ ：０．７ｐｐｍ）を陽極とし、Ｔｉ
板を陰極として、陽、陰極間にテトロン（ＴＲ８４５０
１商品名、北村製布（株）製）を配し両極液を区分する
隔膜とした。電解浴の流れは、陽極室より排出された不
純電解液が脱銀処理され引き続き陰極室に給液されるよ
うにした。脱銀処理は特願（６１−２６２６７０号）の
方法とし、金属銅に接触する脱銀時間即ち脱銀工程での
滞留時間は４．Ｏｈとし、隔膜回当たりの給液量は１．
６５ａｍ／ｈとした。
電解浴は、銅５０ｇ／ｎ（１０日間電解後は５４ｇ／Ｑ
となった。）硝酸浴とし、ｐＨは１．７±０．１とした
。１！解浴温は特に調整はしなかった（２２〜２７℃で
あった）。
となった。）硝酸浴とし、ｐＨは１．７±０．１とした
。１！解浴温は特に調整はしなかった（２２〜２７℃で
あった）。
電流密度は１．ＯＡ／ｄｒｒｌ’とし、陽、陰極面間距
離４０ｍで行った。連続１０日間通電後、引き上げＴｉ
板から剥がし洗浄乾燥を行って高純度電気銅を得た。得
られた電気銅の品位は表１の如くであった・ 実施例２ 循環する電解浴中の塩素濃度を塩酸添加で１００±１０
ｍｇ／Ｉｌｌとした以外は全〈実施例１同様に行って高
純度電気銅を得た。銀が実施例１より多く除去でき０．
２０ｐｐｍであった。他の成分は変化はなかった。
離４０ｍで行った。連続１０日間通電後、引き上げＴｉ
板から剥がし洗浄乾燥を行って高純度電気銅を得た。得
られた電気銅の品位は表１の如くであった・ 実施例２ 循環する電解浴中の塩素濃度を塩酸添加で１００±１０
ｍｇ／Ｉｌｌとした以外は全〈実施例１同様に行って高
純度電気銅を得た。銀が実施例１より多く除去でき０．
２０ｐｐｍであった。他の成分は変化はなかった。
実施例３
実施例２の方法において、脱銀処理後液を孔径０．２μ
のミリボアーフィルター（商品名 ミリポアー社ｍ＞で
濾過し、陰極室に給液する方法を実施した結果、銀が０
．Ｏ８ｐｐｍと極めて低い値を示しより好ましい高純度
電気銅が得られた。
のミリボアーフィルター（商品名 ミリポアー社ｍ＞で
濾過し、陰極室に給液する方法を実施した結果、銀が０
．Ｏ８ｐｐｍと極めて低い値を示しより好ましい高純度
電気銅が得られた。
見豆立羞果
以上のように本発明を実施することにより以下の効果を
得る。
得る。
（１） ９９．９９９９％以上の高純度の銅が得られる
。
。
（２）これにより得られた銅は、オーディオ用。
ビデオ配線用等に用いられ、音色あるいは画像の美しい
映像を特徴とする
映像を特徴とする
Claims (4)
- （１）予め電気分解により得られた電気銅及び又は相当
品を硝酸浴中で再電解する方法において、陽、陰極室を
隔膜で区別し、陽極室排出液を脱銀した後、陰極室に給
液することを特徴とする高純度電気銅の製造方法。 - （２）金属鋼を脱銀剤とすることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の高純度銅の製造方法。 - （３）脱銀後液を孔径０．１μ〜２μの濾材で濾過する
ことを特徴とする第１項記載の高純度銅の製造方法。 - （４）遊離塩素が２０ｍｇ／ｌ〜２０ｇ／ｌ溶存する電
解液を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の高純度電気銅の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62034434A JPS63203784A (ja) | 1987-02-19 | 1987-02-19 | 高純度電気銅の製造方法 |
| US07/080,336 US4792369A (en) | 1987-02-19 | 1987-07-30 | Copper wires used for transmitting sounds or images |
| US07/237,492 US4874436A (en) | 1987-02-19 | 1988-08-26 | Method for producing high purity electrolytic copper |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62034434A JPS63203784A (ja) | 1987-02-19 | 1987-02-19 | 高純度電気銅の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63203784A true JPS63203784A (ja) | 1988-08-23 |
| JPH034629B2 JPH034629B2 (ja) | 1991-01-23 |
Family
ID=12414115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62034434A Granted JPS63203784A (ja) | 1987-02-19 | 1987-02-19 | 高純度電気銅の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63203784A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009035797A (ja) * | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Dowa Metals & Mining Co Ltd | 銅溶解液の浄液方法及び銅の製造方法 |
| JP4750112B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2011-08-17 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | 超高純度銅及びその製造方法並びに超高純度銅からなるボンディングワイヤ |
| WO2018221724A1 (ja) * | 2017-06-01 | 2018-12-06 | 三菱マテリアル株式会社 | 高純度電気銅 |
| JP2018204103A (ja) * | 2017-06-01 | 2018-12-27 | 三菱マテリアル株式会社 | 高純度電気銅 |
| CN114293227A (zh) * | 2021-12-16 | 2022-04-08 | 虹华科技股份有限公司 | 一种航天航空用高纯铜产品的加工工艺 |
| US11753733B2 (en) | 2017-06-01 | 2023-09-12 | Mitsubishi Materials Corporation | Method for producing high-purity electrolytic copper |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6183592B2 (ja) | 2012-06-14 | 2017-08-23 | 三菱マテリアル株式会社 | 高純度電気銅の電解精錬方法 |
| CN110437880A (zh) * | 2019-08-23 | 2019-11-12 | 中国科学院广州能源研究所 | 一种新型有机固废热解气化炉 |
-
1987
- 1987-02-19 JP JP62034434A patent/JPS63203784A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4750112B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2011-08-17 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | 超高純度銅及びその製造方法並びに超高純度銅からなるボンディングワイヤ |
| JP2009035797A (ja) * | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Dowa Metals & Mining Co Ltd | 銅溶解液の浄液方法及び銅の製造方法 |
| WO2018221724A1 (ja) * | 2017-06-01 | 2018-12-06 | 三菱マテリアル株式会社 | 高純度電気銅 |
| JP2018204103A (ja) * | 2017-06-01 | 2018-12-27 | 三菱マテリアル株式会社 | 高純度電気銅 |
| CN110382743A (zh) * | 2017-06-01 | 2019-10-25 | 三菱综合材料株式会社 | 高纯度电解铜 |
| CN110382743B (zh) * | 2017-06-01 | 2022-04-08 | 三菱综合材料株式会社 | 高纯度电解铜 |
| US11753733B2 (en) | 2017-06-01 | 2023-09-12 | Mitsubishi Materials Corporation | Method for producing high-purity electrolytic copper |
| CN114293227A (zh) * | 2021-12-16 | 2022-04-08 | 虹华科技股份有限公司 | 一种航天航空用高纯铜产品的加工工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH034629B2 (ja) | 1991-01-23 |
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