JPS63201191A - １−デチア−２−チア−セファロスポラン酸の新規な誘導体、その製造方法、薬物としてのその使用、並びにそれを含有する医薬組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、１−デチアー２−チアーセファ０スポラン酸
の新規な誘導体、その製造方法、薬物としてのその使用
、並びにそれらを含有する医薬組成物に関するものであ
る。

［従来の技術］ １９８４年２月１３日付で出願された特許出願第２．５
５９，４８６号には、１−デチアー２−チアーセファロ
スポラン酸の新規な誘導体及びその塩類、その製造方法
、並びに薬物としてのその使用が記載されている。

この特許出願に記載された化合物は、一般式：［式中、
ＲはＷＲａ−Ｃ−Ｎｔ−ｆ　−（ここでＲａは有機基を
示す）又は基： Ｒｉ＼ Ｎ−ＣＨ＝Ｎ−（ここでＲ１及びＲｊはＲｊ′ 同−若しくは異なるものであって水素原子又は脂肪族若
しくは芳香族炭化水素基、複素環式基を示し、又はＲ１
及びＲｊはこれらが結合している窒素原子と一緒になっ
て適宜置換された環式基を示す）又は基Ｒｂ−ＮＨ−（
ここでＲｂは適宜置換された炭素環式若しくは複素環式
アリール基を示し）のいずれかを示し、 Ｒ１は： （ａ）基−Ｚ−Ｒ２（ここでＲ２は適宜置換され又は異
原子により中断されたアルキル、アルケニル若しくはア
ルキニル基でありかつＲは適宜酸化された硫黄原子、セ
レン若しくは酸素原子又は−ＮＨ−を示す）、 （ｂ）基Ｚａ−Ｒ３基（ここでＲ３は適宜置換された炭
素環式若しくは複素環式アリール基又は適宜置換された
第四アンモニウム基を示し、かつＺａはメチレン基、硫
黄、セレン若しくは酸素原子又は−Ｎ　Ｈ−を示すか又
はＺａは単結合を示し、或いはＺａは−Ｃｆ−１２−３
−基を示す）、 （Ｃ）２〜８個の炭素原子を有し適宜置換され又は異原
子により中断されたアルキル、アルケニル若しくはアル
キニル基、 （ｄ）ハロゲン原子、ニトリル、アジド、チオシアナト
若しくはイソチオシアナト基、（ｅ）アジドメチル、ア
ミノ又はモノ−若しくはジー置換されたアミノメチル、
チオシアナトメチル、イソチオシアナトメチル又はカル
バモイルオキシメチル基 のいずれかを示し、 Ｒ４は水素原子又はメトキシ基を示し、Ａは水素原子、
又はアルカリ金属、アルカリ土類金属、マグネシウム、
アンモニウム又はアミノ化有機塩基の当けを示し、又は
Ａはエステル基を示し又はＣ０２Ａは−ＣＯ２−基を示
し、ｎ２はＣ１１若しくは２の整数を示す］に対応する
。

上記一般式に対応する化合物は、ラセミ型又は光学活性
型で提供することができる。

［発明が解決しようとする課題］ 本出願人は、今回、特定種類のこれら化合物が特に興味
ある薬理学的性質を示すことを突止めた。

［課題を解決するための手段］ したがって、本発明の主題は、一般式（１）：は有機基
を示す） または基Ｒｉ＼ Ｎ−Ｃｌ−１＝Ｎ−（ここでＲ１及 Ｒｊ′ びＲｊは同−若しくは異なるものであって水素原子、脂
肪族若しくは芳香族炭化水素基又は複素環式基を示し、
又はＲｉ及びＲｊはこれらが結合している窒素原子と一
緒になって適宜置換された環式基を示す） 又はＲｂ−ＮＨ−基（ここでＲｂは適宜置換された炭素
環式若しくは複素環式アリール基を示す）のいずれかを
示し、 ＲｌＢは基： （−ＣＨ＝ＣＨ−）　　　ＣＨ２−３−Ｒｍを示し、こ
こでｎｌはＯ若しくは１の数値を示しかつＲｍは陽帯電
しかつ二重結合した窒素原子を含みかつ炭素原子により
硫黄原子に結合した不飽和基を示し、 Ｒ４は水素原子又はメトキシ基を示し、Ａは水素原子又
はアルカリ金属、アルカリ土類金属、マグネシウム若し
くはアンモニウムの当償又はアミン化有機塩基の当」を
示すか、又はＡはエステル基を示し、又はＣ０２ＡはＣ
０２−塁を示し、 ｎ２はＣ１１若しくは２の整数を示す］に対応する化合
物、並びに式（Ｉ＞の化合物と鉱酸若しくは有機酸との
塩類である。

式（Ｉ）を有する化合物は、ラセミ型又は光学活性型で
提供することができる。

Ｒの種類としては、本発明の主題である化合物の第１の
種類においてＲが式： ％式％ ［式中、Ｒａは有機基を示す］ を有するアシルアミノ基を示す化合物で構成される。

Ｒａの種類としては次のものを挙げることができる： Ａｒ−ＣＩ＋２−Ｓ−；　Ａｒ−？− ［式中、Ａｒは適宜上ノー若しくはポリ−置換されたフ
ェニル基又は５個、６個若しくは７個の結合を有しかつ
硫黄、酸素若しくは窒素から選択される１〜４個の異原
子を含む芳香族複素環式基を示し、 ｎはＯ〜４の整数を示し、 Ｒ５はアミノ、ヒドロキシル、アジド、ヒドラジノ、（
遊離、エステ化若しくは塩形成された）カルボキシル、
（遊離若しくは塩形成された）スルホ、スルホアミノ、
ハロゲン、アルキルヒドラジノ、フェニルヒドラジノ又
はホルミルオキシ基を示すことができる］ を挙げることができる。

フェニル又は複素環式基の置換基としては、ハロゲン原
子及び０１〜４アルキル、Ｃ１〜４アルコキシ及びＣ１
〜４アミノアルキル基を挙げることができ、好ましくは
アミノメチル基、ヒドロキシル、ニトロ、アミン、トリ
フルオロメチル若しくはシアンが挙げられる。

複素環式芳香族基としてはチアゾリル、フリル、チェニ
ル、ピロリル、ピリジニル、ピラジニル、モルホニル及
びデトラゾリル基を挙げることかできる。

フリル、アミノチアゾリル、アミノハロチアゾリル、ア
ミノチアジアゾリル及びアミノピラミジニル基が好適で
ある。

（２）Ｒａはざらにアルキル、シクロアルキル、アルキ
コシ、アルケニル若しくはシクロアルケニル基を示すこ
ともでき、これらの基のそれぞれはさらに適宜たとえば
アルキルチオ又はシアノアルキルチオ、メルカプト、ニ
トロ、シアノ若しくはアミンのような１個若しくはそれ
以上の基によりモノ−若しくはポリ−置換することがで
きる。

（３）Ｒａはさらに基： ハ ゝ、 を示すこともでき、ここでＲＣはＡｒと同じ定義を有し
、Ｒｃに対する好適な種類としては特に２−アミノ−４
−チアゾリル；２−アミノ−５−二ト（コ、−５−クロ
ル、−５−フルオロ若しくは−５−ブロモデアゾリル：
５−アミノ−１，２，４−チアジアゾリル、−４−チア
ゾリル、−２−チェニル若しくは−２−フリルを挙げる
ことができ、Ｒｄは水素原子、アシル、アリール、ヘテ
ロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキ
ル、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロア
ルケニル若しくはアルキニルを示すことができ、これら
は適宜置換されかつ適宜酸素又は適宜酸化された硫黄原
子により中断することもでき、或いはＲｄは適宜置換さ
れたカルバモイル基を示すこともできる。

Ｒａ基の置換基としてはアルキル、ハロゲン、アシル、
シアノ、カルバモイル ヒドロキシ、メルカプト、アルキルチオ及びアルコキシ
基、並びに遊離、エステル化若しくは塩形成したカルボ
キシル基を挙げることができる。

Ｒｄの種類としては水素、アルキル、アルケニル、必要
に応じ環式のアルキニル、アリール、モノ−若しくはポ
リ一環式ヘテロアリール基、特に次の基： ツ２ｎＪ　／　＠−Ｃ）！２−０）−Ｎｏ□−、−Ｃ）
＋２−ＣＨ２−ＮＨ２，−ＣＨ２，−ＣＦ２−Ｃｏ２Ｈ
。

を挙げることができる。

Ｒｄの種類としてはメチル、水素、エチル、アリル、１
−メチル−１−カルボキシエチル、カルボキシメチル又
はジフルオロメチルか好適で必る。

（４）　ざらに、Ｒａは基： Ｒ１！−Ｃ１ｌ− と、。

ｆ を示すこともでき、ここでＲｅはＡｒと同じ意味を示す
ことができる。未置換のフェニル基が好適である。

Ｒｆは適宜置換されたアルキル基又は基ニーＮ＝ＣＨ−
Ｒｇ（ここでＲＱはＲａにつき上記したと同じアリール
基を示すことができる〉を示すことができる。Ｒｆはエ
チル、フェニル若しくはフリル基であることが好ましい
。

（５）さらに、Ｒａは基： １’ＪＨ と４゜ を示すこともできる。ここでＲｈはＡｒにつき示した基
を有することができ、Ｒｋは基：とすることができ、こ
こでＲｉは水素原子、アルキルスルホニル又は−Ｎ＝Ｃ
Ｈ−Ｒｍとすることができ、ＲｍはＡｒと同じ意味を有
し、特にフリルであり、Ｒｋは適宜置換されたアリール
基、たとえばカルボキシルにより置換されたイミダゾリ
ル基とすることができ、ざらにＲｋは置換アミン基、た
とえばアシルアミド（たとえばＮ−メチルベンゾイルア
ミド）若しくはフリルカルボニル又は適宜置換されたヘ
テロ環により置換されたアミノを示すこともでき、さら
にＲｋは適宜置換されかつ縮合したアリール基を示すこ
ともでき、またＲｋは適宜置換されたアラルキル基を示
すこともできる。

この第１の種類の化合物において、Ｒａは次の意味を有
するものが好適である： 他の種類のＲとして本発明の主題である第２の種類の化
合物は、Ｒが基： Ｒｉ＼ Ｎ−）−ＩＣ＝Ｎ− Ｒｊ／ ［式中、Ｒｉ及びＲｊは同−若しくは異なるものであっ
て水素原子又は１〜８個の炭素原子を有するアルキル基
を示し、又はＲ１及びＲｊはこれらが結合している窒素
原子と一緒になって適宜置換された環式アミンを示す］ を示す化合物により好適に構成される。

Ｈ１Ｎ 好ましくは基　　　　Ｎ−は基： Ｒｊ／ 〇−若しくは（）−又はＨ２Ｎ−（ＣＩ＋２）コー０１
−を示す。

他の種類のＲとしては、本発明の主題である第３の種類
の好適化合物は、Ｒが基Ｒｂ−ＮＨ−を示し、ここでＲ
ｂが適宜置換された炭素環式若しくは複素環式アリール
基を示すような化合物によって構成される。これら好適
種類のＲとしては次の基を挙げることができる： 式中、Ｒｐは１〜４個の炭素原子を有するア　ルキル基
、好ましくはメチル、エチル、イソプロピル、異原子に
より適宜中断されたたとえばメトキシメチル、１個若し
くはそれ以上ハロゲンにより適宜置換されたたとえばト
リクロルエトキシメチル若しくはトリフルオロエトキシ
メチル、たとえばエトキシのようなアルコキシを示す。

ざらに、Ｒｐはたとえばベンジル若しくはフェニルエチ
ルのようなアリールアルキル基を示すこともでき、これ
らはたとえばメチルのようなアルキル基、メトキシのよ
うなアルコキシ、シアン、たとえば弗素のようなハロゲ
ンにより適宜置換することができる。ざらに、Ｒｐはフ
ルフリル又は適宜置換されたフェニルメトキシメチル基
を示すこともできる。

ＲＱは水素原子又は１〜４個の炭素原子を有するアルキ
ル基（たとえばメチル）又はたとえばメトキシカルボニ
ル若しくはｔ−ブトキシカルボニルのようなアルコキシ
カルボニル基を示すことができる。

これらＲにつき好適な基としては次のものかあＲｍは陽
帯電しかつ二重結合した窒素原子を含む不飽和基を示し
、前記の基はこの基が含む炭素原子の１個を介して硫黄
原子に結合される。

Ｒｍの種類としては、陽帯電した窒素原子を含む複素環
式基を挙げることができる。この基は単環又は縮合環と
することができる。好ましくは、これは芳香族基である
。ざらに線状基、たとえば：を挙げることもできる。

複素環式基としては、ピリジル基を挙げることができ、
これは適宜１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、た
とえばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、５ｅＣ−ブチル、ｔ−ブチル、アルコキシ基、たと
えばメトキシ、エトキシ、ハロゲン原子、たとえば臭素
、塩素、沃素若しくは弗素、カルボキシアルキル基（適
宜エステル化される）又はカルバモイル基から選択され
る１個若しくはそれ以上の基により置換され、ざらに晟
畠４個までの炭素１５ハ子をイ：ｉす°るチオアセチル
アルキル キル、シアノアルキル、アルグ°ニル、たとえばアリル
、アルキルブＡアルキル及びチオアルキル及びチーΔア
ルニ１ニル基を挙げることができる，。

複素環式基としては次のものを挙げることができる：ビ
τ二１リル、オニ１；サゾリル、チアゾリル、イミダゾ
リル、ピラゾリル、ｌ〜リアゾリル、テトラゾリル、ピ
リダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ギルイニル、
イソギルイニル、ジノリニル、キナゾリニル、ピリジノ
［１．２−ａｌピリミジニル、並びに部分水素化された
Ｍ４Ｑ？Ａｓたとえばジヒド「コー若しくはデトラヒド
ロー・ピリジル。

」−記した基は、さらにピリジル基につぎ示した１個若
しくはそれ以上の基によつ゛て置換することもできる。

Ｒｍ−の種類としては次のものが好適である：Ｃ＝Ｓ Ａの種類としては当伊のナトリウム、カリウム、リチウ
ム、カルシウム、マグネシウム、アン゛しニウム又は有
機塩基を挙げることができる。有機塩基としては次のも
のを挙げることができる：メチルアミノ、プに１ビルア
ミン、１〜リメブールう７ミン、ジエチルアミン、１〜
リエヂルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、
トリス（ヒドロキシメチルアミノメタン、エタノールア
ミン、ピリジン、ピコリン、ジシクロヘキシルアミン、
モルホリン、ベンジルアミン、プロ力イン、リジン、ア
ルギニン、ヒスデシン、Ｎ−メチルグルカミンＡが示し
うる他の種類の容易に開裂しうるエテスル基としては、
次の基を挙げることができる：メトキシメチル、エトキ
シメチル、イソプロピルオキシメチル、α−メトキシエ
チル、α−エトキシエチル、メチルチオメチル、エチル
チオメチル、イソプロピルチオメチル、ピバロイルオキ
シメチル、アセトキシメチ、ル、プロピオニルオキシメ
チル、プチリルオキシエチル、インブチリルオキシメチ
ル、バレリルオキシメチル、イソバレリルオキシメチル
、ｔ−ブチル−カルボニルオキシメチル、ヘキサデカノ
イルオキシメチル ルオキシエチル、イソバレリルオキシエチル、１−アセ
チルオキシブチル、１−プロピオニルオキシエチル、１
−ブチリルオキシエチル、１−ｔーブチルカルポニルオ
キシエエチ、１−アセデルオキシプロピル、１−ヘキ→
〕゛デカノイルオキシエチル、１−プロピオニルオキシ
プロピル、１−メＩ〜キシカルボニルオキシエチル、メ
１〜キシカルボニルオキシメチル、１−アセチルオキシ
ブチル、１−アセチルオキシへキシル、１−アセチルオ
キシへブチル、フタリジル、５，６−シメトキシフタリ
ジル、ｔ−ブチルカルボニルメチル、アリル、２−クロ
ルアリル、メトキシカルボニルメチルベンジル若しくは
ｔ−ブチル。

Ａが示しうる他の種類のエステル基としては、ざらに次
の基を挙げることができる：メトキシエトキシメチル、
ジメチルアミノエチル、シアノメチル、ｔ−ブチルオキ
シカルボニルメチル２、２−エチレンジオキシエチル、
シアノエチル、２、２−ジメトキシエチル、２−クロル
エ１〜キシーメチル、２−ヒドロエトキシエチル、２，
３−エポキシプロピル、３−ジエチルアミン、２−ヒド
ロキシプロピル、２−ヒドロキシエチル、２−メチルア
ミノエトキシメチル、２−アミノーエ１〜キシメチル、
３−メトキシ−２，４−デアジアゾール−５−イル、２
−テトラヒドロピラニル、２−メ１〜キシプロプー２−
イル、′１−ヒドロキシプロプー２−イル、イソプロピ
ル、カルバモイルエチル、クロルメチル、２−クロルエ
チル、アセチルメチル、２−エチルチオエチル若しくは
チオンアナ１−メチル。

Ａが示しうる他の種類のエステル基としては、ざらに次
の基を挙げることができる：２−クロルー１−アセチル
オキシエヂル、２−ブロモ−１−アセチルオキシエチル
、２−フルオロ−１−アセチルオキシエチル、２−メト
キシ−１−アセチルオキシエチル、２−メチル−１−ア
セチルオキシプロピル、２−アセチルオキシプロプ−２
−イル、１−メトキシアセチルオキシエチル、１−アセ
チルカルボニルオキシエチル、１−ヒドロキシアセチル
オキシエチル、１−ホルミルカルボニルオキシエチル、
１−（２−チェニル）カルボニルオキシエチル、１−（
２−フリル）カルボニルオキシエチル ニルオキシエチル、１−（２−ピロリル）カルボニルオ
キシエチル、１−（プロピオニルオキシカルボニルオキ
シ）エチル、１−（プロピルオキシカルボニルオキシ シカルボニルオキシ ルオキシカルボニルオキシ）エチル、１−（メトキシエ
トキシカルボニルオキシ （アリルオキシカルボニルオキシ （２，３−エポキシ）プロピルオキシカルボニルオキシ
エチル 力ルポニルオキシエチル、１−（２−フルオロ）エチル
オキシカルボニルオキシエチル トキシカルボニルオキシ）プロピル、（２−メトキシカ
ルボニルオキシプロプ− トキシカルボニルオキシ）−クロルメチル、１−（メト
キシカルボニルオキシ ル、１−（メトキシカルボニルオキシ）−２−メトキシ
エチｌし、１−（メトキシカルボニルオキシ）−１−ア
リル。Ａはさらに基： を示すこともできる。

式（Ｉ）を有する化合物は、ざらに有機酸若しくは鉱酸
の塩類として提供することもできる。

化合物（１）のアミノ基又は第四アンモニウム基を塩生
成させうる酸としては、特に次のものを挙げることがで
きる：酢酸、トリフルオロ酢酸、マレイン酸、酒石酸、
メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、蟻酸、燐
酸、硫酸、塩酸、臭化塩素酸、沃化水素酸。

Ａの種類としては特に式： ％式％ を有するエステル基を挙げることができ、上記式中８は
水素原子又は線状若しくは分枝鎖かつ適宜置換された１
〜５個の炭素原子を有するアルキル基を示し、Ｄは線状
若しくは分枝鎖の適宜置換された１〜１５個の炭素原子
、特に１〜５個の炭素原子を有するアルキル若しくはア
ルコキシ基を示し、持にＢが水素原子又はメチル若しく
はエチル基を示すエステル基を示し、かつＤはメチル、
エチル、メトキシ若しくはエトキシ基を示す。

Ａの種類としてはざらに基ニ 一ＣＨ２−Ｃ＝ＣＨＲＶ ｘ を挙げることもでき、ここでＲＸは水素、アルキル（特
にメチル及びエチル）、ハロゲン（特に塩素）を示しか
つＲｙは水素、ハロゲン、アリール、（特にメチル、エ
トキシ若しくはハロゲンにより置換されたフェニル）を
示し、又はＲｙはアシルオキシ、アルコキシカルボニル
若しくはハロゲンによって適宜置換されたアルキルを示
す。

Ａの種類としてはざらに基： ＲＸは上記した意味を有しかつａ　Ｉ　ｋｌ及びａ　Ｉ
　Ｒ２は同−若しくは異なるものであって１〜４個の炭
素原子を有するアルキル基を示す。

式（Ｉ）を有する化合物のうち、本発明の主題は特に式
（Ｉ’　　）： ［式中、Ｒ′は水素原子又は最高６個の炭素原子を有し
、適宜置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル若
しくはシクロアルキル基又はアリール基を示し、Ｒ′□
は！宜置換され部分水素化され又は縮合環の１部を形成
すると共に炭素原子により硫黄原子に結合したピリジニ
ウムｉを示し、Ｙはメチン基若しくは窒素原子を示しか
つＡは上記の意味を有する］ に対応するｓｙｎ異性体である上記の化合物である。

式（ｆ′　）を右する上８部化合物のうら、［＜′が水
素原子又は適宜カルボキシ、カルバモイル、ニトリル、
メチルチオ若しくはメ！・キシ培にＪζり置換されたメ
チルもしくはイソプロビル塁、フルＡ１：１メｆ−ル、
ジフルオロメチル基しくは１〜リフルオロメブ・７１塁
、フェニル基、カルボキシ基により適宜置換されたシク
ロブチル若しくはシクロプロピル基、適宜塩素若しくは
臭素原子により置換されたアルキル基、適宜たとえば臭
素元素のようなハ１］ゲン原子により置換されたプロペ
ニル基又はシフ［１プロピルメチル基を示すような化合
物が好適である。

特に、本発明の主題は、式（１”）： ［式中、Ｒ”はメチル、フルオロメトキシしくはジフル
オロメチル基を示し、”’ｍは基：ρ 素原子を有するアルキル基を示し、Ｒ４は水素原子、又
は１〜４個の炭素原子を有するアルキル若しくはアルキ
ルチオ基を示ず）を示し、この基Ｒ”、、は位置２若し
くは４により硫黄原子に結合され、かつＡは上記の意味
を有する］に対応する上記の化合物である。

好適化合物としては後記実施例に記載したもの、特に次
の化合物を挙げることができる：（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ
）４−［［［７−［［（２−アミノ−４−デフ１１人ル
）−［（ジフルオロメトキシ）イミノ］−アセチル］−
アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−１
°−アザビシクロ［４，２，０１オクト−２−エン−３
−イル］メチル丁チオ］−１−メチル　ピリジニウム、
（６３）（７Ｓ）（Ｚ）４−　［［［７−［［（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−［（フルオロメトキシ）イミ
ノ］−アセチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オ
キソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，０］オク
１−−２−エン−３−イル］エチル］チオ］−１−メチ
ル　ピリジニウム、（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）２−　［［
［７−［［（２−アミノ−４−チアゾリル）−［（フル
オロメトキシ）イミノ］−アセチル］−アミノ］−２−
カルボキシ−８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ
ｆ４．２．０］オクト−２−エン−３−イルコメチル］ チオ］−１−メチル　ピリジニウム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−［［［７−［［２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシ）イミノ］
−アセチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ
−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，０］オクト−
２−エン−３−イル］−メチル］チオ］−１−エチル−
３−メチル　ピリジニウム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−　［［［７−［［２−（２
−アミノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシ）イミノ
］−アセチル］−アミノ］−２−カルホキシー８−オキ
ソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，０１オク１
−−２−エン−３−イル］−メチル］チ、４−］−１−
エヂルー３−エチル　ピリジニ【クム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−　［［［７−［［（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）　（メトキシ）イミノ］−アセ
チル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−
チア−１７，アザビシクロ［４，２゜０］オクト−２−
エン−３−イル］−メチル］チオ］−１−メチル　ピリ
ジニウム、 （６Ｓ）（７３）（Ｚ）４−［［［７−［［２−（２−
アミノ−４−チアゾリル）　（メトキシ）イミノ］−ア
セチル′］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−
４−チア−１−アザビシクロ［４゜２．０］オクト−２
−エン−３−イル］−エチル］チオ］−１−メチル−５
，６−ジヒドロ　ピリジニウム、 である分子内塩又は鉱酸若しくは有機酸との塩の形態で
ある上記の化合物。

待に、本発明はその主題として次の化合物である： （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−　［［［７−［［（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−［（ジフル第１コメ１−キシ
）イミノ］−アセチル］−アミノ］−２−カルボキシ−
８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，０
］オクト−２−エン−３−イル］メチル］チオ］−１−
メチル　ピリジニウムである分子内塩若しくは鉱酸若し
くは有ｔｍＭとの塩の形態でおる上記の化合物。

さらに本発明は、その主題として、式（Ｖｌ’）：［式
中、Ｒ，Ｒａ　、Ａ、ｒＮ及びｎ２は上記の意味を有し
、かつＸはハロゲン又はプソイドハロゲン原子を示す］ を有する化合物を、式（■）　： ＲＡＭＣ８（■） ［式中、ＲＡＭは基Ｒｍの残塁を示し、ここで窒素原子
は単純な非極性結合により結合されている］ を有する化合物で処理し、かつ必要に応じ又は所望によ
り得られた化合物を次の反応： （ａ）加水分解、水添分解による又は保護基の全部又は
一部に対するチオ尿素の作用による切断；（ｂ）カルボ
キシ若しくはスルホ基の塩基によるエテスル化若しくは
塩形成； （Ｃ）アミノ基の酸による塩形成： （ＣＩ＞光学活性物質を得るための分子の分割；（ｅ）
インセフェム環の位＠２における硫黄原子の酸化 のいずれか１つ若しくはそれ以上に任意の順序でかける ことを特徴とする上記一般式（Ｉ＞を有する化合物の製
造方法である。

置換基Ｘはたとえば塩素若しくは沃素のようなハ「１ゲ
ン原子を示すことができ、ざらにこれはたとえば１〜シ
ルオキシのようなプソイドハロゲンを示すこともできる
。式（■）を有する化合物において、ＲＡ　Ｍは堪Ｒｍ
を硫黄原子に結合させる炭素原子が便宜上記載から除去
された基Ｒｍの残塁を示ず。基ＲＡＭにおいて、窒素原
子は単結合により結合されかつ非極性である。

たとえば、Ｒｍが基２−若しくは４−メチルピリジニウ
ム： 式（Ｖｌ’）の化合物に対する式（■）の化合物の作用
は、好ましくはたとえばアセトニトリル若しくは塩化メ
チレンのような溶剤において竿部で行なわれる。

除去することが望ましい保護基を得られた化合物が有す
る場合には、これら化合物を１種若しくはそれ以上の加
水分解剤若しくは水添分解剤により或いはチオ尿素にＪ
：り処理する。

これら全ての場合に用いる試薬の性質は当業者に周知さ
れている。これら反応の例を、後記実験の部で示す。

限定はしないが、種々異なる基を除去すべく操作しうる
手段につき以下に示す。

酸加水分解は、好ましくは適宜置換されたアルコキシ及
びシクロアルコキシカルボニル基（たとえばｔ−ペンチ
ルオキシカルボニル若しくは１−ブチルオキシカルボニ
ル）、適宜置換されたアラルコキシカルボニル基（たと
えばベンジルオキシカルボニル）、トリチル、ベンズヒ
ドリル、ｔ−ブチル若しくは４−メトキシベンジル基を
除去するために使用される。

好適に使用される酸は塩酸、ベンゼンスルホン酸若しく
はパラトルエンスルホン酸、＠酸又はトリフルオロ酢酸
よりなる群から選択することができる。しかしながら、
他の無機酸若しくは有機酸も使用することができる。

塩基性ｈｎ水分解は、たとえば１〜リフルオロアレデル
阜のようなアシル基を除去するために好適に使用される
。

好適に使用される塩基は、たとえば水酸化ナトリウム若
しくはカリウムの水酸化物のような無機塩基である。ざ
らにマグネシア、バッタ又はアルカリ金属の炭酸塩若し
くは酸性炭酸塩、たとえばナトリウム若しくはカリウム
の炭酸塩又は酸性炭酸塩、或いはその他の塩基をも使用
することができる。

酢酸ナトリウム若しくはカリウムも使用することができ
る。

ヒドラジンを用いる加水分解は、たとえばフタロイル基
のような基を除去するために好適に使用される。

亜鉛−酢酸系により成る種の基を除去することもできる
（たとえばトリクロルエチル基）。ベンズヒドリル及び
ベンジルオキシカルボニル基は、触媒の存在下に水素に
よって好適に除去される。

クロルアセデル基は、マサキによりＪ、Ａ、Ｃ。

Ｓ９、第９０巻、第４５０８頁（１９６８）に記載され
た種類の反応にしたがい中性若しくは酸性の媒体中にて
チオ尿素の作用により除去される。

文献から公知の他の保護解除法も用いることができる。

好適基としてはホルミル、アセチル、エトキシカルボニ
ル ロルアセチル及びトリチル基を挙げることができる。ト
リチル及びクロルアセチル基が特に好適である。

好適に使用される酸はトリフルオロ酢酸である。

化合物の塩生成は常法によって行なうことができる。

たとえば、塩生成は酸型における化合物に対し或いは溶
媒和物（たとえばエタノール溶媒和物）又はこの酸の水
和物に対し、たとえば水酸化ナトリウム若しくはカリウ
ム或いはナトリウム若しくはカリウムの炭酸塩若しくは
酸性炭酸塩のような無機塩基を作用させて行なうことが
できる。たとえば燐酸三ナトリウムのような無機酸の塩
も使用できる。有機酸の塩類も使用することができる。

有機酸としては１〜１８個、好ましくは２〜１０個の炭
素原子を有する線状若しくは分枝鎖、飽和若しくは不飽
和の脂肪族カルボン酸のすＩ〜リソウ璃を挙げることが
できる。これら脂肪族基は、たとえば酸素若しくは硫黄
のような１個若しくはそれ以上の異原子により中断する
ことができ、或いはたとえばフェニル、チェニル、フリ
ルのようなアリール基により、或いは１個若しくはそれ
以上のヒドロキシル基により、或いはたとえば弗素、塩
素若しくは臭素、好ましくは塩素のような１個若しくは
それ以上のハロゲン原子により、或いは１個若しくはそ
れ以上のカルボキシル基若しくは低級アルコキシカルボ
ニル基、好ましくはメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル若しくはプロピルオキシカルボニルにより、或い
は１個若しくはそれ以上のアリールオキシ基、好ましく
はフェノキシにより置換することもできる。

ざらに、充分可溶性の芳香族酸類、たとえば好ましくは
低級アルキル基により置換された安息香酸を有機酸とし
て使用することもできる。

これら有Ｉｌｉ酸の例としては次のものを挙げることが
できる：蟻酸、酢酸、）７クリル酸、酪酸、アジピン酸
、イソ酪酸、ｎ−カプロン酸、イソカプロン酸、クロル
プロピオン酸、クロＩ〜ン酸、フェニル酢酸、２−チェ
ニル酢酸、３−チェニル酢酸、４−エチルフェニル酢酸
、グルタル酸；ざらにアジピン酸のモノエチルエステル
、並びに次の酸類：ヘキサン酸、ヘプタン酸、デカン酸
、オレイン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、３−ヒド
ロキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−
メチルチオ酪酸、４−クロル酪酸、４−フェニル酪酸、
３−フェノキシ酪酸、４−エチル安息香酸、１−プロピ
ル安息香酸。

しかしながら、ナトリウム塩としては酢酸塩、２−エチ
ルヘキサン酸塩又はジエチル酢酸塩を使用するのが好ま
しい。

ざらに塩生成は、たとえば１〜リエチルアミン、ジエチ
ルアミン、トリメチルアミン、プロピルアミン、Ｎ、Ｎ
−ジメチル−エタノールアミン、トリス（ヒドロキシメ
チル）アミノメタン、メチルアミン、エタノールアミン
、ピリジン、ピコリン、ジシクロヘキシルアミン、モル
ボリン及びベンジルアミンのにうな有機塩基を作用させ
て行なうこともできる。

ざらにアルギニン、リジン、プロ力イン、ヒスチジン又
はＮ−メチルグルカミンの作用によって行なうこともで
きる。

この塩生成は、好ましくは溶剤中にて又はたとえば水、
エチルエーテル、メタノール、エタノール若しくはアセ
トンのような溶剤の混合物で行なわれる。

塩は、用いる反応条件に応じて非晶質として又は結晶型
として得られる。

結晶した塩類は、好ましくは遊離酸を上記脂肪族カルボ
ン酸の塩の１種、好ましくは酢酸ナトリウムと反応させ
て製造される。

無機酸若しくは有機酸による化合物の塩生成は通常の条
件下で行なわれる。

これら化合物の適宜のエステル化は、標準条件上で行な
われる。一般に操作は、式（Ｉ）の酸を式： ［式中、Ｚはヒドロキシル基又はたとえば塩素、臭素若
しくは沃素のようなハロゲン原子を示し、かつＲ５は限
定しないが上記したような導入すべきエステル基を示す
］ を有する誘導体と反応させて行なわれる。成る種の場合
、エステル化はアミンの保護基を除去する前にアミンが
保護されている化合物につきエステル化を行なうのが有
利でおる。

一般式（Ｉ＞を有する化合物の可能な分割は、たとえば
酒石酸、ジベンゾイル酒石酸、カンホースルホン酸若し
くはグルタミン酸などの光学活性カルボン酸若しくはス
ルホン有機酸により行なうことができ、このように得ら
れた塩の分解はたとえば重炭酸ナトリウムのような無機
塩基或いはたとえば第三アミン（たとえばトリエチルア
ミン）などの有機塩基によって行なわれる。さらに、光
学活性の塩基も使用することができる。

式（１）を有する化合物の適宜の酸化は、酸素、過酸化
物、ヒドロ過酸化物、過酸又は過酸化水素によって行な
うことができる。反応は有利には光によって促進させる
。これらの試薬は、有機酸若しくは無機酸と混合するこ
とができる。メタクロル過安息香酸を用いるのが好適で
おる。反応条件は当業者に知られている。これらの条件
は、たとえばフランス特許第２．３８７．２３４号公報
に示されている。

一般式（Ｉ＞を有する化合物並びにその医薬上許容しう
る塩類は、たとえばスタフィロコッカス、ストレプトコ
ッカス、ストレプトコッカスのようなダラム（＋）細菌
、特にペニシリン耐性のスタフィロコッカスに対し極め
て良好な抗菌活性を有する。ダラム（−）菌、特にコリ
ホルム細菌、タレブシエラ、サルモネラ及びプロテウス
に対するその効果は特に顕著である。

これらの性質は、前記化合物を敏感に菌による感染の処
理、特にたとえばスタフィロコッカス・セプチセミア、
悪性顔面若しくは皮膚炎、化膿性皮膚炎、腐敗性若しく
は化膿性外傷、炭痘病、結合組織炎、丹毒症、急性の原
始的若しくは感染後の皮膚炎、気管支肺炎、肺炎などの
スタフィロコッカス病を治療する際に薬物として使用す
るのに好適にする。

さらに、これらの化合物は大腸菌病及び関連する感染の
治療、プロテウス、クレブシェラ及びサルモネラによる
感染、並びにダラム（−）菌により引起こされる他の感
染を治療する際に薬物として使用することもできる。

したがって本発明は、ざらにその主題として、上記式（
Ｉ）を有する化合物並びにその医薬上許容しうる酸との
塩類からなる薬物、特に抗菌性薬物をも有する。

特に本発明は、その主題として、式（Ｉ’　）：［式中
、Ｒ′は水素原子又は最高６個の炭素原子を有し適宜置
換されたアルキル、アルケニル、アルキニル若しくはシ
クロアルキル基又はアリール基を示しＲ’　ｍは適宜置
換され、部分水素化され又は縮合環の１部を形成すると
共に炭素原子により硫黄原子に結合したピリジニウム基
を示し、Ｙはメチン基若しくは窒素原子を示し、かつＡ
は上記の意味を有する］ に対応するｓｙｎ異性体である上記化合物からなる薬物
、特に抗菌性薬物でおる。

これら化合物のうち、本発明は特にその主題として、式
（Ｉ”）： ［式中、Ｒｎはメチル、フルオロメチル若しく素原子を
右ブ°るアルキル基を示し、［で５は水素原子、又は１
〜４個の炭素原子を有するアルキル若しくはアルキルチ
オ基を示す）を示し、このｕ　Ｒ□は位置２若しくは４
により硫黄原子に結合され、かつＡは上記の意味を有す
る］を有する上記の化合物からなる薬物、特に抗菌性薬
物でおる。

特に、本発明はその主題として後記実施例に記載する化
合物、特に次の化合物： （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−　［［［７−［［（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−［（ジフルオロメトキシ）イ
ミノ］−アセチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−
オキソ−４−チア−１−アザどシクロ［４，２，０］オ
クト−２−エン−３−イル］メチル］チオ］−１−メチ
ル　ピリジニウム、６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−　［［［
７−［［（２−アミノ−４−チアゾリル）−［（フルオ
ロメトキシ）イミノゴーアセチル］ 一アミノ］−２−カルボキシー８−オキソ−４−チア−
１−アザビシクロ［４，２，０］オク１へ−２−エン−
３−イルコメチル、］］チオココ１−メチルピリジニウ
ム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）２−　［［［７−［［（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）−［（フルオロメトキシ）イミ
ノ］−アセチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オ
キソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，０］オク
ト−２−エン−３−イル］メチル］チオ］−１−メチル
　ピリジニウム、（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−　［［［
７−［［２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（
メトキシ）イミノ］−アセチル］−アミノ］−２−カル
ボキシ−８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［４
，２，０］オクト−２−エン−３−イル］−メチル］チ
オ］−１−エチル−３−メチル　ピリジニウム、 （６３）（７Ｓ）（Ｚ）４−　［［［７−［［２−（２
−アミノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシ）イミノ
］−アセチル］−アミノ〕−２−カルボキシ−８−オキ
ソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，０］オクト
−２−エン−３−イル］−メチルコチオ］−１，３−ジ
メチル　ピリジニウム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−　［［［７−［［（２−ア
ミノ−４−デアゾリル）　（メトキシ）イミノ］−アセ
チル１−アミノコ−２−カルボキシ−８−オキソ−４−
チア−１−アザビシクロ［４，２゜０］オクト−２−エ
ン−３−イル］−メチル］チオコー１−メチル　ピリジ
ニウム、 （６３）（７Ｓ）（Ｚ）４−　［［［７−［［２−（２
−アミノ−４−チアゾリル）　（メトキシ）イミノ］−
７セチルコーアミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−
４−チア−１−アザビシクロ［４゜２．０］オクト−２
−エン−３−イルコーメチル］チオ］−１−メチル−５
，６−ジヒドロ　ピリジニウム、 である分子内塩又は無機酸若しくは有ｉ酸との塩の形態
である上記化合物からなる薬物、特に抗菌性薬物である
。

本発明は、活性成分として上記薬物の少なくとも１種を
含有する医薬組成物にも拡大される。

これらの組成物は経口、経腸、非経口若しくは筋肉内経
路により、或いは皮膚及び粘膜に対する局部塗布による
局部経路で投与することがぎる。

特に、Ａがたとえばプロピオニルオキシメチルのエテス
ルのような開裂しうるエステル基を示す式（Ｉ＞の化合
物は、経口ルートで投与することができる。

これらは固体若しくは液体とすることができ、現在人間
医薬に使用される医薬形態、たとえば普通錠若しくは糖
衣錠、カプセル、顆粒、座薬、注射製剤、軟膏、クリー
ム、ゲルの形態で提供される。これらは常法にしたがっ
て製造される。活性成分は、これら医薬組成物に一般に
用いられる賦形薬、たとえばタルク、アラビヤゴム、乳
糖、澱粉、ステアリン酸マグネシウム、ココア脂、水性
若しくは非水性ベヒクル、動物性若しくは植物性脂肪、
パラフィン誘導体、グリコール、各種の湿潤剤、分散剤
若しくは乳化剤及び保存料と共に配合することができる
。

特に、これら組成物は適当なベヒクル、たとえば無菌の
非発熱性の水に即座に溶解させることを目的とした粉末
の形態で提供することができる。

投与量（よ処置する症状、問題とする患者、投与経路及
び使用する化合物に応じて変化することができる。たと
えば、実施例２若しくは３の化合物については、筋肉内
経路により毎日３回にて０、５００！；ｌ〜１ｑの範囲
とすることができる。

式（Ｉ＞の化合物はさらに手術装置の滅菌剤として使用
することもできる。

式（Ｉ）の化合物を製造する方法を開始する際に使用さ
れかつｎｌが数値Ｏを示す式（■′　）の化合物は、フ
ランス特許第２，５５９，４８８号公報に記載された方
法により製造することができる。

ｎｌが数値１を示す式（Ｖｌ’）の化合物は、以下の方
法により製造することができる。

式（Ａ）： Ｃ式中、Ｒ，Ｒ４及びＡは上記の意味を有する］の化合
物をハロゲン化剤により或いはスルホン化剤により処理
し、次いで１〜リフエニルホスフインにより処理し、或
いは式Ｐ（ＯＡＩｋ＞３　（式中、Ａｌｋは１〜４個の
炭素原子を有するアルキル基を示ブ）を有する試薬によ
り処理して、式（Ｂ）：ｏ２Ａ ［式中、Ｒ，Ｒ４及びＡは上記の意味を有しかつＸ−は
アニオンの残基を示す］ の化合物を得るか、又は 式（Ｃ）： し式中、Ｒ，Ｒ４、Ａ及びＡｌｋは上記の意味を有する
］ の化合物を得、これを式（Ｄ）： ＹＯＧρ （Ｄ） し式中、Ｇｐはヒドロキシル基の保護基を示１］の化合
物で処理しＣ式（Ｅ）： Ｏ２Ａ を有する化合物をＥ異性体と７異性体との混合物として
或いはＥ異性体若しくはＺ異性体のいずれかとして得、
この生成物をＷＧｐの除去により式の化合物に変換する
ことができ、ざらにＵ、異性体及びＺ異性体に分離する
こともでき、又この化合物を常法にしたがいｎ１＝１で
おる式（Ｖｌ’）を有する化合物に変換することもでき
る。たとえばＸが沃素原子を示す式（■′　）の化合物
を！！ｊ造するには、式（Ｆ）を有する化合物をルチジ
ンの存在下に沃化テトラブチルアンモニウムで処理する
。

以下、この種の製造の例を実験の部に示す。

式（■）を有する化合物は常法にしたがい、対応のＲＡ
ＭＣ０化合物から出発して製造することができる。

［実施例コ 限定はしないが、本発明を以下の例によって示す。

（１）ヒドロキシル−沃素の交換。

不活性雰囲気下に、２００ｍｇの１．１−ジメチル−（
６３，７Ｓ）（Ｚ）−３−ヒドロキシ−２（Ｅ）−プロ
ペニル−７−［［［２−［２−トリフェニルメチルアミ
ノ−４−チアゾリル］−［２−（ジフルオロメトキシ）
イミノ］−アセチル］−アミノ］−８−オキソ−４−チ
ア−１−アザビシクロ［４，２，Ｏ，］］オクトー２−
エンー３−イル］−２カルボキシレートと４７の塩化メ
チレンと１９５＋＋＋ｇのテトラーブチルアンモニウム
イオダイドと１２３Ｉ１１の２，６−ルチジンとを混合
し、次いで一７０℃にて約１０分間かけて１．８ｍｌの
トリフルオロメタンスルホン酸の塩化メチレン中におけ
る５％溶液を撹拌しながら一１０℃にて１５分間かけて
導入し、次いで先ず最初に−γ０℃、次いで２０℃にて
減圧下で蒸溜することにより濃縮乾固させた。

残留物をシリカ上でり０マドグラフにかけ、塩化メチレ
ンと酢酸エチルとの混液（９０／１０）により溶出させ
て１７００１１Ｊの求める生成物を得た。

（２）沃素−塩基の交換。

不活性雰囲気下に、上記（，１）で得られた１　７０＋
ｎｇのイオダイド誘導体と２４ｍｇの１−メチル−２−
チオ−ピリジンと３ＩＩＩ！のアセトニトリルとを混合
し、２０℃にて３０分間撹拌し、かつ減圧下での蒸溜に
より濃縮乾固させた。残留物を窒素圧力下でシリカ上に
てクロマトグラフにかけ、塩化メチレンとメタノールと
の混液（９０／１０）で溶出させて１１４ＩＩＩｇの求
める生成物を得た。

１．１−ジメチルエチル−（６Ｓ、７Ｓ）（Ｚ）−３−
ヒドロキシ−２（Ｅ）−プロペニル　７−［［［２−（
２−トリチルアミノ−４−チアゾリル］−２−（ジフル
オロメトキシイミノ）アセチル］アミノ］−８−オキソ
−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，Ｏ，］］オク
トー２−エンー３−イル］−２カルボキシレートを、対
応の誘導体から出発する「メトキシアミノ」につき下記
すると同様な方法で製造した。

１．１−ジメチルエチル−７−［［２−（２−トリフェ
ニルメチルアミノ−チアゾール−４−イル）−２（Ｚ）
−メトキシイミノアセチル］−アミノ］−３−［（３−
ヒドロキシプロペン−１（Ｅ）−イル）−８−オキソ−
４−チア−１−アザビシクロ［４，２，Ｏ，］オクト−
２−エン］−２−カルボキシレート及び１，１−ジメチ
ルエチル−７−［［２−（２−トリフェニルメチルアミ
ノ−チアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミ
ノアセチル］−アミノ］−３−［（３−ヒドロキシプロ
ペン−１（Ｚ）−イル）−８−オキソ−４−チア−１−
アザビシクロ［４，２，Ｏ，］］オクトー２−エン］−
２−カルボキシレーの製造。

工程　Ａ　：　［７−［［（２−（２−トリフェニルメ
チルアミンチアゾール−４−イル］　−２（Ｚ）　−メ
トキシイミノ］−アセチル］−アミノ］−２−［（１，
１−ジメチル）オキシカルボニル−８−オキソ−４−チ
ア−１−アザビシクＯ［４，２゜０、］］オクトー２−
エンー３−イル］−メチルトリフェニルホスホニウム６
Ｓ、７Ｓ）クロライド。

２．１８２（］の１，１−ジメチルエチル−（６３，７
Ｓ）−［７−［［（２−（２−トリフェニルメチルアミ
ノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノ
］−アセチル］−アミン］−３−クロルメチル−８−オ
キソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，Ｏ，］］
オクトー２−エンー２−カルボキシレーと１．６７９（
］のトリフェニルホスフィンとを２４戒のテトラヒドロ
フランに溶解させ、かつ１４．１ＣＩのシリカを添加し
た。テトラヒドロフランを２時間かけて留去し、残留物
を冷却し、２０℃にて２６時間撹拌し、次いでシリカ上
でクロマトグラフにかけ、ジクロルメタンとメタノール
との混液（９０／１０）で溶出させて１．８９１３の求
める生成物を得た。

工程　Ｂ：１．１−ジメチルエチル−（６Ｓ。

７Ｓ）−７−［［２−（２−トリフェニルメチルアミノ
−チアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノ
−アセチル］−アミノ−３−［３−［（１，１−ジメチ
ルエチル）ジメチルシリル］オキシ］−プロペン−１−
イル］−８−オキソー４−チア−１−７ザビシクロ［４
，２，Ｏ，］］オクトー２−エンー２−カルボキシレー
ト１．８９ｇの（１，１−ジメチル）エチル−７−［［
２−（２−トリフェニルメチルアミノ−チアゾール−４
−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセヂルコーアミ
ノ］−３−メチルトリフェニル−ホスホニウム−８−オ
キソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，Ｏ，］］
オクトー２−エンー２−カルボキシレート塩酸と３０ｍ
１のジクロルメタンと０．６８ｄの２［１，１−ジメチ
ル−エチル−ジメチルシリル−オキシ］アセトアルデヒ
ドと０．５３ｍ１のトリエチルアミンとを混合し、かつ
２０℃にて１４時間撹拌し、次いでこの溶液をシリカ上
でクロマトグラフにかけ、ジクロルメタンと酢酸エチル
との混液（９／１　）で溶出させて１．３０５ｇの求め
る生成物を単離し、これは異性体Ｅ（２／３）とＺ（１
／３）との混合物を含有した。

ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＩ１３）。

０．９０−０．９２ｐＤｌＩ　　５ｉｔＢｕ　：　　１
．５０−１．５３ｐｐｍＣＯ２ｔＢＵ　：　　２．９５
−３．１１ＤＤｍ　　２０ＣＨ２Ｓ　：４、Ｏ５ｐｐｍ
　　ｏｃｌ１３　：　　／１．３１−４．３７ｐｐｍ　
　ＣＨ２０：４、ｌｌｐｐｍ　　８６　：　　５．４−
５．５ｐｐｍ　　Ｏ７：　　５．７５−５、８７ｐｐｍ
及び６．１１−６．２４１）ｌ）ｍＺ　（１／３）　；
　　６．１７−６．３４ｐｐｍ及び６．９７−７．１６
１）ｌ）ｍＥ（２／３）　　；６．５０−６．５６ｐＤ
ｍ　　Ｈｓチアゾールｓｙｎ　；７、３４ｐｐｍφ３　
。

工程　Ｃ：　（１，１−ジメチルエチル）−７−［［２
−（２−１〜リフエニルメチルアミノチアゾール−４−
イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセチル］−アミノ
］’−３−［３−ヒドロキシプロペン−１−（Ｅ）−イ
ル］−８−オキソー４−チア−１−アザビシクロ［４，
２，Ｏ，］］オクトー２−エンー２−カルボキシレート
び（１，１−ジメチルエチル）　−７−［［２−（２−
トリフェニルメチルアミンチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセチル］−アミノ］−３−［
３−ヒドロキシプロペン−１−（Ｅ）−イル］−８−オ
キソー４−チア−１−アザビシクロ［４゜２、Ｏ，］］
オクトー２−エンー２−カルボキシレート 例１の工程Ｂから得られた化合物ｔ、３ｏ５ｇを１５７
のアセトンに溶解し、これに２ｒｎ１のノルマル塩酸の
水溶液を撹拌しながら２．５時間かけて添加し、次いで
減圧下での蒸溜により濃縮乾固させた。

重炭酸化した水を添加し、ジクロルメタンで抽出を行な
い、抽出物を減圧下での蒸溜により濃縮乾固させかつ残
留物をシリカ上でクロマトグラフにかけ、ジクロルメタ
ンと酢酸エチルとの混液（１／１）で溶出させた。求め
る生成物の異性体ｔ：　５３６ｍｇと異性体２３６９ｍ
ｇとが単離された。

！１体工旦上 Ｕ、Ｖ、スペクトル＝（エタノール） Ｍａｘ、　　２３１ｎｔｌｌＥ１１　＝４９７　５＝３
２，２００変曲点　　２５８ｎｍ　Ｅｌｌ　−２９０変
曲点　　２６４止Ｅ１１−２６４ 変曲点　　２７０ｎｍ　Ｅｌｌ　−２４（）Ｍａｘ、　
　３２０ｎｎ＋　Ｅｌｌ　−２４５ε＝１８，１００異
性体（Ｚ） Ｕ、Ｖ、、スペクトル：（エタノール）変曲点　　２３
０ｎｍ　Ｅ１１＝　４１１変曲点　　２６０ｎｍ　Ｅ１
１＝　２２０変曲点　　２６５ｎｎ＋　Ｅ１１＝　１９
８変曲点　　２７１ｎｍ　Ｅ１１＝　１７６Ｍａｘ、３
０８ｎｍ　Ｅ１１＝　１９４　　ε＝１４，３００（２
）　脱トリチル化（Ｄｅｔｒｉｔｙｌａｔｉｏｎ　）−
説ｔ−ブチル化（Ｄｅｔｅｒｂｕｔｙｌａｔｉｏｎ　）
。

不活性雰囲気下に、上記（２）で得られた１４４ｍｇの
化合物と１．８ｄの６６％蟻酸水）ｄ液とを混合し、か
つ６０℃にて１．５時間撹拌し、次いで冷却した。生成
した不溶物を濾過除去し、かつ水洗した。２ｍｌのエタ
ノールを濾液に添加し、次いでこれを減圧下での蒸溜に
より濃縮乾固した。残留物へ１ｄの水と１ｄのエタノー
ルとを添加し、再び濃縮乾固させた後、５Ｉｒｒｌの酢
酸エチルを残留物に添加し、次いで濃縮し、生成した沈
澱物を遠心分離して単離し、これを洗浄しかつ乾燥させ
た。

１２５ｍｇの粗組成物が得られ、これに５ｄのトリフル
オロ酢酸と５０成の水とを添加し、その後これを２０℃
にて２０分間撹拌した。５Ｉｆｒｌのエーテルを撹拌し
ながら徐々に添加し、次いで生成した沈澱物を遠心分離
して単離し、洗浄しかつ乾燥させて５９ｍｇＵ、Ｖ、ス
ペクトル：（エタ／−／Ｌｚ＋０．ＩＮ　ＨＣｅ）Ｍａ
ｘ、　　　２１８ｎｍｌ：１１＝３７４　　ε＝３０，
２４４変曲点　　２４７ｎｍ　Ｅ１１＝　２６１変曲点
　　２６０ｎｍ　Ｅ’１＝　２４７　　ε＝２０，００
０変曲点　　２７８止Ｅ１１＝　２４０ Ｍａｘ、　　　３１７ｎｌｌｌＥ１１＝２１７　５＝１
７，５００アセテート （１）塩基との縮合。

不活性雰囲気下に、１５０ｍｇの１，１−ジメチルエチ
ル−（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）−７−［３−［７−［２−
トリフェニルメチルアミノ−４−チ、アゾリル］［（ジ
フルオロメ゛チルオキシ）−イミノ］−アセチル］−ア
ミノ］−８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［４
，２，Ｏ，］］オクトー２−エンー３−イル］−２カル
ボキシレート（下記するメトキシイミノと同様に作成）
と３３ｍｇの４−チオ−１−メチル−ピリジンと２戒の
アセトニトリルとを混合し、２０℃にて１時間撹拌し、
次いで減圧下での蒸溜により濃縮乾固させた。残留物を
窒素圧力下にシリカ上でクロマトグラフにかけ、塩化メ
チレンとメタノールとの混液（９０／　１０　）で溶出
させて７２ｍｇの求める生成物を得た。

（２）脱トリチル化、脱ｔ−ブチル化。

不活性雰囲気下に、７２ｍｇの上記（１）で得られた化
合物と０．３ｄのトリフルオロ酢酸と３０ｔＩｉの水と
を混合しかつ２０℃にて２時間撹拌した。３ｄのエーテ
ルを徐々に添加し、そして撹拌後に生成した沈澱物を遠
心分離して単離し、洗浄し、乾燥させて４５ｍｇの求め
る生成物を得た。　　。

ｕ、ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、２２５ｎｍ　Ｅ１１＝　３７５　　ε＝　２９
．９００Ｍａｘ、３０７ｎｌｌｌ　Ｅ１１＝　３５３　
６＝２８，２００Ｕ、Ｖ、　スペクトル：　（エタノー
ル＋〇、ＩＮ　ＨＣ２）Ｍ　ａ　Ｘ　、　　　２２３ｎ
ｍ　Ｅ　１１＝　　２９６　６　＝２３，６００ＭａＸ
、　　　２５７ｎｍ　Ｅ’１＝　　１９５　　ε＝１５
，６００Ｍａｘ、　　　３０２ｎｍＥ１１＝３７５　５
＝２９，９００［［７−（２−トリフェニルメチルアミ
ノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシイミノ）−アセ
チル］−アミノ］−２−ｔ−ブトキシカルボニル−８−
オキソ−４−チア−１−アザビシクロＣ４，２゜０、］
］オクトー２−エンー３−イル］インドメチの作成。

３ｇの２−［［７−（２−トリフェニルメチルアミノ−
４−チアゾール）−２−（メトキシイミノ）−アセチル
］−アミノ］−２−ｔ−ブトキシカルボニル−８−オキ
ソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，Ｏ，］］オ
クトー２−工°ンー３−イル］メチル］−ヒドロキシを
３０ｄの塩化メチレンに溶解させ、２．０２１にｌのテ
トラブチルアンモニウムイオダイドと１．９６　ｒｌｌ
ｌの２，６−ルチジンとを添加し、かつ−７０℃まで冷
却した後に８．７ｄのトリフルオロメチルスルホン酸無
水物の溶液（タイタ一二１〜１０ｒＩｄｌ）を導入した
。−７０℃にて１５分間撹拌した後、温度を０℃にし、
この反応混合物を水中に注ぎ入れ、デカントし、塩化メ
チレンで抽出し、そして減圧下での蒸溜により濃縮乾固
させた。

残留物を酢酸エチルに溶解させ、０．２Ｎチオ硫酸ナト
リウムの水溶液１０ＩＩｒｌを撹拌しながら添加した。

デカントしかつ酢酸エチルで抽出した後、抽出物を減圧
下での蒸溜により濃縮乾固させた。残留物をイソプロピ
ルエーテルでトリチル化し、次いで濃縮乾固させて２．
４００１１１の求める生成物を得た。

アセテート （１）塩基との縮合。

不活性雰囲気下に、１５０ｍｇの１．１−ジメチルエチ
ル−（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）−７−［３−［７−［２−
１〜リフェニルメチルアミノー４−チアゾリル］［（２
−フルオロン１〜キシ）−イミノ］−アセデル］−アミ
ノ］−８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，
２，Ｏ，］］オクトー２−エンー３−イル］−２カルボ
キシレート（メトキシイミノと同様に作成）と３３ｍｇ
の４−チオ−１−メチル−ピリジンと２ｒ１１１のアセ
トニトリルとを混合し、２０℃にて１時間撹拌し、次い
で減圧下での蒸溜により濃縮乾固した。残留物をシリカ
上でクロマトグラフにかけ、塩化メチレンとメタノール
との混液（９Ｂ／　４）で溶出させて１ｌ１０１ＩＩの
求める生成物を得た。

（２）ＩＩＲトリチル化、脱ｔ−ブチル化。

不活性雰囲気下に、１１　ｏｍｇの上記（１）で得られ
た化合物と０．４４０ｒｄのトリフルオロ酢酸と４４ｊ
１１の水とを混合しかつ２０℃にて２時間撹拌した。

１０ｄのエーテルを徐々に添加し、撹拌した後に生成沈
澱物を遠心分離して単離し、洗浄し、乾燥させて６４ｍ
（］の求める生成物を得た。

ｔＪ、　Ｖ、　スペ’）　ト）Ｌｔ　：　（エタ／−／
ｌｚ＋０．１Ｎ　Ｈ（Ｑ）Ｍａｘ、２２／ｌｎｍ　Ｅ１
１＝　　３１６　６＝２４，７００変曲点　　２６０ｎ
ｍ　Ｅ　１１　＝　２１３Ｍａｘ、３０３ｎｍ　Ｅ１１
＝　　３７９　　ε＝２９，６００工程　Ａ：　７−［
［［２−［（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）−アセチル］−アミノ］−
８−オキソ−２−（１，１−ジメチル）エチルオキシカ
ルボニル−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，０］
オクト−２−エン−３−イル］−メチル］−チオ］−１
′−メチル　ピリジニウム（６Ｒ，５）（７Ｒ。

５）（Ｚ）のイオダイド。

（１）１．１−ジメチル−エチル−（６Ｒ，Ｓ）（７Ｒ
，５）（Ｚ）−３−チオールメチル−７−［２−［（２
−トリフェニルメチルアミノ−４−チアゾリル）（メト
キシ）−イミノ］−アセチル］−アミノ］−８−オキソ
−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，０］オクト−
２−エン−３−イル］−２−カルボキシレート（単離せ
ず）。

不活性雰囲気下に、３６８＋＋＋ｇの１−（２−ヒドロ
キシエチル）−４，６−ジフェニルピリジン２−チオン
と５０１ｎｌのアセトニトリルとを混合しかつ撹拌し、
そして１度に９８４ｍｇの１，１−ジメチルエチ／Ｌ、
−（６Ｒ，５）（７Ｒ，５）（Ｚ）３−イオドメチル−
７−［２−［２−トリフェニルメチルアミノ−４−チア
ゾリル）（メトキシ）−イミノ］−アセチル］−アミノ
−８−オキソ−４−チア−１−アザごシクロ［４，２，
０］オクト−２−エン−３−イル］−２−カルボキシレ
ートを撹拌しながら１時間かけて２０℃にて添加し、求
めるチオール溶液を得た。

（２）クロルピリジニウムとの縮合。

７−［［［２−［［（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−（メトキシイミノ）−アセチル］−ア
ミン］−８−オキソ−２−（１，１−ジメチル）エチル
オキシカルボニル−４−チア−１−アザビシクロＣ４，
２，０］オクト−２−エン−３−イル］−メチル］−チ
オ］−１−メチルピリジニウム（６Ｒ，５）（７Ｒ，５
）（Ｚ）のイオダイドを得る。

工程Ａの上記（１）で得られたチオールの溶液へ１度に
３０６ｍｇの２−クロル−１−メチル　ピリジニウムイ
オダイドを添加し、次いで０．２Ｂｇのシイツブａピル
アミンを添加し、かつ２０℃にて１時間撹拌した後にこ
れを減圧下での蒸溜により濃縮乾固させた。残留物をシ
リカ上でクロマトグラフにかけ、塩化メチレンとメタノ
ールとの混液（９／１）で溶出させた。溶解させかつカ
ラムに入れる時点で、２，３−ジヒドロ−５，７−ジフ
ェニルオキサゾール［３，２−ａ］ピリジニウムの相当
な結晶化が認められ、かつ生成した沈澱を分離した。母
液を上記条件下でクロマトグラフにかけて、７２０ｍｇ
の求める生成物を得た。

工程　Ｂ　：　２−　［［［７−４［２−（２−アミノ
−４−デアゾリル）−２−（メトキシイミノ）−アセチ
ル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チ
ア−１−アザビシクロ［４，２，０１オクト−２−エン
−３−イル］−メチル］−チオ］−１−メチル　ピリジ
ニウム（６Ｒ，５）（７Ｒ。

５）（Ｚ）の分子内塩。

（１）　脱トリチル化及びａｔ−ブチル化。

２−　［［［７−［［２−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−２−（メトキシイミノ）−アセチル］−アミノ］
−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−１−アザビ
シクロ［４，２，０］オクト−２−エン−３−イル］−
メチル］−チオ］−１−メチル　ピリジニウム（６Ｒ，
５）（７Ｒ，５）（Ｚ）のイオダイドとトリフルオロア
セテートとの１：１混合物を得る。

不活性雰囲気下に、２ｍｌのトリフルオロ酢酸を１０％
の水と共に４６０ｍＣｌの上記工程Ａで得られた化合物
に撹拌しながら２０℃にて１時間かけて添加し、２０Ｉ
／ｄ！のエーテルを撹拌しながら２０℃にて１時間かけ
て潤油し、次いで生成した沈澱物を分離し、洗浄し、乾
燥して、２５４ｍｇの求める生成物を得た。

ｍ、ｐ、　　１５０℃（大して純粋でない）。

（２）分子内塩の作成。

Ｈ，Ｐ、Ｌ、Ｃ，クロマトグラフィーを、グラフト化さ
れたＲＰ１９８シリカで行なった。１．５ｒｎｌのトリ
エチルアミンカーボネートと１．５１ｎ１のアセトニト
リルとの混液に溶解させた後、５〜２０％のアセトニト
リルを含有する蒸溜水の順次の混合物で溶出を行なった
。大部分の生成物が、アセトニトリル１０％を含む蒸溜
水により溶出したフラクションに集まった。凍結乾燥し
た後、９０ｍｇの求める分子内塩が得られた。ｍ、ｐ、
約２５０℃（分解）。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール＋０．１Ｎ　ＨＣｅ
）変曲点　　２２５ｎｍ　Ｅ１１＝　２９６Ｍａｘ、２
５８ｎｍ　Ｅ１１＝　３０４　　ε＝１５，８００変曲
点　　２８８止Ｅ１１＝　３０４ Ｍａｘ、２９５ｎｍＥ１１＝３０７　　ε＝１６，００
０Ｍａｘ、３１０ｎｍｌ：１１＝　　　　ε＝ｔｓ、ｅ
ｏ。

この例の工程Ａで用いた１−（２−ヒドロキシエチル）
−４，６−ジフェニルピリジン２−チオンは次のにうに
作成することができる：工程　Ａ：４．６−ジフェニル
−２日−ピラン−２−オン。

不活性雰囲気下に、６００のエチルベンゾイルアセテー
トと３３ｄの濃硫酸とを混合し、２０℃にて不活性雰囲
気下に２週間撹拌し、次いで反応混合物を氷上へ注ぎ込
み、かつエーテルで抽出した。抽出物を水洗し、減圧下
での蒸溜により濃縮乾固させ、３０ｄのエーテルを残留
物へ添加し、次いでこれを０℃まで冷却し、撹拌しかつ
生成した沈澱物を分離し、洗浄しかつ乾燥させた。母液
を乾燥させて結晶化を行なった。残留物へ１０ｄのエー
テルを添加し、生成した沈澱物を分離し、エーテルで洗
浄しかつ乾燥させた。第１フラクシヨンと第２フラクシ
ヨンとを合して１１ｇの求める生成物を得た。ｍ、　９
．　１３８℃。

工程　Ｂ：４，６−ジフェニル−２日−ピラン−２−チ
オン。

不活性雰囲気下に、２．１ｇの上記工程Ａで得られた４
、６−ジフェニル−２日−ピラン−２−オンと４５ｄの
ベンゼンと７．５ｇの五硫化燐とを混合し、不活性雰囲
気下に還流させ、５時間にわたり還流状態を保ち、次い
で上澄溶液を熱時にデカントし、かつ減圧下での蒸溜に
よって濃縮乾固させた。この操作を反応媒体にて熱時に
４回反復し、それぞれ３０ｄのベンゼンを用いた。濃厚
物を合しかつ充分減圧して乾燥させた。得られた生成物
（３ｇ）をシリカ上でクロマトグラフにかけ、塩化メチ
レンで溶出させて２ｇの求める生成物を得た。ｍ、ｐ、
１２２〜１２３℃。

工程　Ｃ：１−（２−ヒドロキシエチル）−４゜６−シ
フエニルビリジンー２−チオン。

窒素下に、２ｇの４．６−ジフェニル−２８−ピラン−
２−チオンと４０７のメタノールとを混合しかつ還流さ
せ、次いで１度に５６０１１ｇのエタノールアミンのメ
タノール２Ｉｄ中における溶液を添加した。還流を５時
間維持し、次いで冷却しかつ減圧下での蒸溜によって濃
縮乾固させた。残留物（２，４（１＞をシリカ上でクロ
マトグラフにかけ、塩化メチレンと酢酸エチルとの混液
（８０／２０）で溶出させて１．６ｇの求める生成物を
得た。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、　　２７８ｎｍ　Ｅ１１＝　８８５　　ε＝２
７，２００ＭａＸ、３９０ｎｍ　Ｅ１１＝　２６３　５
＝　８，１００（７Ｓ）（Ｚ）−３−イオドメチル−７
−［［２−［２−（トリフェニルメチル）アミノ−４−
チアゾリル］−２−（メトキシイミノ）−アセチル］−
アミノ］−８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［
４，２，Ｏ，］］オクトー２−エンー２−カルボキシレ
ート ２ｇの（１，１−ジメチル）エチル−（６Ｓ）（７３）
（Ｚ）−３−ヒドロキシメチル−７−［［２−［２−（
トリフェニルメチル）アミノ−４−チアゾリル］〜２−
（メトキシイミノ）−アセデル］−アミノ］−８−オキ
ソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，Ｏ，］］オ
クトー２−エンー２−カルボキシレーと２０ｄの塩化メ
チレンと１．３ｇのテトラプチルアンモニウムイオダイ
ドと１．３ｄの２．６−ルチジンとを混合し、かつ−７
０℃にて約１５分間かけて９Ｉｄのトリフルオロメタン
スルホン酸無水物の塩化メチレン中における１０％溶液
を添加した。水浴中に１５分間浸漬した後、２００ｄの
塩酸の０．ＩＮ水溶液を撹拌しながら添加し、次いでデ
カントし、かつ塩化メチレンで抽出した。抽出物を減圧
下での蒸溜により濃縮乾固させ、残留物（４，３ｈ）を
シリカ上でクロマトグラフにかけ、塩化メチレン中の酢
酸エチル１〜１０％の濃度勾配により溶出させて１．３
２４９の求める生成物を得た。

［α］Ｄ＝＋１３°　（Ｃ＝０．５％クロロホルム）。

ｍ、　ｆ）、　　１５０℃（大して純粋でない）。

工程　Ｂ　：　７−　［［［２−［［（２−トリチルア
ミノチアゾール−４−イル）−２−（メトキシイミノ）
−アセチル］−アミノ］−８−オキンー２−（１，１−
ジメチル）エトキシカルボニル−チアー１−アザビシク
ロ［４．２．０］オクト−２−エン−３−イル］ーメチ
ル］ーチオ］−１−メチル　ピリジニウム（６Ｒ，Ｓ）
（７Ｒ，Ｓ）（Ｚ）のイオダイド。

不活性雰囲気下に、前記工程Ａで得られた沃度化誘導体
８２０ｍａと２０ｄのアセトニトリルとを混合しかつ１
度に１２５ｍｇのＮ−メチル−２−ピリジンチオンを撹
拌しながら２０℃にて１時間かけて添加した。全体を減
圧下で蒸溜乾燥して、残留物（９３０ｍｇ）をシリカ上
でののクロマトグラフにかけ、塩化メチレンとメタノー
ルとの混液（９／１　）で溶出させて８０６ｍｇの求め
る生成物を得た。

［αＩＤ””１６°　（Ｃ＝０．７％クロロホルム）。

工程　Ｃ：　２−［［［７−［［（２−（２−アミノ−
４−チアゾール）−２−（メトキシイミノ）−アセチル
］ーアミノ］ー２ーカルボキシ−８−オキソ−４−チア
−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト−２−エン−
３−イル］ーメチル］ーチオ］−１−メチル　ピリジニ
ウム（６Ｒ，Ｓ）（７Ｒ。

Ｓ）（Ｚ）の分子内塩。

（１）脱ｔーブチル化、脱トリチル化。

２−［［［７−［［（２−　（２−アミノ−４−チアゾ
リル）−２−（メトキシイミノ）−アセチル］ーアミノ
］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−１−アザ
ビシクロ［４．２．０］オクト−２−エン−３−イル］
ーメチル］ーチオ］−１−メチル　ピリジニウム（６Ｒ
，Ｓ）（７Ｒ，Ｓ）（Ｚ）のイオダイドとトリフルオロ
アセテートとの１：１混合物を得る。

０℃にて、前記工程Ｂで得られた生成物７００ｍｇと水
１０％を含むトリフルオロ酢酸３ｍｌとを混合し、かつ
２０℃にて１時間撹拌した。２０ｒｄｌのエーテルを撹
拌しながら２０℃にて１時間かけて潤油し、沈澱物を完
全に固化させた。不溶物質を分離し、洗浄し、減圧乾燥
させて５８０ｍｇの求める生成物全行た。

ｍ．ｐ．１５０〜１６０℃（分解）。

（２）分子内塩の生成。

上記工程Ｃの（１）で得られた生成物５８０ｍｇと３ｄ
のアセトニトリルと３ｄの１〜リエチルアミンカーボネ
ートとを混合し、得られた溶液をＨ．Ｐ。

し、Ｃ．カラムに固定し、そして水とアセトニトリルと
の混液（５〜１０％濃度勾配）で溶出させてｔ　ｏｏｍ
ｃ＋の求める生成物を得た。ｍ，ｐ．１９０〜２００℃
（分解）。

［α］Ｄ−＋２８°　（ｃ＝０．４％の０．ＩＮ　　Ｈ
Ｃｊ数滴を添加した水）。

Ｕ．Ｖ．スペクトル：（エタノーノい０．ＩＮ　ＨＣ！
　）変曲点　　２４０ｎｌｌ　Ｅｌｌ　−　３４４変曲
点　　２６５ｎｍ　Ｅｌｌ　−　３３７ＭａＸ．　　２
８４１１１　Ｅｌｌ　−　３７４　　ε＝１９，５００
変曲点　　２９０ｎｌｌｌ　Ｅｌｌ　−　３６５変曲点
　　３０７ｎｌｌｌ　Ｅ１１＝　３０６変曲点　　３１
８ｎｍ　Ｅ１１＝　２７にの例の工程Ｂの開始時点で用
いた１−メチル−２−ピリジンチオンは次のように作成
することができる。

不活性雰囲気下に、１ｇの１−メチル−２−ピリジンと
２０ｒｄのベンゼンとを混合し、次いで１度にかつ激し
く撹拌しながら２ｇの２，４−ビス−（４−メトキシフ
ェニル）−２．４−ジチオキン−１．３，２．４−ジチ
アジホスフエタン（ラウエソンズ試薬）を撹拌しながら
還流下に２時間かけて添加した。冷却し、濾過しかつベ
ンゼンで洗浄した後、ベンゼン濾液を減圧下での蒸溜に
より濃縮乾固させた。残留物（　２．８ｇ＞をシリカ上
でクロマトグラフにかけ、塩化メチレンと酢酸エチルと
の混液（８／２＞で溶出させて９ｏｏｍｇの求める生成
物を得た。ｍ，　ｐ．　９８℃。

Ｕ．Ｖ．スペクトル：（エタノール） 変曲点　　２２０ｎｍ　Ｅｌｌ　−　４４０ＭａＸ．２
８４ｎｍＥ１１−１１００　　６−１３，８００Ｍａｘ
．　　３５４ｎｍ　Ｅ１１＝　５６９　　８＝　７，１
００ル）−チオメチル］ー８ーオキソー４ーチア−１−
アザビシクロ［４，２，０オクト−２−エン工程　Ａ：
　（１，１−ジメチル）エチル（６Ｒ２Ｓ）（７Ｒ，５
）（Ｚ）−７−［［（２−（２−トリフェニルメチルア
ミノ−４−チアゾリル）−２−メトキシイミノ−アセチ
ル］−アミノ］−３−［（１−オキシド−ピリジン−２
−イル）−チオメチル］−８−オキソー４−チア−１−
アザビシクロ［４，２，ＯＦオクト−２−エン−２−カ
ルボキシレート。

３３０ｍｇの（１，１−ジメチル）エチル（６Ｒ２Ｓ）
（７Ｒ，Ｓ’＞（Ｚ）−３−イオドメチルー［［［−７
−［［２−（２−トリフェニルメチル）−アミノー４−
チアゾリル）−２−メトキシイミノ］−アセチル］−ア
ミノ１−８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［４
，２，０１オクト−２−エン−２−カルボキシレートと
１．３ｍｉのアセトニトリルと６１ｍｇの２−メルカプ
トピリジンＮ−オキサイドと６７ｍｇの炭酸カリウムと
を混合し、かつ２０℃にて１．５時間撹拌した。減圧下
での蒸溜により濃縮乾固させた後、残留物をシリカ上で
クロマトグラフィーにかけ、塩化メチレンとアセトンと
の混液（６／４）で溶出させて２１２ｍ０の求める生成
物を得た。

工程　Ｂ　：　７−［［（２−（２−アミノ−４−チア
ゾリル）−２−（メトキシイミノ）−アセチル］−アミ
ノ］−３−［（１−オキシド−ピリジン−２−イル）−
チオメチル］−８−オキソー４−チア−１−アザビシク
ロ［４，２，０１オクト−２−°エンー２−カルボン酸
（６Ｒ，５）（７Ｒ，５）（Ｚ）。

前記工程Ａで得られた生成物２００ｍｇと３３％の水を
含む蟻酸２Ｉｄとを混合しかつ２０℃にて１時間、　　
。

次いで５０℃にて５時間撹拌し、その後これを冷却しか
つ生・成したトリフェニルメチルカルビノールを濾過に
より除去した。濾液を減圧下での蒸溜により濃縮乾固さ
せ、酢酸エチルを添加し、次いで再び濃縮乾固させ、こ
の操作を数回反復した。酢酸エチルを添加し、沈澱物を
酢酸エチル中で撹拌し、次いで分離し、洗浄しかつ乾燥
させて１１４ｍｇの求める生成物を得た。ｍ、　ｐ、　
　２２０℃。

Ｕ、Ｖ、スペク１〜ル：（エタノール）Ｍ　ａ　Ｘ　、
　　２４０ｎｍ　Ｅ　１１＝　７２５　６　＝３７，９
００Ｍａｘ、３０（）ｎ＋ｎＥ１１＝３１１　　ε＝１
６，３００変曲点　　２２４ｎｍ及び２７０ｎｍ Ｕ、Ｖ、スペクトル＝（エタノール＋〇、ＩＮ　ＨＣｅ
　）Ｍａｘ、　　２４２ｎｍｌ：１１＝６４５　５＝３
３，７００変曲点　　２６４ｎｍ　Ｅ１１＝　４０５変
曲点　　２８０ｎｍ　Ｅｌｌ　−３７１変曲点　　２９
０ｎｍ　Ｅｌｌ　−３４０変曲点　　３０７ｎｍ　Ｅｌ
ｌ　−２８８工程　Ａ　：　７−［［［２−［［（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）−２−（メトキ
シイミノ）−７セチル］−アミノコ−８−オキソ−２−
（１，１−ジメチル）エチルオキシカルボニル−４−デ
ア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト−２−エン
−３−イル］ーメチル］ーチオ］−１−メチル−３−メ
トキシ　ピリジニウム（６Ｒ。

Ｓ）（７Ｒ，Ｓ）（Ｚ）のイオダイド。

不活性雰囲気下に、１６４１１１ｇの１，１−ジメチル
エチル（６Ｒ，Ｓ）（７Ｒ，Ｓ）（Ｚ）−３−イオドメ
チル−７−　［２−　［２−　＜トリフェニルメチルア
ミノ−４−チアゾリル）−［（メトキシ）イミノ］ーア
セチル］ーアミノ−８−オキソ−４−チア−１−アザビ
シクロ［４．２．０］オクト−２−エン−３−イル］−
２−カルボキシレートと５ｒＩＩｌのアセトニトリルと
を混合し、かつ１度に３１ｍｇのＮ−メチル−３−メト
キシ−２−チオピリドンを撹拌しながら２０℃にて２時
間かけて添加した。減圧下での蒸溜により濃縮乾固させ
かつ充分減圧下で乾燥させた後、残留物をシリカ上でり
ａマドグラフにかけ、塩化メチレンとメタノールとの混
液（９／１　）で溶出させて１４５１１１ｇの求める生
酸物を得た。ｍ、　ｐ、　　１７０〜１８０℃（分解）
。

工程　Ｂ　：　２−［［７−［［２−（２−アミノ−４
−ヂアゾリル）−２−（メトキシイミノ）−アセチル］
−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−
１−アザビシクロ［４，２，ＯＦオクト−２−エン−３
−イル］−メチル］−チオ］−１−メチル−３−メトキ
シ　ピリジニウム（６Ｒ２Ｓ）（７Ｒ，５）（Ｚ）のイ
オダイド。

不活性雰囲気下に、前記工程Ａで得られた生成物１１０
ｍｇを２ｄの蟻酸の６６％水溶液と撹拌しながら６０℃
にて２．５時間かけて添加した。冷却した後、生成した
トリフェニルカルボニルを濾過し、濾液を減圧下での蒸
溜により濃縮乾固させ、酢酸エチルを添加し、次いで再
び濃縮乾固させかつ同じ操作を数回反復した。次いで酢
酸エチルを添加し、生成した沈澱物を分離し、エーテル
で洗浄し、充分な減圧下で乾燥させて７５ｍｇの求める
生成物を得た。ｍ、　ｐ、　　１９０〜２＜）０℃（分
解）。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ　、　　　２１５ｎｍ　　Ｅ１１＝　　５５５　
　５＝３７，７００Ｍａｘ　　、　　　２９４ｎｍ　　
Ｅ’１＝　　２３２　　　ε　＝１５，７００変曲点　
　３３５ｎｍ　Ｅ１１＝　１１７　８＝　７，９００Ｕ
、　Ｖ、　スヘクト／ｌｚ　：　（エタ／−／Ｌｚ＋０
．ＩＮ　ＨＣＮ　）Ｍａｘ、　　２１４ｎｌＲＥ’１＝
　４９７　　ε＝３３，７００変曲点　　２６３止Ｅ１
１−２４４ ＭａＸ、　　２８５ｎｌＥ１１−２７０　６．−１８，
３００Ｍａｘ、３３８ｎｍ　Ｅ１１＝　１３８　　ε＝
　９，３５０この例の工程Ａで用いたＮ−メチル−３−
メトキシ−２−チオピリドンは次のように製造すること
ができる。

不活性雰囲気下に、２．ＩＱのＮ−メチル−３−メトキ
シ−２−ピリドンと５０ｄのベンゼンとを混合しかつ１
度に３ｇの２，４−ビス−（４−メトキシフェニル）−
２，４−ジチオキソ−１，３゜２．４−ジチアジホスフ
エタン（ラウエソンズ試薬）を撹拌しながら還流下に３
時間かけて添加した。冷却しかつ減圧下での蒸溜により
濃縮乾固させた後、残留物をシリカ上でクロマトグラフ
にかけ、塩化メチレンとメタノールとの混液（９／１　
＞で溶出させて１，２ｇの求める生成物を得た。

ｍ、ｐ、　　１３０〜１３２℃。

工■−Δ：　７−　［［［２−［（（２−トリチルアミ
ンチアゾール−４−イル）−２−（メトキシイミノ）−
アセチル］−７ミノ］−８−オキソ−２−（１，１−ジ
メチル）−エトキシカルボニル−４−チア−１−アザビ
シクロ［４，２，０１オクト−２−エン−３−イル］−
メチル］−チオ］−１−メチル　キノリニウム（６Ｓ）
（７Ｓ）（Ｚ）のイオダイド。

不活性雰囲気下に、３２８ｍｇの１．１−ジメチルエチ
ル−（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）−イオドメチル７−　［２
−［２−（トリフェニルメチル）−アミノ−４−チアゾ
リル］［（メトキシ）イミノ］アセチル］アミノー８−
オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，ＯＦオ
クト−２−エン−３−イル］−２−カルボキシレートと
１０ｒｎｌのアセトニトリルとを混合し、次いで２０℃
にて１度に７０ｍｇの１−メチル−２−キノリンチオン
を撹拌しながら２０℃にて１時間かけて添加した。アセ
ｌ−二トリルを減圧留去し、かつ充分な減圧下で乾燥さ
せた後に、ｔｏｏｌＩａの求める生成物を得、これをそ
のまま次の工程に使用した。

工程一旦：　２−　［［［７−［［２−（２−アミノ−
４−チアゾリル）−２−メトキシイミノ−アセチル］−
アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−１
−アザビシクロ［４，２，０１オクト−２−エン−３−
イル］−メチル］−チオ］−１−メチル　キノリニウム
（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）の分子内塩。

（１）脱トリチル化、脱ｔ−ブチル化。

不活性雰囲気下に、前記工程Ａで得られた化合物３６０
ｍａと蟻酸の６０％水溶液６ｄとを混合しかつ６０°Ｃ
にて３時間撹拌し、次いで冷却しかつ生成したトリフェ
ニルカルビノールを濾過除去した。残留物を減圧下での
蒸溜により濃縮乾固させて３００ｍｇの不完全に保護解
除された生成物を得、これを水１０％を含む１ｄのトリ
フルオロ酢酸中へ導入した。これを２０℃にて１時間撹
拌し、次いで１５ｄのエーテルを撹拌しながら潤油し、
そして生成した沈澱物を分離し、洗浄しかつ乾燥させて
２６０ｍｇの求める生成物を得、脱トリチル化しかつ°
脱トリチル化した。

（２）分子内塩の作成。

不活性雰囲気下に、１．５ｒｒ１１のトリエチルアミン
カーボネートと１．５ｍのアセトニトリルとを混合して
溶液を得、これをライコブロブＲＰ１Ｂ（５／２０μ）
を充填した６５ｃｍｘ直径２５ｃｍのカラムに注入した
。種々の濃度勾配の水−アセトニトリルの混液で溶出さ
せた後、５％〜１０％におけるピーク（不純物）を分離
し、次いで１５％アセトニトリルを含む水及び２０％の
アセトニトリルを含むの水で溶出を行ない、そして凍結
乾燥した後に４９ｍｇの求める生成物を得た。ｒｒｌ　
ｐ、　　１９０〜２００℃。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、２１６ｎｍ　Ｅ１１＝　９３０　　ε＝５３，
１００変曲点　　２３１１ｍ　Ｅ１１＝　４０２変曲点
　　２３６ｎｍ　Ｅｌｌ　−３８２Ｍａｘ、　　２７６
ｎｍ　Ｅ１１＝　４８９　　ε−２７，９００変曲点　
　２９２ｎｍ　Ｅ１１＝　３１９変曲点　　３０２ｎｍ
　Ｅ１１＝　２４７ＭａＸ、３７６ｎｌｌＥ１１＝　１
８６　　ε＝１０，６００’Ｕ、　Ｖ、　、７．ヘクト
／ｌｚ　：　（エタ／−ル＋０．ＩＮ　ＨＣｊ！　）Ｍ
　ａ　Ｘ　、　　２１６ｎａ＋　Ｅ　１１−８７７　　
ε＝５０．１００ＭａＸ、　２γ５ｎｍ　Ｅｌｌ　−５
８８ε−３３，６００ＭａＸ、３７５ｎｌｌｌ　Ｅ１１
＝　１８９　　ε＝１０，８００変曲点　　２３１ｎｍ
　、　２３８ｎｍ３．２９２止及び３０６ｎｍ　。

この例の工程Ａの開始時点で使用した１−メチル−キノ
リン−２−チオンは次のように作成することができる。

不活性雰囲気下に、１ｇの１−メチルキノリン−２−オ
ンと２５ｒｎｌのベンゼンとを混合し、次いで１度に１
．２７ｇの２，４−ビス−（４−メトキシフェニル）−
２，４−ジチオキラー１．３，２．４−ジチアジホスフ
エタン（ラウエソンズ試薬）を添加した。還流下に１時
間撹拌し、冷却し、減圧下での蒸溜により溶剤を除去し
、充分な減圧下で乾燥させかつ残留物をシリカ上でクロ
マトグラフにかけ、塩化メチレンと酢酸エチルとの混液
（１／１）で溶出させた後、１ｇの求める生成物を得た
。ｍ、ｐ、１１４℃。

七 工程　Ａ　：　７−［［４−［［２−トリチルアミノチ
アゾール−４−イル）−２−（メトキシイミノ）−アセ
チル］−アミノ］−８−オキソ−２−（１゜１−ジメチ
ル）−エトキシカルボニル−４−チア−１−アザビシク
ロ［４，２，０］オクト−２−エン−３−イル］−メチ
ル］−チオ］−１−メチル　キノリニウム（６３）（７
Ｓ）（Ｚ）のイオダイド。

窒素雰囲気下に、３２８ｍ＋；＋の（１，１−ジメチル
）エチル−（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）３−イオドメチル−
７−［［２−［（トリフェニルメチル）−アミノ−４−
チアゾリル］−２−メトキシイミノ］−アセチル］−ア
ミノー８−オキソ−４−チア−１−°アザビシクロ［４
，２，０１オクト−２−エン−３−イル］−２−カルボ
キシレートと１０ｄのアセトニトリルとを混合し、次い
で２０℃にて７０ｍｇの１−メチルキノリン−４−チオ
ンを１度に撹拌しながら２０℃にて３０分間かけて添加
し、次いで減圧下での蒸溜により濃縮乾固させた。残留
物（４０５ｍｃ＋　）を５ｒｎｌのエーテルでトリチル
化すると共に２０℃にて３０分間撹拌し、次いで生成し
た沈澱物を分離し、洗浄し、乾燥して３９０ｍｇの求め
る生成物を得た。

ｍ、ｐ、約２１０℃（分解）。

［α］Ｄ＝−７６°　（ｃ＝０．５％クロロホルム）。

工程　Ｂ　：　４−［［７−［［２−（２−アミノ−４
−チアゾリル）−２−メトキシイミノ］−アセチル］−
アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−１
−アザビシクロ［４，２，０１オクト−２−エン−３−
イル］−メチル］−チオ］−１−メチル　キノリニウム
　トリフルオロアセテート、（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）の
トリフルオロアセテート。

不活性雰囲気下に、前記工程Ａで得られた生成物３４０
ｆｉｌＯと１０％の水を含むトリフルオロ酢酸１．５ｄ
とを０℃にて混合し、かつ２０℃にて４５分間にわたり
激しく撹拌した。次いで、１５５ｄのエーテルを潤油し
かつ２０℃にて１時間撹拌した。生成した沈澱物を分離
し、洗浄し、減圧下で乾燥させて２５８ｍｇの求める生
成物を得た。ｍ、ｐ、約２１０℃（分解）。

［α］Ｄ＝−４３°　（Ｃ＝０．５％メタノール）。

Ｕ、Ｖ、スペク１〜ル：（エタノール）ＭａＸ、２３８
ｎｍ　Ｅ１１＝　５８６　　ε＝４６，８００Ｍａｘ、
３０２ｎｍ　Ｅ１１＝　２２６　．５＝１８．Ｔｏ。

変曲点　　３１３ｎｍ　Ｅ１１＝　１９８Ｍａｘ、３５
３ｎｍＥ１１＝２１０　　ε＝１６，８００Ｕ、Ｖ、ス
ペクトル：（エタノール＋０．ｌＮｌ１ｃｘ　）Ｍａｘ
、２３９ｎｌｌｌＥ１１−５５７　　ε＝４４，５００
変曲点　　２８９ｎｍ　ｌ：１１−２３０Ｍａｘ、２９
４ｎｍｌ：１１−２３６　６＝１８，８００変曲点　　
３０５ｎｍ　Ｅ１１＝　２２８“変曲点　　３１４止［
：１１−２２１Ｍａｘ、　　２５２ｎｆｌｌ　Ｅｌｌ−
２２６ε＝１ａ、ｉｏ。

工程Ａの開始時点で使用した１−メチル−キノリン−４
−チオンは次のように作成することができる。

不活性雰囲気下に、１ｇの１−メチル−４−キノリンを
２０ＩＩｒ１のベンゼンに溶解させ、次いで激しく撹拌
しながら１度に１．２７９の２，４−ビス−（４−メト
キシフェニル）−２，４−ジチオキン−１，３，２，４
−ジチアジホスフエタン（ラウエソンズ試薬）を撹拌下
に還流温度で１時間添加した。冷却しかつ減圧下での蒸
溜により濃縮乾固させた後、残留物（２，５（１）をシ
リカ上でクロマトグラフにかけ、塩化メチレンとメタノ
ールとの混液（９／１　）で溶出させて９１０Ｉｌ１ｇ
の求める生成物を得た。ｍ、ｐ、２０８〜２１０℃。

工程−Δ：　２−［［［２−［［（２−トリチルアミノ
−４−チアゾリル）　（メトキシイミノ）−アセチル］
−アミノ］−８−オキソ−２−（１，１−ジメチル）エ
チルオキシカルボニル−４−チア−１−アザビシクロ［
４，２，０］オクト−２−エン−３−イル］−メチル］
−チオ］−１−エチルピリジニウム（６３）（７３）　
　（Ｚ）のイオダイド。

不活性雰囲気下に、３５０ｍｇの（１，１−ジメチル）
エチル−（６Ｓ）（７３）（Ｚ）３−イオドメチル−７
−［［２−［２−（トリフェニルメチル）−アミノ−４
−チアゾリル］−２−メトキシイミノ］−アセチル］−
アミノー８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［４
，２，０］オクト−２−エン−カルボキシレートと３．
５−のアセトニトリルと７１ｍｇの１−エチル−ピリジ
ン−２−チオンとを混合しかつ２０℃にて３０分間撹拌
し、次いで減圧下での蒸溜により濃縮乾固させた。残留
物（４ｓｏｌＯ＞をシリカ上でクロマトグラフにかけ、
塩化メチレンとメタノールとの混液（１０／　１）で溶
出させて３４７ｍｇの求める生成物を得た。

工程　Ｂ　：　２−　［［［７−［［２−（２−アミノ
−４−チアゾリル）−（メトキシイミノ）−アセチル］
−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−
１−アザビシクロＣ４，２，０］オクト−２−エン−３
−イル］−メチル］−チオ］−１−エチル　ピリジニウ
ム（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）の分子内塩。

（１）ＤＣ２ｔ−ブチル化及び脱１〜リチル化。

前記工程Ａで得られた３３０ｍ（］の生成物を１０％の
水を含む１．６ｄのトリフルオロ酢酸と混合し、かつ２
０℃にて５０分間撹拌した。７ｍｌのエーテルを撹拌し
ながら２時間かけて徐々に導入し、次いで生成した沈澱
物を分離し、洗浄し、乾燥して２５０ｍ（！の保護解除
した生成物を得た。ｍ、ｐ、２００℃。

（２）分子内塩の生成。

工程Ｂの上記（１）で得られた生成物２４０ｍｇを１．
２ｄのアセトニトリル及び１．２ｍのトリエチルアミン
カーボネートの１Ｍ溶液に溶解させた。この溶液をシリ
カカラム（長さ６５ｃｍ１直径２．７ｃｍ）に固定し、
かつ順次に１ｊ！の次の混合物で溶出させたニ アセトニトリル％　　　　水％ 求める生成物を含有するフラクションを集め、かつ凍結
乾燥し、そして１１５ｍａの求める生成物を得た。ｍ、
Ｄ、　　２００℃。

Ｕ、Ｖ、スベクトルニ（エタノール） 変曲点　　２２４ｎｍ　Ｅ１１＝　４０８；変曲点　　
２３４ｎｍ　Ｅ１１＝　３７６；ＭａＸ、　　　２９６
ｎｌｌｌ　［：１１−　３２６；Ｕ、　Ｖ、　スペクト
ル：　（エタ／−／ｌｚ＋ｏ、ＩＮ　Ｈｃｇ　）変曲点
　　２２３止Ｅ１１−３１９； 変曲点　　２７０ｎｍ　Ｅｌｌ　−３２９；Ｍａｘ、　
　　２８４ｎｍ　Ｅｌｌ　−２８４゜工程Ａの開始時に
使用した１−エチル−２−ピリジン−チオンは次のよう
に作成することができる。

不活性雰囲気下に、１．２３ｇの１−エチル−２−ピリ
ドンと２５ｄのベンゼンとを混合し、次いで１度に激し
く撹拌しながら２．０２ａの２．４−ビス−（４−メト
キシフェニル）−２，４−ジチオキラー１．３，２．４
−ジチアジホスフエタン（ラウエソンズ試薬）を撹拌し
ながら還流下に２時間かけて添加した。冷却しかつ濾過
した後、濾液を減圧下での蒸溜により乾燥させ、かつ残
留物（３，８ｇ　）をシリカ上でクロマ１−グラフにか
Ｃブ、塩化メチレンと酢酸エチルとの混液（８／２＞で
溶出させて１．３ｇの求める生成物を得た。

ｍ、ｐ、約５０℃。

工程　Ａ　：　４−　［［［２−［［（２−トリチルア
ミノ−４−チアゾリル）（２−メトキシイミノ）−アセ
チル］−アミノ］−８−オキソ−２−（１，１−ジメチ
ル）エチルオキシカルボニル−−１−アザビシクロ［４
．２．０］オクト−２−エン−３−イル］ーメチル］ー
チオ］−１−メチル　ピリジニウム（６Ｓ）（７Ｓ＞（
Ｚ）のイオダイド。

不活性雰囲気下に、３５０ｍ（］の（１，１−ジメチル
）エチル−（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）３−イオドメチル−
７−［［２−［２＝（トリフェニルメチル）−アミノ−
４−チアゾリル］−２−メトキシイミノ］−アセチル］
ーアミノー８ーオキソ−４−チア−１−アザビシクロ［
４．２．０１オクト−２−エン−２−カルボキシレート
と３．５ｍｌのアセトニトリルと６５ｍｇの１−メチル
−４−ピリジンチオンとを混合し、かつ２０℃にて２時
間撹拌し、次いで減圧下での蒸溜により濃縮乾固させた
。残留物（４４０＋＋＋ａ　）をシリカ上でクロマトグ
ラフにかけ、塩化メチレンとメタノールとの混液（９／
１　）で溶出させて３２０１１０の求める生成物を得た
。

工程一旦：４−　［［［７−［［（２−アミノ−４−チ
アゾリル）−（メトキシイミノ］ーアセチル］ーアミノ
］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−１−アザ
ビシクロ［４．２．０］オクト−２−ニンー３−イル］
ーメチル］ーチオ］−１−メチル　ピリジニウム（６Ｓ
）（７Ｓ）（Ｚ）の分子内塩。

（１）　ＪＩＧ２　ｔ　−−ブヂル化及びＩＩＲ１〜リ
ヂル化。

不活性雰囲気下に、前記工程Ａで得られた生成物２ｇｏ
ｍｇを１０％の水を含む１．４ｎｆの１〜リフルオロ酢
酸と混合し、かつ２０℃にて５０分間撹拌した。

１００認のエーテルを撹拌しながら２時間かけて徐々に
添加し、次いで生成した沈赦物を分離し、洗浄し、乾燥
して１８４ｍｇの保護解除した生成物を得た。

ｍ、　ｐ、２００℃。

（２）分子内塩の生成。

工程Ｂの上記（１）で得られた生成物１８０ｍｇを１、
Ｑｄのアセトニトリル及び１．０．のトリエチルアミン
カーボネートの１Ｍ溶液に溶解させた。

この溶液をシリカカラム（長さ６７ｃｍ、直径２．５Ｃ
ｍ）に固定し、かつ順次に１１の次の混合物アセ１〜二
１−リル％　　　　水％ 求める生成物を含有するフラクションを集めかつ凍結乾
燥し、そして９５ｍｇの求める生成物を得た。

ｍ、ｐ、２００℃。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、　　２２９ｎｍ　Ｅ１１＝　４５２　５＝２３
，５００変曲点　　２９２ｎｍ　Ｅ１１＝　４０９：Ｍ
ａｘ、　　３０５１１１１　Ｅ１１＝　４６３　６＝２
４，１００Ｕ、　Ｖ、　スヘ’ｙトル：　（ｘタノ−／
Ｌｚ＋０．ＩＮ　Ｈｃｊ　）Ｍａｘ、２２９ｎｍ［：１
１＝３９４　８＝２０，５００変曲点　　２７６ｎｍ　
Ｅ１１＝　３４１　；Ｍａｘ、３００ｎｍＥ１１＝５１
１　　ε＝２６，６００−４−チアー１−アザビシクロ
［４，２，０］オクト−２−］］シン−３−イル−メブ
ール］−ブ・Δ］工程　Ａ：１−メチルピリジン−２−
チオンにＪ：る沃素の交換。

不活性雰囲気下に、１３（）ｍｇの１，１−ジメチルエ
チル（６Ｓ）（７３）（Ｚ）３−イオドメチル−７−［
［［２−［２−（トリフェニルメチル−アミノ−４−チ
アゾリル］−［（ジフルオロ−メトキシ）−イミノ］−
アセチル］−アミノ−８−オキソ−４−チア−１−アザ
ビシクロ［４，２，０］オクト−２−エン−３−イル］
−２−カルボキシレートと１．５ｄのアセトニトリルと
２１ｍｇの１−メチル−２−ピリジンチオンとを混合し
かつ２０℃にて１時間撹拌し、次いで減圧下での蒸溜に
より濃縮乾固させた。残留物をシリカ上でクロマトグラ
フにかけ、窒素圧力下で塩化メチレンとメタノールとの
混液（９／／１）により溶出させて１０２ｍｇの求める
生成物を得た。

工程　Ｂ：保護解除。

２−１［７−［［（２−アミノ−４−チアゾリル）（ジ
フルオロメ１〜キシーイミノ）−アセデル］−アミノ］
−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−１−アザビ
シクロ［４，２，０］オクト−２−エン−３−イル］−
メチル］−チオ］−１−メチル　ピリジニウム（６３）
（７Ｓ）（Ｚ）（トリフルオロアセテート）のイオダイ
ドとトリフルオロアセテートとの１：１混合物を得る。

不活性雰囲気下に、前記工程Ａで得られた１０２＋１１
Ｑの生成物を水１０％を含む０．４ｄのトリフルオロ酢
酸と混合しかつ２０℃にて１時間撹拌した。

６ｄのエーテルを撹拌しながら潤油し、生成した沈澱物
を分離し、洗浄し、乾燥させて６６ｍｇの求める生成物
を得た。Ｒｆ、０．５（アセトンと水との混液（２／１
）で溶出）。

Ｕ、Ｖ−スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、　　２２１ｎｍＥ１１＝３７３　５＝２９，８
００変曲点　　２４６ｎｍ　Ｅ１１＝　２２３Ｍａｘ、
　　３０７ｎｍ　Ｅ１１＝　２４７　　ε＝１９，７０
０Ｕ、Ｖ、　スペ’）トル：　（エタノール＋０．ＩＮ
　ＩＩｃ（！　）変曲点　　２１７ｎｍ　Ｅ１１＝　３
２７　　ε＝　２６．１００Ｍａｘ、２５（ｌｎｍ　［
：１１＝　２３９　　ε＝１９，１００変曲点　　２９
２ｎｍ　Ｅ１１＝　２２６Ｍａｘ、　　　３０４ｎｍ　
Ｅ１１＝　　２３９　　ε＝１９，１００イド （１）１−メチルビリジン−２−チオンによる沃素の交
換。

不活性雰囲気下に、１１７ｍｇの１．−１−ジメチルエ
チル（６３）（７Ｓ）（Ｚ）３−イオドエチル−７−［
３−［７−［（２−トリフェニルメチル）−アミノ−４
−チアゾリル］［（２−プロペニルオキシ）−イミノコ
ーアセチル］−アミノ］−８−オキソ−４−チア−１−
アザビシクロ［４，２゜０］オク１〜−２−エン−３−
イル１−２−カルホキシレー１〜と１．２ｍｅのアセト
ニトリルと１　ａｍｇの１−メチル−ピリジン−２−チ
オンとを混合しかつ２０℃にて１．５時間撹拌し、次い
で減圧下での蒸溜により濃縮乾固させた。残留物をシリ
カ上でクロマトグラフにかけ、塩化メチレンとメタノー
ルとの混液（９０／　１．０　＞で溶出させて１１８ｍ
ｇの求める生成物を得、これを次の反応にそのまま使用
した。

（２）：脱トリチル化及び脱ｔ−ブチル化。

２−　［［［７−［［（２−アミノ−４−チアゾリル）
（２−プロペニルオキシ）−イミノ］−アセチル］−ア
ミノ〕−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−１−
アザビシクロ［４，２，０１オクト−２−エン−３−イ
ル］−メチル］−チオ］−１−メチル　ピリジニウム（
トリフルオロアセテート）（６３＞　　（７Ｓ）（Ｚ）
のイオダイドの生成。

前記工程１で得られた生成物ｉｉ４ｍｑとトリフルオロ
酢酸０．８２ｄと水０．０５ｄとを混合しかつ２０℃に
て２時間撹拌した。３．５ｍｅのエーテルを撹拌しなが
ら徐々に潤油し、生成した沈澱物を分離し、洗浄し、減
圧下で乾燥させて５８ｍｇの求める生成物を得た。Ｒｆ
＝０．５（アセトンと水との混液（２／１　）で溶出）
。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） 変曲点　　２１３ｎｍ　Ｅ１１＝　３５７変曲点　　２
２２ｎｍ　Ｅ１１＝　３４５変曲点　　２３１ｎｍ　Ｅ
１１＝　３２８Ｍａｘ、　　３０５ｎｍｌ：１１＝２４
５　６−１９，３００Ｕ、　Ｖ、　ス／’（クト／Ｌ／
　：　（エタ／−ル＋０．ＩＮ　ｔｌｃ！　）変曲点　
　２１９ｎｍ　Ｅ１１＝　３４０ｘ　２Ｍａｘ、２５２
ｎｍ　Ｅ１１＝　２５５ｘ　２　　ε＝２０，５００Ｍ
ａｘ、　　２９４ｎｍ　Ｅ１１＝　２４３ｘ　２　５＝
１９，２００変曲点　　３０７ｎｍ　Ｅ１１＝　２３０
ｘ　２−イル］−メチルチオ゛　−１−メチル　ピリジ
ニウム（１〜リフルオロアセテ−１〜）のイオダイド及
工程　Ａ：沃素によるヒドロキシルの交換。

不活性雰囲気下に、１５０ｍｇの１，１−ジメチルエチ
ル（６３）（７Ｓ）（Ｚ）３−ヒドロニ１ニジメチル−
７−［２−［２−トリフェニルメチルアミノ−４−チア
ゾリル］［（ジフルオロメチル）−イミノ］−アセチル
コーアミノコ−８−オキソ−４−チア−１−アザビシク
ロ［４，２，ＯＦオクト−２−エン−３−イル］−２−
カルボキシレートと３ｄの塩化メチレンと１５２ｍｇの
ＢＬＪ４”Ｉ−と９６成の２，６ルチジンとを混合した
。−７０℃にて約１０分間かけて１．４ｄのトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物（塩化メチレン中５容量％）
の溶液を撹拌しながら１５分間かけて添加し、次いで減
圧下での蒸溜により濃縮乾固させた。残留物をシリカ上
でクロマトグラフにかけ、塩化メチレンと酢酸エチルと
の混液（９／１　）で溶出させて１２０ｍｇの沃素化さ
れた求める生成物を得、これをそのまま次の工程に使用
した。

工程　Ｂ：２−チオ−１−メチルピリジン塩基による沃
素の交換。

不活性雰囲気下に、１２０ｍｃ＋の前記工程Ａで得られ
た沃素化誘導体と１８ｍｇの２−チオ−１−メチルピリ
ジンと４ｄのアセトコ１〜リルとを混合し、２０”Ｃに
て１時間撹拌し、次いで減圧下での蒸溜により濃縮乾固
させた。残留物をシリカ上でクロマトグラフにかけ、塩
化メチレンとメタノールとの混液（９／１　）で溶出さ
せて１００ｍｇの求める生成物を得た。Ｒｆ＝　０．２
５　　（塩化メチレンとメタノールとの混液（９／１　
）で溶出）。

工程　Ｃ：保護解除。

（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）２−［［７−［［（２−アミノ
−４−チアゾリル）−［（フルオロメトキシ）−イミノ
、〕−７セチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オ
キソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，０］オク
ト−２−エン−３−イル］−メチルチオ］−１−メチル
　ピリジニウム（、トリフルオロアセテート）のイオダ
イド及びトリフルオロアセテ−１〜。

不活性雰囲気下に、上記工程Ｂで得られた生成物１００
ｍｇと水１（）％を含む０．６ｄのトリフルオロ酢酸と
を混合し、かつ２０℃に′Ｃ１時間撹拌した。次いで、
６ｍＱの二ローチルを撹拌しながら２０　’Ｃにて１０
分間かけで添加し、その後に生成した沈澱物を分離し、
洗浄し、乾燥させて６５ｍｇの求める生成物を得た。Ｒ
ｆ＝１．７（２部のアセトンと１部の水との混液により
溶出）。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、　　２２２ｎｍ　Ｅ１１＝　４０３　５＝３１
，５００変曲点　　２４６止Ｅ１１＝　２３６ Ｍａｘ、３０８ｎｆｎＥ１１−２５０　　ε＝１９，５
００Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール＋０．１Ｎ　Ｈ
Ｃｆ２　’）変曲点　　２１８ｎｍ　Ｅ１１＝　３４０
−　ε＝２６，５００Ｍａｘ、　　　２５３ｎｍ　Ｅ１
１＝　２６０　　ε＝２０，３００変曲点　　３００ｎ
ｍ　Ｅ１１＝　２３７Ｍａｘ、３ｔ２ｎｍＥ１１＝２４
４　５＝１９，０００チア−１−アザビシクロ　４．２
．Ｏコオクト一工程　Ａ： （１，１−ジメチル）エチル（６Ｓ）（７Ｓ）−７−［
［２−（２−（トリフェニルメチル−アミンチアゾール
−４−イル）−２−（Ｚ）−メ］・キシイミノアセチル
］−アミノ］−３−（３−イオド）−プロペン−１−（
Ｅ）−イル）−８−オキソ−４−チア−１−アザビシク
ロ［４，２，０］オクト−２−エン−３−イル］−２−
カルボキシレート。

不活性雰囲気下に、１８４．５ｍｇの（１，１−ジメチ
ル）エチル（６Ｓ）（７３）　−７−［、［２−（２−
トリフェニルメチル−アミノチアゾール−４−イル）−
２−（Ｚ）−メトキシイミノアセチル］−アミノ］−３
−（３−ヒドロキシ）−プロペン−１−（Ｅ）−イル）
−８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，
０１オクト−２−工ンー２−カルボキシレートと４ｄの
塩化メブ・レンと１２０ｍｇのデトラブチルアンモニウ
ムイＡダイトと１１６μｉの２，６ルチジンとを混合し
、かつ反応混合物を一７０°Ｃにした。この温度にて０
．６０９ミリモリ／ｄの摘°定値を有する塩化メチレン
中の無水トリフルオロメタンスルホン酸の溶液６２０μ
ｅを一７０℃にて撹拌しながら１０分間かけて添加した
。温度を２０℃まで戻し、塩化メチレンを減圧下での蒸
溜により除去して黄色固体を得、これは粗製の沃素化さ
れた求める誘導体に相当し、これを直ちに次の工程にそ
のまま使用した。

工程　Ｂ　：　２−［［３−［７−［［２−（２−トリ
フェニルメチルアミノ−４−チアゾリル）−（メトキシ
イミノ）−アセチル］−アミノ］−２−ｔ−ブトキシカ
ルボニル］−８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ
［４，２，０］オクト−２−エン−３−イル］［２−（
Ｅ）−プロペニル］−チオ］−１−メチル　ピリジニウ
ム（６Ｓ＞（７Ｓ）（Ｚ）のイオダイド。

不活性雰囲気下に、３２０ｍｇの前記工程Ａで得られた
沃素化誘導体と７ｍｆｆのアセトニトリルと６０ｍｇの
１−メチル−ピリジン−２−チオンとを混合し、２０℃
にて１．５時間撹拌しかつ全体的解離を観察した。′ｅ
ｃ圧下での蒸溜により濃縮乾固した後の残留物をシリカ
上でクロマトグラフにかけ、塩化メチレンとメタノール
との混液（９／１　）で溶出させて２５１ｍＣｌの求め
る生成物を得た。Ｒｆ＝０．４（塩化メチレンとメタノ
ールとの混液（９／］で溶出）［α］　０＝−１２０”
　　（Ｃ＝　０．５％クロロホルム）Ｕ、Ｖ、スペクト
ル：（エタノール） 変曲点　　２３８ｎｍ　Ｅｌｌ　−９８４Ｍａｘ、　　
３１５ｎｍＥ１１＝２３８　　ε＝２３，２００Ｕ、Ｖ
、スペクトル：（エタノール＋０．１Ｎ　ＨＣｌ）変曲
点　　２４０ｎｍ　Ｅ１１＝　３０７Ｍａｘ、　　２７
５ｎｌｌｌＥ１１＝２５１　　ε＝２４，４００Ｍａｘ
、３０３ｎｍ　Ｅ１１＝　２４４　　ε＝２３，７００
変曲点　　３２０ｎｍ　Ｅ１１＝　２３３　６＝２２，
７００工程　Ｃ： ２−［［３−［７−［［（２−アミノ−４−チアゾリル
）（メトキシイミノ）−アセチル］−アミノ］−２−カ
ルボキシ−８−オキソ−４−チア−１−アリ“ビシクロ
−［４，２，Ｏ］７Ｊり１〜−２−エン−３−イル］−
２−（Ｅ）−プロペニル」−チオ］−１−メチル　ピリ
ジニウム（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）（トリフルオロアセテ
−１〜）のイオダイドとトリフルオロアセデートとの１
：１混合物。

不活性雰囲気下に、２１８ｍｇの前記工程Ｂで得られた
生成物と水１０％を含む１．１ｒＩｄｌのトリフルオロ
酢酸とを混合しかつ２０℃にて５０分間撹拌した。次い
で、５ｒＩＩＩｔのエーテルを撹拌しながら１時間かけ
て沈澱物が固化するまで徐々に添加し、次いでこれを分
離し、洗浄し、減圧下で乾燥させて１６０ｍｇ。

の求める一生酸物を得た。Ｒｆ＝　０．３５　　（アセ
トンと水との混液（２／１　）で溶出）。

工程　Ｄ： ２−［［３−［７−［［（２−アミノ−４−チアゾリル
）−（メトキシイミノ）−アセチル］−アミノ］−２−
カルボキシ］−８−オキソ−４−チア−１−アザビシク
ロ−［４，２，０］オクト−２−ニンー３−イル］−２
−（Ｅ）−プロペニル］−チオコー１−メチル　ピリジ
ニウム（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）の分子内塩。

不活性雰囲気下に、１６０ｍｇの前記工程Ｃで得られた
生成物と１．５戒のアセトニトリルと１　ｍ（ｌのトリ
エチルアミンカーボネートとを混合し、かつＨ，Ｐ、Ｌ
、Ｃ，により長さ６７ｃｍかつ直径２７ｍｍのカラム（
ＲＰ１８を充填）で精製した。次の混合物で溶出を行な
ったニ アセトニトリル％　　　水　％ ２０　　　　　　８０　　・　〜 求める生成物を含有するフラクションを合し、濃縮乾固
させて４５．５ｍｇの求める生成物を得た。

ｍ、Ｄ、約２００℃（分解）、　Ｒｆ’＝　０．３５　
　（アセＵ、Ｖ、スペクトル：（エタノール＋０．１Ｎ
　ＨＣｅ）変曲点　　２４０ｎｍ　Ｅ　１１　＝　３３
７　　ε＝　１８．４００Ｍ　ａ　ｘ　、２８０ｎｍ　
　Ｅ　１１＝　　４５１　　ε＝２４，６５０変曲点　
　３２０ｎｍ　Ｅｌｌ　＝　２４２　６　＝１３，６０
０８５ｍｇの１−ｔ−ブチルオキシアセチル−ピリジン
−２−チオン左３００ｍ（Ｊの１，１−ジメチルエチル
−７−［［（２−（トリチルアミノ−Ａ−チアゾール）
（メトキシイミノ）−アセチル−アミノコ−８−オキソ
−４−チア−１−アザビシクロ［４゜２．０］オクト−
２−エン−３−イル］−３−イオドメチルー２−カルボ
キシレートとから出発して例１の工程２と同様に操作を
行ない、２２２ｍｇのまだ保護されている生成物のイオ
ダイドを１ｑだ。

この化合物２０４　ｍ　ｇを例２の工程２と同様に処Ｊ
！口して４５ｍｇの求める生成物を得た。

Ｕ、Ｖ、スベク１〜ル：（エタノール）Ｍａｘ、２２１
ｎｍ　Ｅ１１＝　３８０　　ε＝３０，７００Ｍａｘ、
　　３０５ｎ＋ｎ　ＩＥ’１＝　２２５　　＋Ｅ＝１８
，１００Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール＋〇、ＩＮ
　ＨＣｊ　）Ｍ　ａ　Ｘ　、　　２２０ｎｍ　Ｅ　１１
＝　３４５　　ε＝　２７．８００Ｍａｘ、２５６ｎｍ
　Ｅ１１＝　　２６３　　ｅ　−２１，２００変曲点　
　２８４ｎｍ　Ｅｌｌ　−２３０変曲点　　２８３ｎｍ
　Ｅ１１＝　２２９　６−１８，５００変曲点　　３０
８ｎｍ　Ｅ１１＝　２１０の分子内塩 ７８ｍｇの１−プロピル−ピリジン−２−チオンと１７
０ｍ（ｌの生成物とから出発して例１６と同様に操作す
ることにより１７０ｍｇの生成物を得、これを０．９７
のアセトニ１〜リル及び０．９７のトリエチルアミンカ
ーボネートの（Ｍ）溶液とに溶解しかつ順次に５．１０
．１５及び２０％のアセ１〜二１〜リルを含む水溶液で
溶出させることによりＩ−１，Ｐ、Ｌ、Ｃ。

クロマトグラフィーで精製した。興味あるフラクション
を凍結乾燥させて７１ｍｇの求める生成物を得た。

Ｕ、Ｖ、スペクトル＝（エタノール） 変曲点　　２３０ｎｍ　Ｅｌｌ−３８８変曲点　　２４
９ｎｍ　Ｅ１１＝　２９５Ｍａｘ、２９５ｎｍＥ１１＝
３００　　ε＝ｉｅ、ｓｏ。

変曲点　　３１０ｎｍ　Ｅ１１＝　２６５ｕ、Ｖ、　ス
ペクト／Ｌ、　：　（エタ／−ル＋０．ＩＮ　）ｌｃｊ
　）変曲点　　２２２止Ｅ１１＝　３２８ 変曲点　　２６６ｎｍ　Ｅ１１＝　３０４変曲点　　２
７３ｎｍ　Ｅ１１＝　３０６Ｍａｘ、　　２８４ｎｍ　
Ｅ１１＝　３２２　　ε＝１７，７００変曲点　　２９
０ｎｍ　Ｅ１１＝　３１８ｕ、Ｖ、　スベクｌ〜／Ｌ、
　：　（１−タ／−／Ｌｚ＋０．ＩＮ　ＩＩｃＺ　）変
曲点　　３０９ｎｍ　Ｅ１１＝　２７８８５ｍｇの１−
（２−プロペニル）−２−ピリジン−チオンから出発し
て例１７におけると同様に操作することにより、６０ｍ
ｇの凍結乾燥した生成物を得た。

Ｕ、Ｖ、スペクトル＝（エタノール） 変曲点　　２３０ｎｍ　Ｅ１１＝　３９９Ｍａｘ、　　
２９１ｎｌｌｌ　Ｅ１１＝　３１３　　ε＝１７，１０
０Ｕ、　Ｖ、　スヘ’）　トＪＬｔ　：　（エタ／−／
し＋０．ＩＮ　ＩＩＣｊ！　）変曲点　　２３０ｎｍ　
Ｅ１１＝　３０９変曲点　　２７０ｎｍ　Ｅ１１＝　３
２３Ｍａｘ、２８４ｎｍ［１１＝３４５　　ε＝１９，
０００変曲点　　３１０ｎｍ　Ｅ１１＝　２６４−１−
アザビシクロ［４，２，０１オクト−２−エン−３−イ
ル］−メチル］−チオ］−７−メチル（チェノ／２．３
−ｂ）ピリジニウム（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）　トリフル
オロアセテートのトリフルオロアセテート ７−メチル−チェノ［２，３−ｂ］ピリジン−６−チオ
ンから出発して例１６におけると同様に操作することに
より、９３ｍｇの求める生成物を得た。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：　（エタノール）Ｍａｘ、２３９
ｎｍＥ１１＝３６８　．５＝２９，６００Ｍａｘ、　　
３００ｎｍ　Ｅ１１＝　２０１　　ε＝１６，２００Ｍ
ａｘ、３４２ｎｍ　Ｅ１１＝　１４１　　ε＝１１，４
００１、Ｊ、Ｖ、スペク１〜ル：（コニタノール＋０．
ＩＮ　ｌｌｃｇ　）ＭａＸ、　　　２４７ｎｍ［１１＝
３３９　５＝２７．３０（ＩＭａｘ、　　　２８６ｎ１
７１　　Ｅ１１＝　　２１７　　ε＝１７，５００Ｍａ
ｘ、　　　３４３ｎｍ　Ｅ１１＝　　１５’Ｏε＝＝１
２，１００１０９ｍｇの６−メチルチオ−１−メチル−
ピリジン−２−チオンから出発して例１７におけると同
様に操作することにより、８５ｍｇの求める生成物を得
た。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール〉 Ｍａｘ、　　２２５ｎｍ　Ｅ’１＝　４６２　　ε＝２
６，２００変曲点　　２６０ｎｍ　Ｅ１１＝　２５４Ｍ
ａｘ、　　２９１ｎｍ　Ｅ１１＝　２７３　６＝１５，
５００Ｍａｘ、３５０ｎｍ　Ｅ１１＝　２１４　５＝１
２，１００Ｕ、Ｖ、スベク１〜ル：（エタノール）変曲
点　　３８０１１ｍ　Ｅ１１＝　　５９ＩＪ、　Ｖ、　
スＡｍりｌ〜／Ｌ、　：　（エタ／−／Ｌ、＋０．ＩＮ
　ＩＩ（１）　）Ｍａｘ、　　２２５ｎｍＥ１１＝、、
、３７０　　ε＝２１，０００Ｍａｘ、２６１ｎｍＥ１
１＝３２７　　＋Ｅ＝１８，５００Ｍ　ａ　Ｘ　、２８
３ｎｍ　Ｅ　１１＝　３０４　　ε＝　１７，２００Ｍ
ａｘ、３５０ｎｍｌ：１１＝２２３　　ε＝１２，６０
０７３ｍｇの１−メチルチオメチル−２−ピリジン−チ
オンから出発して例１７におけると同様に操作すること
により、６５ｍｇの求める生成物を得た。

ｍ、　ｐ、　　２００℃。

（）、＼／、スペク１〜ル：（エタノール）変曲点　　
２３０ｎｍ　Ｅ１１＝　３９５　　ε−２２，４０（＋
変曲点　　２！ｉ０ｎｍ　Ｅ１１＝　２６０Ｍａｘ、　
　２９１ｎｍ　Ｅ１１＝　３１１　　ε＝１７，６００
変曲点　　３３０ｒｌｌｌｌ　Ｅ１１＝　１４０変曲点
　　３７０ｎｍ　Ｅ１１＝　　４４Ｕ、Ｖ、スペクトル
：（エタ／　−ル＋Ｏ，ＩＮ　ＨＣｌ２　）変曲点　　
２６６ｎｍ　Ｅ１１＝　３１８変曲点　　２７５ｎｍ　
Ｅ１１＝　３３３Ｍａｘ、２８５ｎｍＥ１１−３５０　
５＝１９，８００変曲点　　３１５ｎｍ　Ｅ１１＝　２
２５変曲点　　３γＯｎｍ　Ｅ１１＝　　４５７６ｍｇ
の１−（１−メチル）エヂルー４−ごリジン−チオンか
ら出発して例１７にお【プると同様に操作することにに
す、９５ｍｇの求める生成物を（ｑた。

Ｕ、Ｖ、スペクｌ−ル：（メタノール）変曲点　　２２
２ｎｍ　Ｅ’１＝　４３４Ｍａｘ、２３０ｎ＋ｎ［５１
１＝４６１　　ε＝２５，３００変曲点　　２９６ｎｍ
　Ｅ　１１＝　４４１Ｍ　ａ　Ｘ　、　　３０６ｎｍ　
Ｅ　１１＝　４７７　　ε＝２６，２００変曲点　　３
４０ｎｍ　Ｅ１１＝　　７９Ｌ１．　Ｖ、　スペクトル
：　（エタ／−ル＋０．１Ｎ　Ｈ（Ｊ　）ＭａＸ、２３
０ｎｍ　Ｅ１１＝　４６０　５ニー２５，２００変曲点
　　２７０ｎｍ　Ｅ１１＝　３０９Ｍａｘ、３０３ｎｍ
　Ｅ１１＝　５１８　　ε＝２８，４００炭酸カリウム
なしにａ　ｏｔｎｇの１−メヂルーシクロペンタノ−（
ｂ）−４−チオピリドンから出発し、例６にｄ３けると
同様に操作を行なった。シリカ上でクロマ１〜グラフに
かけた後、塩化メヂレンとメタノールとの混液（９５／
　５）　、次いで（９０／１０）により溶出ざぜて３７
０ｍ（ｌの保護された生成物のイオダイドを得た。この
化合物３１５ｍｇを水３３％を含む３．１５ｒｒＩＩｌ
の蟻酸で５０℃にて８時間処理した。濾過した後、この
濾液を減圧下で濃縮乾固させ、残留物を３．１５ｄの酢
酸エチル中で１時間撹拌した。

分離することにより２０６ｍｇの求める生成物を得た。

［α］Ｄ＝−４４°＋１．５°（Ｃ−０，６％ＤＭＳＯ
）Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） 変曲点　　２１６ｎｍ　Ｅｌｌ　−４９７６−３４，２
００変曲点　　２３１ｎｍ　Ｅ１１＝　４２２Ｍａｘ、
　　２９２ｎｍｌ：１１＝４０７　６−２８，０００変
曲点　　３３０ｎｍ　Ｅ１１＝　　９１ｕ、Ｖ、　スペ
クト／ｌｚ　：　（エタ／−ル＋０．ＩＮ　ＨＣｊ　）
Ｍａｘ、　　２１９ｎｍ（：１１＝４４３　　ε＝３０
，５００Ｍａｘ、　　２９９ｎｍＥ１１＝４２７　　ε
＝２９，４００ゾリル）（メトキシイミノ）−アセチル
　−アミ８０ｍｇの１−［（メトキシカルボニルーピリ
ジンー２ーチオンから出発して例１６におけると同様に
操作することにより、８５ｍｇの求める生成物を得た。

Ｕ．Ｖ．スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ．２１８ｎｍ　Ｅ１１＝　３４２　　ε＝２８，
１００Ｍａｘ．２９４ｎｍ　Ｅ’１＝　１９６　　ε＝
１６，１００変曲点　　３５０ｎｍ　Ｅ１１＝　　７０
Ｕ．Ｖ．スペクトル＝（エタノール＋０．１ＮＨＣで）
Ｍａｘ．２１８ｎｍ　Ｅｌｌ　−　３０８　　ε＝２５
，３００Ｍａｘ，　　　　２６０ｎｍ　　Ｅ１１＝２３
２　　　ε＝１９，０００ＭａＸ．２８４ｎｍ　Ｅ１１
＝　２２３　　ε＝１８，３００変曲点　　３６０ｎｍ
　Ｅｌｌ　＝　　４３例　２５　：　４　−　［［［７
−［［２　−　（２−アミノ−４１−（２−フルオロエ
チル）−ピリジン−４−チオンから出発して例２３にお
けると同様に操作を行なうことより、１２８ｍｇの求め
る生成物を得た。

ｍ，　ｐ．２１０℃。

［α］Ｄ＝−３９．５°（ｃ＝０．６％ＤＭＳＯ）Ｕ．
Ｖ．スペクトル＝（エタノール） Ｍ　ａ　Ｘ　、２２１ｎｍ　Ｅ　１１＝　４９３　　６
　−３３，５００変曲点　　２３０ｎｍ　Ｅ１１＝　４
５０Ｍ　ａ　Ｘ　、　　３０８ｎｍ　Ｅ　１１＝．３９
９　　６　＝２７，２００Ｕ．Ｖ．スペクトル：（エタ
ノール＋０．１Ｎ　ＨＣで）Ｍ　ａ　Ｘ　、　　２２２
ｎｍ　Ｅ　１１＝　４５８　　ε＝３１，０００変曲点
　　２７０ｎｍ　Ｅ１１＝　２４８Ｍａｘ，　　２６０
ｎｍｌ：１１＝４２１　　ε＝２８，６００例　２６　
：　４−　［［［７−［［２−アミノ−４−デア１１３
１＋１（Ｊの１−［（メトキシカルボニル）−メチル］
ーピリジンー４ーチオンから出発して、例２４における
と同様に操作することにより１　３０ｍｇの求める生成
物を得た。

Ｕ．Ｖ．スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ．２２７ｎｍＥ１１＝３７９　　ε＝３０，６０
０Ｍａｘ，　　３０９ｎｍ　Ｅ１１＝　４０６　　、５
＝３２，７００ｕ．Ｖ．　スペクトル：（エタ／−ル＋
０．ＩＮ　ＨＣｊ　）Ｍａｘ．２２７ｎｍＥ１１＝３２
６　　＋５＝２５，３００Ｍａｘ，　　２６４ｎｍ　Ｅ
１１＝　２３４　　ε＝１８，９００Ｍａｘ．３０８ｎ
ｍ　Ｅ１１＝　３９３　　ε＝３１，７００例　２７　
：　４−　［［７−［［２−アミノ−４−ヂアゾリル）
（メ１〜キシイミノ）・−アセデル　−アミ４５ｍｇの
１−［（アミノチオカルボニル）−メチルコピリジン−
４−チオンから出発して例２３におけると同様に操作す
ることにより、１１６ｍｇの求める生成物を得た。

［α］Ｄ＝−６０”±１．５°Ｃ（ｃ＝　０．６％０Ｍ
５Ｏ）Ｕ、Ｖ、スペクトル＝（エタノール） Ｍａｘ、　　２２１ｎｍＥｉ１＝５００　　ε＝３ｓ、
ａｏ。

Ｍａｘ、２６５ｎｍ　Ｅ１１＝　２６３　６＝２４，３
００変曲点　　３０１ｎｍ　Ｅ１１＝　３４３Ｍａｘ、
　　３０９ｎｍ［：１１＝３６６　．５＝２５，９００
Ｕ、　Ｖ、　スペクトル：　（ＩＪ／−ル＋０．ＩＮ　
ＨＣｊ　）Ｍａｘ、　　２２３ｎｍ　Ｅ１１＝　４６２
　　ε＝３２，７００Ｍａｘ、２６９ｎｍ　Ｅ１１＝　
３４８　　、！Ｅ＝２４，６００変曲点　　３０２ｎｍ
　［’１１＝　３８０Ｕ、Ｖ、スペク１〜ル：　（エタ
／−ＪＬｚ＋０．ＩＮ　Ｉｔ（１！　）Ｍａｘ、３０９
ｎｍＥ’１＝３８６　．５＝２７，３００１５０１１１
（１（７）１　、１−ジメチルエチル−７−［（（２−
アミノ−４−チア゛ゾリル）　（１−カルボキシ−１−
メチルエトキシ）−イミノアセチル］−アミノ］−８−
オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［４，２，０］オ
クト−２−エン−３−イル］−３−イオドメチル２−カ
ルボキシレートから出発して例２におけると同様に操作
することにより、７８ｍｇの求める生成物を得た。

Ｕ　ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、　　　　　　２２７ｎｍｌ三　１１＝　　　３
６２　　　　ε　＝　３０，６００Ｍａ　Ｘ　、　　３
０５ｎｍ　Ｅ　１１＝　３４０　　ε＝　２８．８００
Ｕ、＼１．スペク１〜ル：（エタノール＋０．１Ｎ　Ｈ
Ｃｊ　）Ｍａｘ、　　　２２５ｎｍ　　Ｅ１１＝　　３
０６　　　ε＝２５，９００変曲点　　２６７ｎｍ　Ｅ
１１＝　２２９Ｍ　ａ　Ｘ　、３００ｎｍ　Ｅ　１１＝
　３５７　６　＝３０，２００１−メチル−ピリジン−
２−チオンから出発して例２８におけると同様に操作す
ることにより、８９ｍｇの求める生成物を得た。

Ｕ、Ｖ、スペクトル＝（エタノール４０．１Ｎ　ＩＩ（
１！　）変曲点　　２１８１１ｍ　Ｅ１１＝２６５　　
ε＝２２，４００ＭａＸ、　　　２５５ｎｍＥ１１＝２
２１　　ε＝　１８．７００変曲点　　２６７ｎｍ　Ｅ
１１＝　２０９変曲点　　２８６ｎｍ　Ｅ１１＝　２０
７Ｍａｘ、　　　２９４ｎｍＥ１１＝２０９　６＝１７
，７００変曲点　　３０７ｎｍ　Ｅ１１＝　２０２キノ
リジン−４−チオンから出発して例１６におけると同様
に操作することにより、１１２．６ｍ（ｌのＵ、Ｖ、ス
ペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、　　２１６ｎｍＥ１１＝５７６　．５＝４５，
０００変曲点　　２２７ｎｌｌｌ　ｌ三１１＝　４８６
変曲点　　２４０ｎｍ　Ｅ１１＝　４００変曲点　　２
６２ｎｍ　Ｅ１１＝　３１１Ｍａｘ、　　２９８ｎｍＥ
１１＝２７５　　ε＝２１，６００Ｍａｘ、３４８ｎｍ
　Ｅ１１＝　２９０　．５＝２２，８００ｕ、Ｖ、　ス
ペクト／Ｌ／　：　（エタ／−／Ｌｚ＋０．ＩＮ　ＨＣ
ｊ２　）Ｍ　ａ　Ｘ　、　　２１５ｎｍ　Ｅ　１１＝　
５２０　　ε＝４０，８００・変曲点　　２２８ｎｍ　
Ｅ１１＝　４２０変曲点　　２５２ｎｍ　Ｅｌｌ　−３
８４Ｍ　ａ　Ｘ　、　　２６３ｎｍ　Ｅ　１１＝　３９
９　１：　＝３１，３００Ｍａｘ、２９７ｎｍＥ１１＝
２９４　１５＝２３，１００Ｍａｘ、３４８ｎｍＥ１１
＝３２１　５＝２５，２００変曲点　　２８８ｎｍ　、
　３０８ｎｍ　。

０］オクト−２−エン−３−イル］−メチル　−チオ］
−１−メチル　ピリジニウム（トリフルオイド ２００ｍ（ｌの１，１−ジメチルエチルー７−［［（２
−トリチルアミノ−４−チアゾリル〉−（シクロプロピ
ル−メトキシイミノ）−アセチル］−アミノ］−２−カ
ルボキシ−８−オキソ−４−チア−１−アザビシクロ［
４，２，０］オクト−２−エン−３−イル］−３−イオ
ドメチル］−２−カルボキシレートと４０ｍｇの１−メ
チル−４−チオビリジノンとから出発して例１６におけ
ると同様に操作することにより、４７ｍｇの求める生成
物を得た。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、　　２２７ｎｍＥ１１＝４０４　５＝３２，４
００ＭａＸ、　　３０５ｎｍ　Ｅ１１＝　３９４　５＝
３１，６００Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタ／−／Ｌ、＋
０．ＩＮ　ＨＣｆ２　）Ｍａｘ、２２６ｎｍＥ１１＝３
６４　　ε＝２９，２００変曲点　　２６０ｎｍ　Ｅ１
ｔ＝　２３４変曲点　　２７４ｎｍ　Ｅ１１＝　２７２
Ｍａｘ、３００ｎｍ［：１１＝４２７　　ε＝３４，０
００例　３２　：　４−［［［７−［［（２−アミノ−
４−ヂｉａｏｍａの１，１−ジメチルエチル−７−（［
（２−トリチルアミノ−４−チアゾリル）−（２−ブロ
モ−２−プロペニル−オキシイミノ）−アセチル］−ア
ミノ］−８−オキンー４−チア−１−アザビシクロ［４
，２，０］オクト−２−エン−３−イル］−３−イオド
メチル］−２−カルボキシレートから出発して例３１に
おけると同様に操作することにより、７５ｍｇの求める
生成物を得た。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、　　２２７ｎｍＥ１１＝３５４　５＝３０，７
００Ｍａｘ、　　３０５ｎｍＥ１１＝３２２　．５＝２
７，９００Ｕ、　Ｖ、　スヘ’７１−／Ｌ／　：　（１
り／−／Ｌ／＋０．１Ｎ　ｔｌｃｆｆ　）ＭａＸ、　　
　２２３ｎｍ　　Ｅ１１＝　　３１８　　ε−２７，６
００変曲点　　２６２ｎｍ　Ｅ１１＝　２２３Ｍａｘ、
３００ｎｍＥ１１＝３：Ｉｉ　　ε＝２９，１００１．
１−ジメチルエチル−７−［（（２−トリチルアミノ−
４−チアゾリル）−（フルオロエトキシイミノ）−アセ
チル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−
チア−１−アザビシクロ［４，２，０１オクト−２−エ
ン−３−イル］−３−イオドメチル−２−カルボキシレ
ートから出発して例１２におけると同様に操作すること
により、８１ｍｇの求める生成物を得た。

（ノ、ｖ、スペク１〜ル：（エタノール）Ｍａｘ、２２
０ｎｍ［１１＝３３／Ｉ　　Ｅ＝３１．４０（ＩＭａｘ
、３０９ｎｍ　Ｆ’１＝　２２６　　ε＝２１，２００
Ｕ、Ｖ、スベク１〜ル：（エタ／−／Ｌ、＋０．ＩＮ　
ＩＩＣ！　）変曲点　　２１８ｎｍ　Ｅ１１＝　３０２
変曲点　　２５０ｎｍ　Ｅ１１＝　２２８Ｍ　ａ　Ｘ　
、３０５ｎｍ　Ｅ　１１＝　２１７　　Ｆ、　＝’２０
，４００４２６ｍｇの１．１−ジメチルエチル−７−［
［（５−ドリチルアミノー１．２．４−チアジアゾール
−３−イル）−（メトキシイミノ）−アセチル］−アミ
ノ］−３−イオドメチル−８−オキソ−４−デア−１−
アザビシクロ［４，２，０］オクト−２−エン−３−イ
ル］−２−カルボキシレート（６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）と
４ｒｎｌの乾燥アセトニトリルと６５ｍｇの１−メチル
−４−ピリジン−チオンとを室温にて３０分間撹拌し、
かつ３０℃にて減圧下に蒸発乾固させた。残留物をシリ
カ上でクロマトグラフにかけ、塩化メチレンとメタノー
ルとの混液（９５／　５）で溶出させて４２８ｍｇの保
護生成物を得た。この保護生成物３９５ｍｇをアニソー
ル１０％を含む７．２ｄのトリフルオロ酢酸と１０分間
撹拌し、次いで濾過した。濾液を激しく撹拌しながら７
．５ｄのイソプロピルエーテルに滴加しかつ遠心分離す
ることにより２５８．５ｍｇの粗生成物を得た。

リクロソルブでのＨ，Ｐ、Ｌ、Ｃ，クロマトグラフィー
の後、水とアセトニトリルとの混液（８５／１５）で溶
出させ、次いで凍結乾燥させることにより１３０ｍｇの
求める生成物を得た。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍ　ａ　Ｘ　、２３０ｎｍ　Ｅ　１１＝　４８５　５　
＝２５，３００変曲点　　２９５ｎｍ　Ｅ１１＝　４１
１Ｍａｘ、３０５ｎｍＥ１１＝４４１　５＝２３，００
０変曲点　　３４０ｎｍ　Ｅｉ１＝　　６３Ｕ、＼／、
スベク１〜ル：（エタノール＋０．１Ｎ　ＩＩｃｅ　）
Ｍａｘ、　　　２３０ｎｍＥ１１＝５２２　６−２７，
２００Ｍａｘ、３０５ｎｍ　Ｅ１１＝　　４９１　　ε
＝２５，６００１１７．８（］の１，１−ジメチルエチ
ル−７−［［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）（メトキシイミノ）−アセチル］−アミ
ノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−チア−１−ア
ザビシクロ［４，２，０］オクト−２−エン−３−イル
］−３−クロルメチル−ボキシレートと５４．２ｍｇの
沃化ナトリウムと３０．２ｎｇの１−メチル−２−ピリ
ジン−チオンと１．７ｒＩ！ｆ！の乾燥アセ１〜ニトリ
ルとを５０℃にて１時間撹拌した。

濃縮乾固させた後、残留物をシリカ上でクロマ１〜グラ
フにかけ、塩化メヂレンーメタノールの混液（７５／２
！ｉ）で溶出させて１２７ｍｇの１，１−ジエチルコ〕
デル−２−　［ｃｃ７−ｔｒ　（５−アミノ−１，２。

４−デアジアゾール−３−イル）−（メトキシイミノ）
−アセチル］ーアミノ］−２−オキソ−４−チア−１−
アザビシクロ［４．２．０］−オクト−２−エン−３−
イル］ーエチル］ーチオ］−１−メチル　ピリジニウム
−２−カルボキシレートのイオダイドを得た。この化合
物１２６ｍｇをアニソール１０％を含む３ＩＩ１１のト
リフルオロ酢酸と共に１５分間撹拌し、不溶物質を濾去
し、濾液を激しく撹拌しながら３０Ｗｔｌのイソプロピ
ルエーテルに滴加した。１０４ｍｇの粗生成物を遠心分
離によって得た。

リクロソルブによってクロマトグラフを行ない、水とア
セトニトリルとの混液（８５／１５）で溶出させて、凍
結乾燥した後に１　９ｍｇの求める生成物を回Ｕ、Ｖ、
スペク１〜ル：（エタノール）ＭａＸ、　　２３０ｍｍ
［１１＝４６４　５＝２４，２００Ｍａｘ、２９２ｎｕ
ｎ　Ｅ’１＝　２７９　５＝１４，６００変曲点　　３
０８ｍｍ　Ｅ１１＝　２５０Ｕ、Ｖ、、＜ペク１〜／Ｌ
ｚ：（エタノール＋０．ＩＮ　１１ｃｊ　）ＭａＸ、２
３１ｍｍＥ１１＝４７６　　ε＝２４，８００変曲点　
　２９６ｍｍ　Ｅ１１＝　２６６Ｍａｘ、　　３１０ｍ
ｍ　Ｅ１１＝　２９２　．５＝１５，２００８０ｍｃ）
の１−エチル−３−メチル−４−ピリジンチオンから出
発して例１７におけると同様に操作することにより、６
６ｍｇの求める生成物を（ｑた。

（〕、＼１．スペクトル：（エタノール＋（１，ｌＮ１
１ｃり）Ｍａｘ、　　　２３０ｍｍＥ１１　＝４２５　
　ε＝２３，４００変曲点　　２７６ｍｍ　Ｅ１１＝　
３６８Ｍａｘ、　　　３００ｍｍ［：１１＝！Ｍ５　　
ε＝３１，６００２６ｍｇのＮ−メチルピリジン−２−
チオンから出発して工程Ｃの（１）により例５と同様に
操作して、１０４ｍ（ｌの求める生成物を得た。

Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、２２０ｍｍＥ１１＝３９３　　ε＝２９，６０
０Ｍａｘ、　　３０１ｍｍ　Ｅ１１＝　１８０　　ε−
１３，６００Ｕ、Ｖ、スベク１〜ル：（エタノール＋０
．１Ｎ　ＩＩｃｊ　）Ｍａｘ、　　　２２０ｍｍ［’１
１＝３４９　　ε＝２６，３００変曲点　　２５５ｎｌ
ｌｌＥ１１＝　１８３Ｍａｘ、　　　　２９１ｍｍ　　
Ｅ１１＝　　２０１　　．５＝１５，１００３９ｍｇの
１，３−ジメチル−４−チオー−ピリジノンから出発し
て例２３と同様に操作することにより、１１６ｍ（Ｊの
求める生成物を得た。

［ａ　］　ｏ　＝　　２２’±１．５℃（ｃ＝０．５％
ｏｕｓｏ　）Ｕ、Ｖ、スペクトル：（エタノール） Ｍａｘ、　　２２０ｍｍ　Ｅ１１＝　５３０　　ε＝３
５，１００Ｍａｘ、３０２ｎｍＥ１１＝４２３　　ε＝
２８，０００Ｌノ、＼１．スペクトル：（エタノールイ
（１，１１１Ｉｌｉｅで）Ｍａｘ、　　　２２１ｍｍＥ
１１＝４８９　８＝３２．／ｌ□Ｑ変曲点　　２６４ｍ
ｍ　Ｅｌｌ　＝　２６０変曲点　　２７０ｍｍ　Ｅ１１
＝　２８２Ｍａｘ、　　　２９９ｍｍ　　Ｅ１１＝　　
４５４　　ε＝２０，１００前２０．記載したと同じ技
術を用いることにより、次の化合物を作成した： 内填 ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ＞２５０Ｍ１−ｆｚ６、７
７ｐｐｍ　　　　　　　：チアゾールにおけるＮ５３．
８２１）Ｉ）ｍ　　　　　　　’メトキシイミノにおけ
るＮ　Ｍ　Ｒスペクトル（ＤＭＳＯ＞２！ｉ（ＩＭＩ−
１ｚ４．：＋５−４．７３ｐｐｌｎ　　　：　Ｓの位置
３−αにおけるＣＨ２のＨ ８、８３ｐｌ）ｍ　　　　　　　：キノジリンにあける
Ｈ７．８５−８．２３ｐＤｍ　　　：他の芳香族プロ１
〜ンＩＪ、Ｖ、　スペクトル：　（ＥｔＯＨ）変曲点　
　２１７０ｍ Ｍａｘ、　　３０２ｎｍＥ１１＝２２１　　ε＝１９，
０００変曲点　　３６０ｎｍ Ｕ、　Ｖ、　スペクトル：　（ＥｔＯＨ＋０．ＩＮ　Ｈ
Ｃ乏）変曲点　　２１７ｎｍ ｌｖｌａｘ、２５５ｎｍＥ１１＝２２５　５＝１９，３
００Ｕ、　Ｖ、　スヘクＩ−／１．ｚ　：　（Ｅｔ０１
＋０．ＩＮ　ＩＩｃｊ　）Ｍａｘ、　　　２９４ｎｍ　
Ｅ１１＝　　２１８　　ε＝１８，７００変曲点　　３
１０　ｎ　ｍ Ｕ、Ｖ、　　ス佼りトル：　　（ＥｔＯＨ）Ｍａｘ、　
　２２３ｎｍＥ１１＝３９２　６＝３１，９００Ｍａｘ
、　　３０５ｎｍｌ：１１＝３６５　　ε＝２９，７０
０Ｕ、Ｖ、スペクトルニ（ＥｔＯ）１＋ｏ、　ＩＮ　Ｈ
Ｃｌ）Ｍ　ａ　　ｘ　　、　　　　２２６ｎｍ　　Ｅ　
１１＝　　３１７　　　ε　＝２５，８００Ｍａｘ、　
　２５７ｎｍ　Ｅ１１＝　２０９　　ε＝１７，０００
Ｍａｘ、３００ｎｍ　Ｅ１１＝　３８４　　ε＝３１，
２００例　４２：３−　　［７−［２−（２−アミノ−
４−チアゝリル）−２−（メトキシ−イミノ］−アセチ
ル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキｍ、　ｐ、
約２２０℃。

［α］ｏ＝　　１７℃±２℃（ｃ＝０．６％０８３０　
）イド Ｕ、Ｖ、スペクトル：　（ＥｔＯＨ＞ Ｍａｘ、　　２２６ｎｍＥ１１＝３８５　　ε＝３０，
６００Ｍａｘ、　　３０３ｎｍ　Ｅ１１＝　３５７　．
５＝２８，４００Ｕ、Ｖ、スペクトル：　（Ｅｔ０１１
＋０．１Ｎ　ｆｌｅｅ　）Ｍ　ａ　Ｘ　、　　　２２６
ｎｍビ１１＝　３１２　　ε＝２４，８００変曲点　　
２６３ｎｍ Ｍａｘ、　　２９９ｎｍ　Ｆ１１＝　３７２　　ε＝２
９，６００Ｍａｘ、　　３００ｎｍ　Ｅ１１＝　３８４
　　ε＝３１，２００ｍ、　ｐ、約１９０℃。

［α］ｏ＝　　１７℃±１℃（Ｃ＝０．６％０Ｈ８Ｏ）
メチル−１−（メ１〜キシカルボニル）−メチルＪピリ
ジニウム（６Ｓ）（７３）（７）のイオダイ丘 ｍ、ｐ、約２２０℃。

［α］　　Ｄ＝−１９，５℃±　１℃　（Ｃ＝０．６　
％ＤＨ３Ｏ）変曲点　　２２３ｎｍ Ｍａｘ、２２８ｎｌｌｌＥ１１＝４２７　　ε＝３２，
３００Ｍａｘ、３０３ｒｕ＋＋Ｅ１１＝４２０　　ε＝
２１，９００変曲点　　３５６ｎｍ Ｕ、Ｖ、スペクトル：　（ＥｔＯＨ＋０．１Ｎ　Ｈ（１
！　）Ｍａｘ、　　２２７ｎｍ　Ｅ１１＝　３５７　　
ε＝１８，７００変曲点　　２６６ｎｍ 変曲点　　２７４ｎｍ Ｕ、Ｖ、スペクトル：　（［ｔＯＩＩ＋０．ＩＮ　ｌｌ
Ｃｅ　）Ｍａｘ、　　　　　　２９８ｎｍｌ三　１１　
＝　　　４５７　　　５＝２３，９００ＭａＸ、　　　
２２８ｎｌｌ　Ｅｌｌ　　　　　　６−３１，７００変
曲点　　２４７ｎｍ Ｍａｘ、２９５ｎｍ　Ｅｌｌ　　　　　Ｅ＝１９，５０
０Ｍａｘ、　　３３０ｎｍＥ１１＝　　　　５＝２０，
４００変曲点　　２５８ｎｍ　、　２８８ｎｍ　、　３
０４ｎｍ　０クトー　−エン−３−イル］−メチル］−
チオ］−１−ブロモ　キノリジニウムの分子内塩ＭａＸ
、　　２２４ｎｍＥ１１＝５９１　　ε＝３７，６００
Ｍａｘ、　　２７２ｎｍＥ１１＝３５４　　ε＝２２，
５００Ｍａｘ、　　２９４ｎｍ　Ｅ１１＝　２５２　　
ε＝１６，４００変曲点　　３０１ｎｌｌｌ 変曲点　　３１９ｎｍ ＭａＸ、　　３５３ｎｍＥ１１＝３０４　　ε＝１９，
３００変曲点　　３６０ｎｍ　Ｅ１１＝　３０１Ｕ、Ｖ
、スペクトル：　（ＥｔＯＨ＋０．ＩＮ　ＨＣ（！　＞
Ｍａｘ、　　２２６ｎｍ　Ｅ１１＝　５２９　　ε＝　
３３．６００Ｍ　ａ　Ｘ　、　　２７０ｎｍ　Ｅ　１１
＝　４５１　．５　＝２６，７００Ｍａｘ、　　３２０
ｎｍ　Ｅｊ１＝　２９３　　ε＝ｔａ、ｓｏ。

Ｍａｘ、　　３５３ｎｍ［：１１＝３５４　８＝２２，
５００変曲点　　２６４ｎｍ　、　２９２ｎｍ　、　３
１５ｎｍ　、３５８止。

−エン−３−イル］−メチル　−チオ　−ピリジ／　［
１，２−ａ］ピリジニウム（６Ｓ）（７Ｓ）変曲点　　
２２０ｎｍ 変曲点　　２６０ｎ＋ａ Ｍａｘ、３１０ｎｍ　Ｅ１１＝　３１６　　ε＝２５，
３００ＬＪ、　Ｖ、　スヘクト／Ｌ／　：　（ＥｔＯＨ
＋０．１Ｎ　ＭＣＩり変曲点　　２２０ｎｍ Ｍａｘ、　　２６２ｎｌｌ：１１−３７３　５＝２９，
８００Ｍａｘ、２９００１１　Ｅ１１＝　３１７　５：
＝２５，４００Ｍａｘ、３１６ｎｍ　Ｅ１１＝　３１１
　　ε＝２４，９００例５０： 次の組成を有する注射製剤を作成した：Ａ０例２の化合
物・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・５００ｍｇ賦形薬、布量にする充分量・・
・・・・・・・・・・・・・・・・５ｄＢ０例３の化合
物・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・５００＋！１（１賦形薬、布量にする充分
量・・・・・・・・・・・・・・・・・・５ＩｎＩＩＣ
９例１４の化合物・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・５００ｍｇ賦形薬、布量にする充
分量・・・・・・・・−・・・・・・・・・５ｆｎｆ！
本発明による化合物の薬理学的検討 人ニ

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式：（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒは▲数式、化学式、表等があります▼基（こ
   こで Ｒａは有機基を示す） または基： ▲数式、化学式、表等があります▼（ここでＲｉ及びＲ
   ｊ は同一若しくは異なるものであって水素原子、脂肪族若
   しくは芳香族炭化水素基又は複素環式基を示し、又はＲ
   ｉ及びＲｊはこれらが結合している窒素原子と一緒にな
   って適宜置換された環式基を示す） 又はＲｂ−ＮＨ−基（ここでＲｂは適宜置換された炭素
   環式基若しくは複素環式アリール基を示す）のいずれか
   を示し、 Ｒ＿１Ｂは基： ５／８−ＣＨ＝ＣＨ−３／４＿ｎ＿１ＣＨ＿２−Ｓ−Ｒ
   ＿ｍを示し、ここでｎ＿１は０若しくは１の数値を示し
   かつＲ＿ｍは陽帯電しかつ二重結合した窒素原子を含み
   かつ炭素原子により硫黄原子に結合した不飽和基を示し
   、 Ｒ＿４は水素原子又はメトキシ基を示し、 Ａは水素原子又はアルカリ金属、アルカリ土類金属、マ
   グネシウム若しくはアンモニウムの当量又はアミノ化有
   機塩基の当量を示すか、又はＡはエステル基を示し、又
   はＣＯ＿２ＡはＣＯ＿２＾−基を示し、 ｎ＿２は０、１若しくは２の整数を示す］ に対応する化合物、並びに式（ I ）の化合物と鉱酸若
   しくは有機酸との塩類。
2. （２）式（ I ′）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ′） ［式中、Ｒ′は水素原子又は最高６個の炭素原子を有し
   適宜置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル若し
   くはシクロアルキル基又はアリール基を示し、Ｒ′＿ｍ
   は適宜置換され部分水素化され又は縮合環の１部を形成
   すると共に炭素原子を介し硫黄原子に結合したピリジニ
   ウム基を示し、Ｙはメチン基若しくは窒素原子を示しか
   つＡは請求項１記載の意味を有する］ に対応するｓｙｎ異性体である請求項１記載の化合物。
3. （３）式（ I ″）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ″） ［式中、Ｒ″はメチル、フルオロメチル若しくはジフル
   オロメチル基を示し、Ｒ″＿ｍは基：▲数式、化学式、
   表等があります▼（ここでＡｌｋは１〜４個の炭 素原子を有するアルキル基を示し、Ｒ＿５は水素原子、
   又は１〜４個の炭素原子を有するアルキル若しくはアル
   キルチオ基を示し、この基Ｒ″＿ｍは位置２若しくは４
   により硫黄原子に結合さる）を示しかつＡは請求項１記
   載の意味を有する］ に対応する請求項１又は２記載の化合物。
4. （４）次の化合物： （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−［［［７−［［（２−アミ
   ノ−４−チアゾリル）−［（ジフルオロメトキシ）イミ
   ノ］−アセチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オ
   キソ−４−チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オク
   ト−２−エン−３−イル］メチル］チオ］−１−メチル
   ピリジニウム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−［［［７−［［（２−アミ
   ノ−４−チアゾリル）−［（フルオロメトキシ）イミノ
   ］−アセチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキ
   ソ−４−チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト
   −２−エン−３−イル］メチル］チオ］−１−メチルピ
   リジニウム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）２−［［［７−［［（２−アミ
   ノ−４−チアゾリル）−［（フルオロメトキシ）イミノ
   ］−アセチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキ
   ソ−４−チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト
   −２−エン−３−イル］メチル］チオ］−１−メチルピ
   リジニウム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−［［［７−［［（２−アミ
   ノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシ）イミノ］−ア
   セチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４
   −チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト−２−
   エン−３−イル］−メチル］チオ］−１−エチル−３−
   メチルピリジニウム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−［［［７−［［２−（２−
   アミノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシ）イミノ］
   −アセチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ
   −４−チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト−
   ２−エン−３−イル］−メチル］チオ］−１−エチル−
   ３−ジチルピリジニウム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−［［［７−［［（２−アミ
   ノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシ）イミノ］−ア
   セチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４
   −チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト−２−
   エン−３−イル］−メチル］チオ］−１，３−ジメチル
   ピリジニウム、 （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−［［［７−［［２−（２−
   アミノ−４−チアゾリル）（メトキシ）イミノ］−アセ
   チル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オキソ−４−
   チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト−２−エ
   ン−３−イル］−メチル］チオ］−１−メチル−５，６
   −ジヒドロピリジニウム である分子内塩又は鉱酸若しくは有機酸との塩の形態で
   ある請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
5. （５）次の化合物： （６Ｓ）（７Ｓ）（Ｚ）４−［［［７−［［（２−アミ
   ノ−４−チアゾリル）−［（ジフルオロメトキシ）イミ
   ノ］−アセチル］−アミノ］−２−カルボキシ−８−オ
   キソ−４−チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オク
   ト−２−エン−３−イル］メチル］チオ］−１−メチル
   ピリジニウムである分子内塩又は鉱酸若しくは有機酸と
   の塩の形態である請求項１〜４のいずれか一項に記載の
   化合物。
6. （６）式（VI′）： ▲数式、化学式、表等があります▼（VI′） ［式中、Ｒ、Ｒ＿４、Ａ、ｎ＿１及びｎ＿２は請求項１
   記載の意味を有しかつＸはハロゲン又はプソイドハロゲ
   ン原子を示す］ を有する化合物を、式（VIII）： Ｒ＿Ａ＿ＭＣＳ（VIII） ［式中、Ｒ＿Ａ＿Ｍは基Ｒ＿ｍの残基を示し、ここで窒
   素原子は単純な非極性結合により結合されている］ を有する化合物で処理し、かつ必要に応じ又は所望によ
   り得られた化合物を次の反応： （ａ）加水分解、水素添加分解による又は保護基の全部
   又は一部に対するチオ尿素の作用による切断； （ｂ）カルボキシ若しくはスルホ基の塩基によるエテス
   ル化若しくは塩形成； （ｃ）アミノ基の酸による塩形成； （ｄ）光学活性物質を得るための分子の分割；（ｅ）イ
   ソセフェム環の位置２における硫黄原子の酸化 のいずれか１つ若しくはそれ以上に任意の順序でかける ことを特徴とする上記一般式（ I ）を有する化合物の
   製造方法。
7. （７）薬物としての請求項１記載の式（ I ）を有する
   化合物並びにその医薬上許容しうる酸との塩類。
8. （８）薬物としての請求項２〜５のいずれか一項に記載
   の式（ I ′）を有する化合物並びにその医薬上許容し
   うる酸との塩類。
9. （９）活性成分として請求項７又は８記載の薬物の少な
   くとも１種を含有する医薬組成物。