JPS6320094A - 弗素含有廃水の処理方法 - Google Patents

弗素含有廃水の処理方法

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JPS6320094A
JPS6320094A JP16423186A JP16423186A JPS6320094A JP S6320094 A JPS6320094 A JP S6320094A JP 16423186 A JP16423186 A JP 16423186A JP 16423186 A JP16423186 A JP 16423186A JP S6320094 A JPS6320094 A JP S6320094A
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Yasunori Mori
森 康修
Hiroharu Miyoshi
弘治 三好
Toshimichi Mihara
三原 利道
Yuji Wakabayashi
若林 裕治
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Takenaka Komuten Co Ltd
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Takenaka Komuten Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電子部品や電気部品等の製造工場から排出さ
れる弗素含有廃水を処理する方法に関するものである。
〔従来の技術〕
電子部品や電気部品の製造に於て、弗素化合物はエッチ
ラグ等の表面処理工程では欠くことのできない物質であ
り、一般に広く使用されている。
同時に、部品の洗浄等のために過酸化水素を使用するこ
とが多く、特に半導体製造工場に於ては、弗素化合物の
廃水に過酸化水素が混入している場合が多い。
廃水中に含まれる弗素化合物は、多種多様のものがある
が、半導体製造工場では弗酸や弗化アンモニウム等が代
表例である。
これらの弗素を廃水から除去する方法として、従来から
様々な方法が取られている。
主な処理方法としては、 ■カルシュウム化合物添加+沈澱分離法■アルミニウム
化合物添加+沈澱分離法■鉄塩添加       +沈
澱分離法■上記■、■、■の内2つ以上の組合せ■カル
シュウム塩十すン酸塩+沈澱法 ■活性アルミナによる吸着法 ■活性炭又は骨炭による吸着法 等がある。
この内、水質汚濁防止法に於ける排水基卓である弗素化
合物15■/lを満足させる方法として、維持管理費が
比較的安価であることから、上記■〜■の凝集沈澱法が
広(採用されている。
然し、前述したように、凝集沈澱法を行なう系統に過酸
化水素が数十〜数万■/βの割合で混入する場合が多く
、このままでは過酸化水素による微細気泡が、カルシュ
ウム塩等によって形成されたフロックに付着して一旦沈
澱槽に沈澱したスラッジから気泡が発生し、フロックが
再浮上して沈澱槽から溢流し、次工程に流出してしまう
。このフロックの流出によって、処理水中に高濃度の弗
素化合物やSSが検出されることもあった。
そこで、過酸化水素の除去のために、従来から活性炭に
よる吸着法や、重亜硫酸ナトリュウム等の還元剤注入に
よる化学反応法等が行なわれている。
然し、上記従来方法でうよ、弗素が処理できるのは処理
水中弗素濃度で10〜15ow/A程度であり、更にこ
の濃度を下げるためには種々な工夫が為されている。
第2図はその一例を示すもので、弗素と過酸化水素とを
含む廃水は、先ず、反応槽1に流入し、還元剤を添加し
て過酸化水素の分解を行なう。次に、水酸化力ルシュウ
ムを添加する反応槽2に流入し、ここで弗化カルシュウ
ムを生成する。更に、この弗化カルシュウムを反応槽3
に於て高分子凝集剤によって凝集させる。その後、第−
沈澱槽4に流入して、スラッジを底部から抜き取り、上
部から処理水を吐出する。
第−沈澱槽4から流出した処理水は、水酸化カルシュウ
ムと硫酸バンドとを添加する反応槽5に流入し、ここで
弗化アルミニュウムを生成する。
その後、反応槽6に於て高分子凝集剤を添加してフロッ
クを凝集して太き(する。そして、第二沈澱槽7に流入
して、スラッジを底部から抜き取り、上部から処理水を
吐出する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
然し、この処理方法では、設備が大掛かりとなると共に
、使用する薬品の量が膨大となり、宜しいものではなか
った。
〔発明の目的〕
本発明は斯る従来の問題点を解決するために為されたも
ので、その目的は、少ない処理工程で弗素の除去を確実
に行なうことにある。
(問題点を解決するための手段〕 本発明に係る弗素含有廃水の処理方法は、弗素と過酸化
水素とを含む廃水に、金属塩又は金属化合物を添加して
弗素化合物を生成した後、第一加圧浮上槽の底部から加
圧水と共に流入させて固液分離し、その処理水に金属塩
又は金属化合物及び硫酸バンドを添加して凝集フロック
を形成した後、第二加圧浮上槽の底部から加圧水と共に
流入させるように構成したものである。
本発明に於て、金属塩としてはカルシュウム塩。
鉄塩等が好適である。又、金属化合物としてはカルシュ
ウム化合物、アルミニュウム化合物等が好適である。
〔発明の作用〕
本発明に於ては、弗素と過酸化水素とを含む廃水が、金
属塩又は金属化合物の添加によって弗素化合物を生成し
た後、第一加圧浮上槽内に加圧水と共に流入されるから
、加圧水が大気解放されることによって生じる微細気泡
により、それまで弗素化合物に殆ど付着していた気泡は
浮上し除去されると同時に廃水中に溶解している過酸化
水素の一部も気泡化して上昇して除去される。更に、こ
こでの処理水に金属塩又は金属化合物と硫酸ハンドとを
添加してフロックを凝集させた後に、第二加圧浮上槽内
に加圧水と共に流入されるから、フロックを確実に除去
すると共に過酸化水素の除去も為される。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明に於けるプロセスを説明するための図で
ある。
先ず、弗素と過酸化水素とを含む廃水(以下、原水とい
う)は、水酸化力ルシュウムを添加する反応槽10に流
入する。ここでは、弗素が水酸化力ルシュウムと化学反
応して弗化カルシュウムを生成する。
次に、反応槽10から流出した原水は、第一加圧浮上槽
1)の底部から加圧水と共に流入する。
この際、加圧水が大気解放された時に生じる微細気泡に
よって、それまでに弗化カルシュウムに殆ど付着してい
た気泡が浮上し、除去される。同時に、加圧水による微
細気泡によって原水中に溶解している過酸化水素の一部
も気泡化し、上昇して除去される。
更に、この第一加圧浮上槽1)から流出した弗化カルシ
ュウムが除かれた処理水は、その弗素濃度を下げるため
に次の反応槽12に於て、水酸化力ルシュウムと硫酸バ
ンドを添加して弗化カルシュウムを更に生成させると共
にこれらを凝集させる。
その後、第二加圧浮上槽13に送られる。ここでは、第
一加圧浮上槽1)と同様に加圧水の作用によってフロッ
クを確実に分乱し、処理水中の弗素濃度を数■/lに下
げることができる。
尚、第一加圧浮上槽1)に於ける「原水+加圧水」の滞
留時間は1〜3時間とする。これは、−般に使用されて
いる加圧浮上槽の滞留時間は30分前後であるが、加圧
浮上槽1)内での過酸化水素の気泡発生を充分に行なわ
せるためである。
この気泡発生の効率を上げるためには、反応槽10に銅
や鉄等を注入するか、他の排水系統で有機物が含まれる
水を混入することが有効である。
ここで、銅としては、硫酸銅等があり、又、鉄としては
、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、塩化第一鉄。
塩化第二鉄等がある。又、有機系排水としては、し尿浄
化槽処理水、アルコール含有排水、脂肪酸含有排水等が
ある。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、活性炭による過酸化水素
の吸着除去プロセス、又は還元剤による過酸化水素の分
解プロセス、或いは高分子凝集剤によるフロックの凝集
プロセスとが不要となり、少ない処理工程で処理水中の
弗素濃度を下げることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す説明図、第2図は従来例
を示す説明図である。 10.12・・・反応槽、1)・・・第一加圧浮上槽、
13・・・第二加圧浮上槽。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)弗素と過酸化水素とを含む廃水に、金属塩又は金
    属化合物を添加して弗素化合物を生成した後、第一加圧
    浮上槽の底部から加圧水と共に流入させて固液分離し、
    その処理水に金属塩又は金属化合物及び硫酸バンドを添
    加して凝集フロックを形成した後、第二加圧浮上槽の底
    部から加圧水と共に流入させることを特徴とする弗素含
    有廃水の処理方法。
  2. (2)金属塩が、カルシュウム塩、鉄塩等であることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の弗素含有廃水の
    処理方法。
  3. (3)金属化合物が、カルシュウム化合物、アルミニュ
    ウム化合物等であることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の弗素含有廃水の処理方法。
JP16423186A 1986-07-12 1986-07-12 弗素含有廃水の処理方法 Expired - Lifetime JPH0712475B2 (ja)

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JPS6320094A true JPS6320094A (ja) 1988-01-27
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005233619A (ja) * 2004-02-17 2005-09-02 Hioki Ee Corp 計測装置

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JP2005233619A (ja) * 2004-02-17 2005-09-02 Hioki Ee Corp 計測装置

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