JPS58199088A - フツ素イオン含有水の処理方法 - Google Patents
フツ素イオン含有水の処理方法Info
- Publication number
- JPS58199088A JPS58199088A JP7988482A JP7988482A JPS58199088A JP S58199088 A JPS58199088 A JP S58199088A JP 7988482 A JP7988482 A JP 7988482A JP 7988482 A JP7988482 A JP 7988482A JP S58199088 A JPS58199088 A JP S58199088A
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- Japan
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- fluoroapatite
- phosphoric acid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体、アルミニウム、ガラス等の製造工場
から排出されるフッ素イオン含有廃水の処理方法に関す
る。
から排出されるフッ素イオン含有廃水の処理方法に関す
る。
従来、フッ素イオンを除去する方法として、カルシウム
化合物を添加して不溶性の塩として沈殿分離する方法、
フルオロアパタイトＣａ５（ＰＯａ）ｓＦとして沈殿除
去する方法、或いはリン酸カルシウムによる晶析法が知
られている。しかしながら。
化合物を添加して不溶性の塩として沈殿分離する方法、
フルオロアパタイトＣａ５（ＰＯａ）ｓＦとして沈殿除
去する方法、或いはリン酸カルシウムによる晶析法が知
られている。しかしながら。
カルシウム化合物により沈殿分離する方法では。
処理水中のフッ素イオンの濃度は１０〜１５■／ｌと高
い。また、フルオロアパタイトとして沈殿除去する方法
では２反応速度が遅く、かつフロックも微細で瀘過、沈
殿、浮上等による固液分離に問題がある。更に、リン酸
カルシウム、骨炭等による晶析法では、炭酸カルシウム
の析出、有機物等による骨材の劣化が起る。
い。また、フルオロアパタイトとして沈殿除去する方法
では２反応速度が遅く、かつフロックも微細で瀘過、沈
殿、浮上等による固液分離に問題がある。更に、リン酸
カルシウム、骨炭等による晶析法では、炭酸カルシウム
の析出、有機物等による骨材の劣化が起る。
本発明は、前記従来技術の欠点を解消し、簡単な方法で
フッ素イオンを効率よく除去しうる処理方法を提供する
ことを目的としてなされたもので。
フッ素イオンを効率よく除去しうる処理方法を提供する
ことを目的としてなされたもので。
フッ素イオン含有水に、 Ｃ（Ｚ／Ｆのモル重量比が５
、０〜ｌ Ｏ，Ｏ、Ｃ（Ｚ／ＰＯ４のモル重量比が１．
Ｏ〜５、０の範囲になるように、カルシウム剤及びリン
酸剤を添加し、ＰＨを４〜９に調整した後、フッ素イオ
ン含有水を、予め形成させたフルオロアパタイト層と接
触させることを特徴とする特添加するカルシウム剤とし
ては、水酸化カルシウム、塩化カルシウム等の水溶性カ
ルシウム化合物を使用する。リン酸剤としてはオルトリ
ン酸またはその塩等を使用することができる。原水中に
リン酸イオンが必要量存在する場合には、リン酸剤を添
加しなくてよい。
、０〜ｌ Ｏ，Ｏ、Ｃ（Ｚ／ＰＯ４のモル重量比が１．
Ｏ〜５、０の範囲になるように、カルシウム剤及びリン
酸剤を添加し、ＰＨを４〜９に調整した後、フッ素イオ
ン含有水を、予め形成させたフルオロアパタイト層と接
触させることを特徴とする特添加するカルシウム剤とし
ては、水酸化カルシウム、塩化カルシウム等の水溶性カ
ルシウム化合物を使用する。リン酸剤としてはオルトリ
ン酸またはその塩等を使用することができる。原水中に
リン酸イオンが必要量存在する場合には、リン酸剤を添
加しなくてよい。
原水に前記の割合でカルシウムイオン及びリン酸イオン
を存在させることにより、フルオロアパタイトが生成す
るが、この反応はＰＨ４〜９で起り、その最適ｐＨは中
性である。ｐＨが低くなると、フッ素イオンはＣａＦ２
として析出し、ＰＨが高くなると、リン酸アノぞタイト
Ｃα５（ＰＯ４）３（ＯＨ） トなり、処理水中のフッ
素イオンは高くなる。
を存在させることにより、フルオロアパタイトが生成す
るが、この反応はＰＨ４〜９で起り、その最適ｐＨは中
性である。ｐＨが低くなると、フッ素イオンはＣａＦ２
として析出し、ＰＨが高くなると、リン酸アノぞタイト
Ｃα５（ＰＯ４）３（ＯＨ） トなり、処理水中のフッ
素イオンは高くなる。
フルオロアパタイト層とフッ素含有水とを接触させる場
合、フルオロアパタイトを形成するために必要な理論当
量以上のカルシウムイオン及びリン酸イオンを存在させ
る。処理水中にリン酸を残存させないようにするため、
カルシウムイオンを過剰に添加する。こうして廃水中の
フッ素イオンはカルシウムイオン及びリン酸イオンと反
応してフルオロアパタイトを形成しながら、予め形成し
たフルオロアパタイト層に吸着除去される。
合、フルオロアパタイトを形成するために必要な理論当
量以上のカルシウムイオン及びリン酸イオンを存在させ
る。処理水中にリン酸を残存させないようにするため、
カルシウムイオンを過剰に添加する。こうして廃水中の
フッ素イオンはカルシウムイオン及びリン酸イオンと反
応してフルオロアパタイトを形成しながら、予め形成し
たフルオロアパタイト層に吸着除去される。
次に９図面に基づいて本発明を詳述する。
第１図は本発明方法の一実施態様を示す系統図である。
フッ素含有水を原水導管１より混合槽２中に流入させ、
ここで導管３及び４からのカルシウム剤及びリン酸剤と
混合する。次に、原水をカルシウム剤及びリン酸剤を含
有した状態で接触槽５の下部より流入させる。接触槽５
中には、予めフルオロアパタイト層６を形成させてあり
、接触槽５に流入した原水はフルオロアパタイト層と接
触し、混合槽２中で生成したフルオロアパタイトを吸着
除去される。処理水は接触槽の上部から流出し、その一
部または全部を循環水として循環導管８より循環させ、
原水と一緒に接触槽５へ流入させる。循環水以外の処理
水は流出管９から排出され、余剰のラルオ、ロアパタイ
トは抜取管７から抜き取られる。
ここで導管３及び４からのカルシウム剤及びリン酸剤と
混合する。次に、原水をカルシウム剤及びリン酸剤を含
有した状態で接触槽５の下部より流入させる。接触槽５
中には、予めフルオロアパタイト層６を形成させてあり
、接触槽５に流入した原水はフルオロアパタイト層と接
触し、混合槽２中で生成したフルオロアパタイトを吸着
除去される。処理水は接触槽の上部から流出し、その一
部または全部を循環水として循環導管８より循環させ、
原水と一緒に接触槽５へ流入させる。循環水以外の処理
水は流出管９から排出され、余剰のラルオ、ロアパタイ
トは抜取管７から抜き取られる。
図面には、接触槽５への水の流入を上向流として示した
が、下向流で行なうこともできる。
が、下向流で行なうこともできる。
本発明方法によれば、前記のように極めて簡単に、効率
良くフッ素を除去することができ、処理コストの低減を
はかることができる。
良くフッ素を除去することができ、処理コストの低減を
はかることができる。
次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが。
本発明はこれに限定されるものではない。
実施例
半導体製造工場から排出される廃水にｐＨ７でＣα：
ＰＯ４： Ｆ、＝５ ： ３ ： １ のモル重量比
でカルシウム剤及びリン酸剤を添加し、１時間混合槽中
で攪拌ｉ、予め形成させておいたフルオロアパタイト層
に５Ｖ＝３で接触させた。
ＰＯ４： Ｆ、＝５ ： ３ ： １ のモル重量比
でカルシウム剤及びリン酸剤を添加し、１時間混合槽中
で攪拌ｉ、予め形成させておいたフルオロアパタイト層
に５Ｖ＝３で接触させた。
原水及び処理水のフッ素濃度を測定し、結果を第２図に
示す。
示す。
第２図から判るように、フッ素イオンを効率良く除去す
ることができ、安定して良好な処理水が得られる。
ることができ、安定して良好な処理水が得られる。
第１図は本発明方法の一実施態様を示す系統図。
第２図は実施例による処理水のフッ素イオンの濃度を示
すグラフである。 符号の説明 ２・・・混合槽 ５・・・接触槽６・・・フ
ルオロアパタイト層。
すグラフである。 符号の説明 ２・・・混合槽 ５・・・接触槽６・・・フ
ルオロアパタイト層。
Claims (1)
- （１） フッ素イオン含有水に、Ｃα／Ｆのモル重量
比が５．０−１０．０．Ｃα／ＰＯａのモル重量比が１
．０〜５．０の範囲になるように、カルシウム剤及びリ
ン酸剤を添加し、ＰＨを４〜９に調整した後、フッ素イ
オン含有水を、予め形成させた。主としてＣα５（ＰＯ
４）ｓＦ なる組成のフルオロアパタイト層と接触さ
せることを特徴とするフッ素イオン含有水の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7988482A JPS58199088A (ja) | 1982-05-14 | 1982-05-14 | フツ素イオン含有水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7988482A JPS58199088A (ja) | 1982-05-14 | 1982-05-14 | フツ素イオン含有水の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58199088A true JPS58199088A (ja) | 1983-11-19 |
Family
ID=13702677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7988482A Pending JPS58199088A (ja) | 1982-05-14 | 1982-05-14 | フツ素イオン含有水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58199088A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005246318A (ja) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | フッ素含有排水の処理方法及び装置 |
| CN102744031A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-10-24 | 曾锐 | 除氟吸附材料及其制备方法 |
| JP2014087731A (ja) * | 2012-10-30 | 2014-05-15 | Okumura Corp | 重金属を含む排水の処理装置及び処理方法 |
-
1982
- 1982-05-14 JP JP7988482A patent/JPS58199088A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005246318A (ja) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | フッ素含有排水の処理方法及び装置 |
| JP4581430B2 (ja) * | 2004-03-05 | 2010-11-17 | 株式会社日立プラントテクノロジー | フッ素含有排水の処理方法及び装置 |
| CN102744031A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-10-24 | 曾锐 | 除氟吸附材料及其制备方法 |
| JP2014087731A (ja) * | 2012-10-30 | 2014-05-15 | Okumura Corp | 重金属を含む排水の処理装置及び処理方法 |
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