JPS63198305A - 高耐食性希土類永久磁石 - Google Patents
高耐食性希土類永久磁石Info
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- Hard Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は高耐食性の希土類永久磁石に関し、特には焼結
磁石体表面に均一な耐食性合金層を有する希土類・鉄・
ボロン系永久磁石の提供を目的とするものである。
磁石体表面に均一な耐食性合金層を有する希土類・鉄・
ボロン系永久磁石の提供を目的とするものである。
(従来の技術)
希土類永久磁石はすぐれた磁気特性と経済性のため電気
・電子機器の分野で多用されており、近年ますますその
高性能化が要求されている。これらのうちNd系希土類
未久bn石は、従来のSm系希土類永久磁石と比べて主
要元素であるNdがSmより豊富に存在すること、CO
を多量に使用しないことから原材料費が安価であり、磁
気特性もSm系希土類永久磁石をはるかにしのぐ極めて
秀れた永久磁石材料であるため、従来Sm系希土類磁石
が使用されてきた小型磁気回路はこれによって代替され
るだけではなく、コスト面からハードフェライトあるい
は電磁石が使われていた分野にも広く応用されようとし
ている。しかしこの材料は湿度を帯びた空気中で極めて
短時間のうちに容易に酸化するという欠点を有している
。この酸化は磁石表面上に酸化物が生成するだけでなく
、表面から内部へ結晶粒界に沿って腐蝕が進行し、いわ
ゆる粒界腐蝕の現象を生じるが、これはNd磁石の粒界
に非常に活性なNdリッチ相が存在するためである。粒
界の腐蝕は極めて大きな磁気特性の劣化を引き起し、も
し実用時に腐蝕が進行すれば、磁石を組み込んだ機器の
性能を低下させ、機器周辺を汚染させる等の問題が生じ
る。
・電子機器の分野で多用されており、近年ますますその
高性能化が要求されている。これらのうちNd系希土類
未久bn石は、従来のSm系希土類永久磁石と比べて主
要元素であるNdがSmより豊富に存在すること、CO
を多量に使用しないことから原材料費が安価であり、磁
気特性もSm系希土類永久磁石をはるかにしのぐ極めて
秀れた永久磁石材料であるため、従来Sm系希土類磁石
が使用されてきた小型磁気回路はこれによって代替され
るだけではなく、コスト面からハードフェライトあるい
は電磁石が使われていた分野にも広く応用されようとし
ている。しかしこの材料は湿度を帯びた空気中で極めて
短時間のうちに容易に酸化するという欠点を有している
。この酸化は磁石表面上に酸化物が生成するだけでなく
、表面から内部へ結晶粒界に沿って腐蝕が進行し、いわ
ゆる粒界腐蝕の現象を生じるが、これはNd磁石の粒界
に非常に活性なNdリッチ相が存在するためである。粒
界の腐蝕は極めて大きな磁気特性の劣化を引き起し、も
し実用時に腐蝕が進行すれば、磁石を組み込んだ機器の
性能を低下させ、機器周辺を汚染させる等の問題が生じ
る。
このようなNd磁石の欠点を克服するため各種の表面処
理方法が提案されているが、いずれの方法も耐食性表面
処理として完全なものではない。
理方法が提案されているが、いずれの方法も耐食性表面
処理として完全なものではない。
例えばスプレーまたは電着塗装による樹脂塗膜では、樹
脂の吸湿性のために錆が発生し、真空蒸着、イオンスパ
ッタリング、イオンブレーティング等の気相メッキ法で
は、コストがかかりすぎ、また向火、溝部へのコーティ
ングかできないなどの不利がある。
脂の吸湿性のために錆が発生し、真空蒸着、イオンスパ
ッタリング、イオンブレーティング等の気相メッキ法で
は、コストがかかりすぎ、また向火、溝部へのコーティ
ングかできないなどの不利がある。
(発明の構成)
本発明者らはかかる従来の不利、欠点を解消すべく鋭意
検討の結果、長時間にわたって磁気特性の劣化がなく、
外観の美観性が保持できる永久磁石を得ることに成功し
本発明に至った。すなわち、本発明はR(RはYを含む
希土類元素の少なくとも一種)5〜40重量%、Fe5
0〜90重量%、80.2〜8重量%および添加元素M
(MはNi、 Nb、Al、Ti、 Zr、 C
r、 V、Mn。
検討の結果、長時間にわたって磁気特性の劣化がなく、
外観の美観性が保持できる永久磁石を得ることに成功し
本発明に至った。すなわち、本発明はR(RはYを含む
希土類元素の少なくとも一種)5〜40重量%、Fe5
0〜90重量%、80.2〜8重量%および添加元素M
(MはNi、 Nb、Al、Ti、 Zr、 C
r、 V、Mn。
Mo、Si、Sn、CuおよびZnから選ばれる少なく
とも一種)8重量%以下からなる焼結石体表面にNi−
Pの合金層を有する高耐食性希土類永久磁石を要旨とす
るものである。
とも一種)8重量%以下からなる焼結石体表面にNi−
Pの合金層を有する高耐食性希土類永久磁石を要旨とす
るものである。
以下これについて詳しく説明すると、本発明におけるR
としてはYまたは希土類元素としてLa、Ce、Pr%
Nd、Pm、Sm、Gd、Tb。
としてはYまたは希土類元素としてLa、Ce、Pr%
Nd、Pm、Sm、Gd、Tb。
Dy、Ho% Er、Lu、Ybなどが例示されるが、
そのなかではCe、La、Nd、Pr、Dy。
そのなかではCe、La、Nd、Pr、Dy。
Tbの少なくとも1種を含むのが好ましい。
本発明はR5〜40重量%、Fe50〜90重量%、B
0.2〜8重量%および添加元素M(MはNi、Nb
%AI%Ti%Zr、Cr、V、Mn、MOlSi、S
n、Cu、Znのうち少なくとも1種)8重量%以下を
含有し、これにC,Olp、s等の工業的に不可避な重
量不純物とを含有するNd系希土類焼結磁石体を使用し
、この表面にNi−P合金層を設けるのであるが、この
場合電気メツキ法、無電解メッキ法によればよく、好ま
しい方法としては無電解メッキ法により焼結磁石体表面
にNi−Pの合金層を析出させるのがよい。
0.2〜8重量%および添加元素M(MはNi、Nb
%AI%Ti%Zr、Cr、V、Mn、MOlSi、S
n、Cu、Znのうち少なくとも1種)8重量%以下を
含有し、これにC,Olp、s等の工業的に不可避な重
量不純物とを含有するNd系希土類焼結磁石体を使用し
、この表面にNi−P合金層を設けるのであるが、この
場合電気メツキ法、無電解メッキ法によればよく、好ま
しい方法としては無電解メッキ法により焼結磁石体表面
にNi−Pの合金層を析出させるのがよい。
この場合に用いる無電解電解液としては、金属塩として
塩化ニッケル、硫酸ニッケル、次亜リン酸ニッケルのう
ち少なくとも1 fffiを100g/fL以下含有し
、還元剤としてリン酸ナトリウムを100g712以下
、pH調整剤として水酸化ナトリウム、水酸化アンモニ
ウム等の塩基性化合物、無機酸、有機塩のうち少なくと
も1 fffiをtsog/λ以下含むものが好ましい
。なおこの電解液には緩衝剤としてクエン酸ナトリウム
、酢酸ナトリウム等のオキシカルボン酸、あるいはほう
酸、炭酸等の無機酸または有機塩、無機酸のナトリウム
塩のうち少なくとも1種を150g以下、錯化剤として
クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、水酸化アンモニ
ウム、エチレングリコール、さらには有機酸(酢酸、グ
リコール酸、クエン酸、酒石酸等)のアルカリ塩、チオ
グリコール酸、アンモニア、トリエタノールアミン、エ
チレンジアミン、グリシン、ピリジン、の少なくとも1
種を100g/fl含むばか促進剤、安定剤として10
g/u以下の硫化物、塩化物、フッ化物、界面活性剤を
それぞれ含有することができ、この水溶液はpH3〜1
3の範囲で用い、メッキ時の浴温は20〜100℃の範
囲である。
塩化ニッケル、硫酸ニッケル、次亜リン酸ニッケルのう
ち少なくとも1 fffiを100g/fL以下含有し
、還元剤としてリン酸ナトリウムを100g712以下
、pH調整剤として水酸化ナトリウム、水酸化アンモニ
ウム等の塩基性化合物、無機酸、有機塩のうち少なくと
も1 fffiをtsog/λ以下含むものが好ましい
。なおこの電解液には緩衝剤としてクエン酸ナトリウム
、酢酸ナトリウム等のオキシカルボン酸、あるいはほう
酸、炭酸等の無機酸または有機塩、無機酸のナトリウム
塩のうち少なくとも1種を150g以下、錯化剤として
クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、水酸化アンモニ
ウム、エチレングリコール、さらには有機酸(酢酸、グ
リコール酸、クエン酸、酒石酸等)のアルカリ塩、チオ
グリコール酸、アンモニア、トリエタノールアミン、エ
チレンジアミン、グリシン、ピリジン、の少なくとも1
種を100g/fl含むばか促進剤、安定剤として10
g/u以下の硫化物、塩化物、フッ化物、界面活性剤を
それぞれ含有することができ、この水溶液はpH3〜1
3の範囲で用い、メッキ時の浴温は20〜100℃の範
囲である。
前記磁石体をメッキ液に浸漬する方法は、バレル法また
は引フ掛は治具法のいずれでもよく、焼結磁石体の寸法
および形状によって適当に還択される。
は引フ掛は治具法のいずれでもよく、焼結磁石体の寸法
および形状によって適当に還択される。
本発明によって焼結磁石体表面に形成される耐食性合金
層は、NiとPを主成分とし、PがNi中に過飽和に固
溶したアモルファス相、あるいはニッケルとNi3P等
のリン化ニッケル相との微細混合相からなるものでこの
層中のPの割合は1〜14重量%が好ましい。
層は、NiとPを主成分とし、PがNi中に過飽和に固
溶したアモルファス相、あるいはニッケルとNi3P等
のリン化ニッケル相との微細混合相からなるものでこの
層中のPの割合は1〜14重量%が好ましい。
Niのみの無電解メッキ膜では、ピンホールが多いか、
あるいは下地との密着性が悪いため、耐食性が劣り、使
用できない。またNi−BあるいはNi−Nの合金被膜
も、ピンホールが多く密着性が悪いため充分な耐食性が
得られない。
あるいは下地との密着性が悪いため、耐食性が劣り、使
用できない。またNi−BあるいはNi−Nの合金被膜
も、ピンホールが多く密着性が悪いため充分な耐食性が
得られない。
合金層の厚みは、1〜30Atm、好ましくは5〜20
μmが適当であり、30μm以上はメッキに要する時間
および薬剤量が多大で費用がかかりすぎるため実用的で
ない。また均一な合金層であれば、1μm程度でも実用
上使用できる。
μmが適当であり、30μm以上はメッキに要する時間
および薬剤量が多大で費用がかかりすぎるため実用的で
ない。また均一な合金層であれば、1μm程度でも実用
上使用できる。
本発明による合金層はメッキ後熱処理することによフて
耐食性、密着力、耐摩耗性を向上させることができる。
耐食性、密着力、耐摩耗性を向上させることができる。
その温度範囲は100〜500℃で時間は10分間〜数
時間である。
時間である。
次に本発明によるR−Fe−Bを必須元素とする永久磁
石の構成成分についてその限定理由を述べる。本発明に
用いられる永久磁石中の主成分として含まれるRの量が
、5重量%以下ではα鉄の析出量が多すぎるため高保磁
力が得られず、また40重量%を越えると、希土類を含
有する非磁性相が多くなりすぎて残留磁束密度が低下し
、磁石特性が得られない。したがって主成分としてのR
の量は5〜40重量%とするものであるいBは02重量
%以下では保磁力が得られず、8重量%以上ではBを含
有する非磁性相が多くなりすぎて残留磁束密度が低下し
、磁石特性が得られない。よってBの量は0,2〜8重
量%とするものである。
石の構成成分についてその限定理由を述べる。本発明に
用いられる永久磁石中の主成分として含まれるRの量が
、5重量%以下ではα鉄の析出量が多すぎるため高保磁
力が得られず、また40重量%を越えると、希土類を含
有する非磁性相が多くなりすぎて残留磁束密度が低下し
、磁石特性が得られない。したがって主成分としてのR
の量は5〜40重量%とするものであるいBは02重量
%以下では保磁力が得られず、8重量%以上ではBを含
有する非磁性相が多くなりすぎて残留磁束密度が低下し
、磁石特性が得られない。よってBの量は0,2〜8重
量%とするものである。
Feは50重量%以下では残留磁束密度が低くて磁石特
性が得られず、90重量%以上ではα鉄の析出量が多す
ぎて高保磁力が得られない。よってFeの量は50〜9
0重量%とするものである。
性が得られず、90重量%以上ではα鉄の析出量が多す
ぎて高保磁力が得られない。よってFeの量は50〜9
0重量%とするものである。
なお、前記必須元素と置換可能な添加元素Mは磁気特性
の改善あるいは、コスト低減のために添加することがで
きるのであって、その量は磁気特性の温度変化を改善す
ることから単独あるいは2種類以上の合計で8重量%以
下である3しかしいずれの元素も、上記の量を越えて添
加すると磁気特性が劣化するので避けるべきである。
の改善あるいは、コスト低減のために添加することがで
きるのであって、その量は磁気特性の温度変化を改善す
ることから単独あるいは2種類以上の合計で8重量%以
下である3しかしいずれの元素も、上記の量を越えて添
加すると磁気特性が劣化するので避けるべきである。
本発明の永久磁石は、結晶質の合金粉末を磁場中プレス
で異方性化した後、焼結して得られる焼結異方性永久磁
石で、その磁気特性は最大エネルギー積で20MGOe
以上50 MGOeまでであり、20MGOe以下は特
性不良品であり、わざわざ表面処理するにはあたらない
。
で異方性化した後、焼結して得られる焼結異方性永久磁
石で、その磁気特性は最大エネルギー積で20MGOe
以上50 MGOeまでであり、20MGOe以下は特
性不良品であり、わざわざ表面処理するにはあたらない
。
つぎに本発明による実施例をあげる。
実施例I
Ar雰囲気の高周波溶解により重量比で、32N d−
1,2B−66,8F eなる組成の鋳塊を作製した。
1,2B−66,8F eなる組成の鋳塊を作製した。
このインゴットをショウクラッシャーで粗粉砕し、ざら
にN2ガスによるジェットミルで微粉砕を行って、平均
粒径が3.5μmの微粉末を得た。
にN2ガスによるジェットミルで微粉砕を行って、平均
粒径が3.5μmの微粉末を得た。
次にこの微粉末を、100000eの磁界が印加された
金型内に充填し、0.8t/cm2の圧力で成形した。
金型内に充填し、0.8t/cm2の圧力で成形した。
ついで真空中1100℃で2時間焼結し、さらに550
℃で1時間時効処理を施して永久磁石とした。得られた
永久bn′EJから外径30mm、内径10mm、高さ
2mmの円筒形試験片を切り出した。
℃で1時間時効処理を施して永久磁石とした。得られた
永久bn′EJから外径30mm、内径10mm、高さ
2mmの円筒形試験片を切り出した。
異方性の方向は高さ方向である。
この試験片をトリクロロエチレンで洗浄した後、NaO
H50g/、Q、40℃の水溶液に15分間浸漬してア
ルカリ脱脂した後水洗し、硫酸50mλ/J2とフッ化
水素酸25mj2/J2の混酸中で45秒間酸洗いして
から水洗した。これを硫酸ニッケル2tg/j2、次亜
リン酸ナトリウム25g/j2、クエン酸ナトリウム2
0g/1.、硫化鉛0.1 g /Ilを含む水溶液中
に90℃で3分、12分、25分、40分浸漬して、N
i−Pの合金層をそれぞれ1,5,10.15μmの厚
さに被覆した。メッキ後、水洗して150℃で30分間
熱処理した。
H50g/、Q、40℃の水溶液に15分間浸漬してア
ルカリ脱脂した後水洗し、硫酸50mλ/J2とフッ化
水素酸25mj2/J2の混酸中で45秒間酸洗いして
から水洗した。これを硫酸ニッケル2tg/j2、次亜
リン酸ナトリウム25g/j2、クエン酸ナトリウム2
0g/1.、硫化鉛0.1 g /Ilを含む水溶液中
に90℃で3分、12分、25分、40分浸漬して、N
i−Pの合金層をそれぞれ1,5,10.15μmの厚
さに被覆した。メッキ後、水洗して150℃で30分間
熱処理した。
各試験片を60℃、95%湿度の試験槽中に600時間
保持した後、外観を観察して、耐食性を評価した。また
耐食試験前後の磁気特性も測定した。
保持した後、外観を観察して、耐食性を評価した。また
耐食試験前後の磁気特性も測定した。
実施例と比較のため、切り出し後表面処理を行っていな
い同一寸法の試験片Aと、Niを無電解析出させた同一
寸法の試験片Bについても同じ耐蝕試験を行った。結果
を表1に示す。
い同一寸法の試験片Aと、Niを無電解析出させた同一
寸法の試験片Bについても同じ耐蝕試験を行った。結果
を表1に示す。
実施例2
Ar雰囲気の高周波溶解により重量比で、33ND−1
,0B65Fe−0,5AI−0,5Ndなる組成の鋳
塊を作製した。
,0B65Fe−0,5AI−0,5Ndなる組成の鋳
塊を作製した。
このインゴットをショウクラッシャーで粗粉砕し、ざら
にN2ガスによるジェットミルで微粉砕を行って、平均
粒径が3μmの微粉末を得た。
にN2ガスによるジェットミルで微粉砕を行って、平均
粒径が3μmの微粉末を得た。
次にこの微粉末を、100000eの磁界が印加された
金型内に充填し、1.2t/cm’の圧力で成形した。
金型内に充填し、1.2t/cm’の圧力で成形した。
ついで真空中1100℃で2時間焼結し、さらに550
℃で1時間時効処理を施して永久磁石とした。得られた
永久磁石から外径30mm、内径6mm、高さ15mm
の円筒形試験片を切り出した。
℃で1時間時効処理を施して永久磁石とした。得られた
永久磁石から外径30mm、内径6mm、高さ15mm
の円筒形試験片を切り出した。
異方性の方向は高さ方向である。
この試験片5,6.7および8をトリクロロエチレンで
洗浄した後、NaOH50g/It。
洗浄した後、NaOH50g/It。
40℃の水溶液に15分間浸漬してアルカリ脱脂した後
水洗し、硫酸50al/uとフッ化水素酸25mu/4
の混酸中で30秒間酸洗いしてから水洗した。これを硫
酸ニッケル25g/u、次亜リン酸ナトリウム23g/
fl、乳酸10g/、Q、クエン酸ナトリウム10g/
4.プロピオン酸3g/42、塩化鉛0.1 g/j
laを含む水溶液中ニ90℃で3分、12分、25分、
40分時間浸漬して、Ni−P(7)合金層をそれぞれ
1,5,10゜15μmの厚さに被覆した。メッキ後、
水洗して150℃で30分間熱処理した。
水洗し、硫酸50al/uとフッ化水素酸25mu/4
の混酸中で30秒間酸洗いしてから水洗した。これを硫
酸ニッケル25g/u、次亜リン酸ナトリウム23g/
fl、乳酸10g/、Q、クエン酸ナトリウム10g/
4.プロピオン酸3g/42、塩化鉛0.1 g/j
laを含む水溶液中ニ90℃で3分、12分、25分、
40分時間浸漬して、Ni−P(7)合金層をそれぞれ
1,5,10゜15μmの厚さに被覆した。メッキ後、
水洗して150℃で30分間熱処理した。
各試験片を60℃、95%湿度の試験槽中に600時間
保持した後、外観を観察して、耐食性を評価した。また
耐食試験前後の磁気特性も測定した。
保持した後、外観を観察して、耐食性を評価した。また
耐食試験前後の磁気特性も測定した。
実施例と比較のため、切り出し後表面処理を行っていな
い同一寸法の試験片Cと、Niを無電解析出させた同一
寸法の試験片りについても同じ耐蝕試験を行った。結果
を表2に示す。
い同一寸法の試験片Cと、Niを無電解析出させた同一
寸法の試験片りについても同じ耐蝕試験を行った。結果
を表2に示す。
実施例3
Ar雰囲気の高周波溶解により重量比で、2ONd−5
Pr−3Ce−3La−2Tb−64Fe −0,5T
i −0,5Cu −0,5Znなる組成の鋳塊を作
製した。
Pr−3Ce−3La−2Tb−64Fe −0,5T
i −0,5Cu −0,5Znなる組成の鋳塊を作
製した。
このインゴットをジヨウクララシカ−で粗粉砕し、さら
してN2ガスによるジュツトシルで微粉砕を行ない、平
均粒径が3.3μmの微粉砕を得た。
してN2ガスによるジュツトシルで微粉砕を行ない、平
均粒径が3.3μmの微粉砕を得た。
次に微粉末を、100000eの磁界が印加された金型
内に充填し、1.2t/cm2の圧力で成形した。
内に充填し、1.2t/cm2の圧力で成形した。
そのうち真空中で1090℃で2時間焼結し、ざらに5
50℃で時効処理を1時間施して永久磁石とした。
50℃で時効処理を1時間施して永久磁石とした。
得られた磁石から外径30φX内径10φX1、om+
ntの試験片を切り出した。異方性の方向は1mmtの
方向である。
ntの試験片を切り出した。異方性の方向は1mmtの
方向である。
この試験片9.10および11をトリクロロエチレンに
てナトリウム20g/u、洗浄した後、水酸化ナトリウ
ム20g/λ、炭酸ナトリウム20g/l、オルソケイ
酸ナトリウム50g/J2の混合アルカリ水溶液中に1
5分間浸漬してアルカリ脱脂した後水洗し、しゅう酸2
0mj2/A、過酸化水素化10++l/Il、硫酸t
omx/fl、の混酸中で30秒間酸洗いしたあと水洗
した。これを硫酸ニッケル25g/u、次亜リン酸ナト
リウム20 gill、クエン酸ナトリウム60 gi
ll、塩化アンモニウム20g/4.はう酸35g/u
を含む90℃に加熱された水溶液中に12分、25分、 40分時間浸漬して、Ni−Pの合金層を5μm、10
μm、15μmの厚さに被覆した。メッキ後、水洗し1
50℃で30分間熱処理した。
てナトリウム20g/u、洗浄した後、水酸化ナトリウ
ム20g/λ、炭酸ナトリウム20g/l、オルソケイ
酸ナトリウム50g/J2の混合アルカリ水溶液中に1
5分間浸漬してアルカリ脱脂した後水洗し、しゅう酸2
0mj2/A、過酸化水素化10++l/Il、硫酸t
omx/fl、の混酸中で30秒間酸洗いしたあと水洗
した。これを硫酸ニッケル25g/u、次亜リン酸ナト
リウム20 gill、クエン酸ナトリウム60 gi
ll、塩化アンモニウム20g/4.はう酸35g/u
を含む90℃に加熱された水溶液中に12分、25分、 40分時間浸漬して、Ni−Pの合金層を5μm、10
μm、15μmの厚さに被覆した。メッキ後、水洗し1
50℃で30分間熱処理した。
これらの試験片を60℃で95%湿度の試験槽中に60
0時間保持した後、外観を観察して耐食性を評価した。
0時間保持した後、外観を観察して耐食性を評価した。
また耐食試験片前後の磁気特性を測定した。実施例と比
較のために、切り出し後表面処理を行っていない同一寸
法の試験片Eと、Ni−Nを無電解析出させた同一寸法
の試験片Fも同じ耐蝕試験を行った。結果を表3に示す
。
較のために、切り出し後表面処理を行っていない同一寸
法の試験片Eと、Ni−Nを無電解析出させた同一寸法
の試験片Fも同じ耐蝕試験を行った。結果を表3に示す
。
手続補正書
昭和62年3月31日
昭和62年特許願第30997号
2、発明の名称
高耐食性希土類永久磁石
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
名称 (206)信越化学工業株式会社4、代理人
1)明細書第5頁第8行の「リン酸ナトリウム」を「次
亜リン酸ナトリウム」と補正する。
亜リン酸ナトリウム」と補正する。
2)明細書第12頁第3行のrND−1,0B 65F
e −0,5A 1−0.5N d JをrNd−1
,0B−65F e −0,5A I −0,5N b
Jと補正する。
e −0,5A 1−0.5N d JをrNd−1
,0B−65F e −0,5A I −0,5N b
Jと補正する。
Claims (1)
- 1、R(RはYを含む希土類元素の少なくとも一種)5
〜40重量%、Fe50〜90重量%、B0.2〜8重
量%および添加元素M(MはNi、Nb、Al、Ti、
Zr、Cr、V、Mn、Mo、Si、Sn、Cuおよび
Znから選ばれる少なくとも一種)8重量%以下からな
る焼結磁石体表面にNi−Pの合金層を有する高耐食性
希土類永久磁石。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62030997A JPH069168B2 (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 高耐食性希土類永久磁石 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62030997A JPH069168B2 (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 高耐食性希土類永久磁石 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63198305A true JPS63198305A (ja) | 1988-08-17 |
JPH069168B2 JPH069168B2 (ja) | 1994-02-02 |
Family
ID=12319232
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62030997A Expired - Fee Related JPH069168B2 (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 高耐食性希土類永久磁石 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH069168B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0345092A1 (en) * | 1988-06-02 | 1989-12-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A method for producing a corrosion resistant rare earth- containing magnet |
US7473343B2 (en) | 2003-03-05 | 2009-01-06 | Tdk Corporation | Method of manufacturing rare-earth magnet, and plating bath |
CN112725751A (zh) * | 2020-12-16 | 2021-04-30 | 太原理工大学 | 一种超薄钕铁硼永磁体表面防护涂层的制备方法 |
-
1987
- 1987-02-13 JP JP62030997A patent/JPH069168B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0345092A1 (en) * | 1988-06-02 | 1989-12-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A method for producing a corrosion resistant rare earth- containing magnet |
US7473343B2 (en) | 2003-03-05 | 2009-01-06 | Tdk Corporation | Method of manufacturing rare-earth magnet, and plating bath |
CN112725751A (zh) * | 2020-12-16 | 2021-04-30 | 太原理工大学 | 一种超薄钕铁硼永磁体表面防护涂层的制备方法 |
CN112725751B (zh) * | 2020-12-16 | 2022-03-25 | 太原理工大学 | 一种超薄钕铁硼永磁体表面防护涂层的制备方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH069168B2 (ja) | 1994-02-02 |
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