JPS63197611A - 情報記録担体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は情報記録担体の製造方法に係り、特にフォトポ
リマー樹脂を用いて原盤を作成し、前記原盤に対して更
にフォトポリマー樹脂を用いて複製を行うディスクの複
製方法に関するものである。

（従来技術と問題点） ディスクは情報記録担体として、光ディスクに代表され
るように、記録密度が高く容量が大きい、ランダムアク
セスに優れている、ビット当りの価格が安い、等の利点
があり、高度情報社会において大きく期待され、各分野
に盛んに応用され゛ている。

次に、従来技術によるこれらディスクの基本的な製造方
法を図面と共に説明する。第２図（Ａ）乃至第２図（Ｇ
）は、従来技術によるディスクの製造方法の概要を示す
図である。

先ず、第２図＜Ａ）に示す如く研磨したガラス盤１上に
フォトレジスト２を塗布し、Ａｒ十レーザー等のカッテ
ィング光源３を用いて信号を記録する。

次に、第２図（Ｂ）に示す如く、現像を行いビット４を
形成する。これが原盤５となる。

次に、第２図（Ｃ）に示す如く、ニッケルめっき処理−
によりマスタ６を作成し、続いてこれから再びニッケル
めっき処理により、第２図（Ｄ）に示す如くマザー７を
作成する。更に再びニッケルめっき処理により、第２図
（Ｅ）に示す如くスタンバ８を作成する。

このスタンバ８より、第２図（Ｆ）に示す如くプラスチ
ック成型により、プラスチック成形品９を作成し、保護
膜１０を設ける等の後工程を経て、第２図（Ｇ）に示す
如くディスク１１が完成する。

上記した従来技術によるディスクの製造方法においては
、非常に精密なめっき工程が中心となっており、これは
かなり長時間を必要とする工程であり、大規模な設備投
資の問題があり、公害等の問題も深刻である。

又、プラスチック成形の方法としては、インジェクショ
ン法、フォトポリマー法等がある。

しかし、インジェクション法では成形樹脂の問題から信
号ビット形状が劣化し、この劣化を防止するため用いら
れているフォトポリマー法においても、ニッケルの表面
状態によっては液状フォトポリマーに対するニッケルの
接触角が大きいため濡れ性が悪くなり、気泡が入り易（
なるといった問題点がある。

次に、従来技術によるフォトポリーマー法について図面
と共に説明する。

第３図（Ａ）乃至第３図（Ｃ）は従来技術によるフォト
ポリマー法のＪＲ要を示す図である。

先ず、塩化ビニル、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂等を材料としたベースプレート１２を
用意し、第３図（Ａ）に示す如く、このベースプレート
１２とスタンパ８との間にフォトポリマー１３を充てん
する。

次に、第３図（Ｂ）に示す如く、水銀灯１９により、紫
外線２０を露光し、フォトポリマー１３を硬化させる。

次に、第３図（Ｃ）に示す如く硬化したフォトポリマー
１３及びベースプレート１２をスタンパ８から剥離し、
フォトポリマー成型品１４を得る。

これは、特公昭６ｌ−８７６２ｒプラスチック記録担体
の製造方法及び製造装置」に述べられている。

上記した従来技術によるフォトポリマー法においては、
ニッケルにて作成されたスタンパ８に対してのみフォト
ポリマーが使用できるもので、フォトポリマーにて作成
されたスタンパに対して、更にフォトポリマーを用いて
複製を行おうとすると、異種のフォトポリマーであって
も、互いに接着し、それぞれを剥離することは不可能で
ある。

従って、めっき処理工程をなくすため、従来技術による
フォトポリマー法をめっき処理工程の代りに用いること
は不可能であるといった問題点がある。

そこで、本発明は上記した従来技術の問題点を解決し、
めっき処理工程をなくし、時間を大幅に短縮し、良質の
ディスクが複製できるようにした情報記録担体の製造方
法を提供することを目的とする。

（問題を解決するための手段） 本発明は前記目的を達成するために、信号を刻印した原
盤をフォトポリマーを用いて作成し、前記原盤に対し更
にフォトポリマーを用いて複製を行うことを特徴とする
情報記録担体の製造方法を提供するものである。

（実施例） 本発明になる情報記録担体の製造方法の一実施例の概要
を図面と共に説明する。第１図（Ａ）乃至第１図（［）
）は、本発明になる情報記録担体の製造方法の一実施例
の概要を示す図である。

先ず、第１図（Ａ）に示す如く、原盤５等よりフォトポ
リマー法にて作成したフォトポリマー原盤１５をプラズ
マ処理装置１６の陰極１８側に置き、排気した後、フロ
ン系ガスを導入し、陽極１７と陰極１８との間に１３．
５６ＭＨｚの高周波電力をかけ、プラズマ表面処理を施
す。

次に、第１図（Ｂ）に示す如く、ベースプレート１２と
プラズマ表面処理の終了したフォトポリマー原盤１５と
の間にフォトポリマー１３を充てんし、第１図（Ｃ）に
示す如く、水銀灯１９を用いて紫外線２０を露光し、フ
ォトポリマー１３を硬化させる。

次に、第１図（Ｄ）に示す如く、硬化したフォトポリマ
ー１３及びベースプレート１２を、フォトポリマー原盤
１５から剥離し、フォトポリマー成型品１４を得る。

このようにして作成したフォトポリマー成型品１４はフ
ォトポリマー原盤１５として用いることが可能である。

従って、例えば、このフォトポリマー成型品１４を従来
技術によるディスクの製造方法におけるマスタ６、マザ
ー７、あるいはスタンバ８として用いることが可能であ
る。

本実施例においては、フォトポリマー同士の複製を°可
能にするために、硬化したフォトポリマー原盤１５にプ
ラズマ表面処理を施した。これは、フロン系ガスを用い
るのが望ましく、フォトポリマー表面にフッ素の極性基
を植え付け、又、フッ素のフリーラジカルを付着させる
のである。

フォトポリマー表面のこれらフッ素原子は、原子核と自
由電子との間の相互作用が非常に大きいため、分極率が
小さく、電気陰性度が高い。このため、フォトポリマー
表面の表面自由エネルギーが小さくなり接着しにくくな
るためと考えられている。これは、電子材料１９８１年
７月！１１１．　１２０〜１２５「高分子材料のプラズ
マ表面処理」を参考とした。

本実施例においては、プラズマ処理装置１６として、平
行平板型反応性イオンエツチング装置を用い、ガスはＣ
Ｆ４を用い、圧力２５ｍ　Ｔｏｒｒ　。

高周波電力１００Ｗ、の条件で１分間処理を打つた。

使用できるガスとしては、ＣＨＦ３　。

ｃｓｒ　Ｆ３　、Ｃ２Ｆｓ　、ＳＦｓ　、０３　Ｆ８　
。

０４　Ｆ６等がある。

又、高周波電力が５０Ｗ以下になると、表面処理の効果
が得られなくなり、この電力を大きくし過ぎてもフォト
ポリマー表面にダメージが生じる。

（発明の効果） 以上の如く、本発明になる情報記録担体の製造方法はフ
ォトポリマー同士で複製を行うようにしたので、従来技
術によるディスクの製造工程からめっき処理工程をなく
すことができるため、大幅な時間短縮、公害処理設備投
置の縮小、複製忠実度の向上、歩留り及び作業性の改善
等がなされるといった多くの特長を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ＞乃至第１図（Ｄ）は本発明になる情報記録
担体の製造方法の一実施例の概要を示す図、第２図（Ａ
）乃至第２図（Ｇ）は従来技術によるディスクの製造方
法の概要を示す図、第３図（Ａ＞乃至第３図（Ｃ）は従
来技術によるフォトポリマー法の概要を示す図である。 １・・・ガラス盤、２・・・フォトレジスト、３・・・
カッティング光源、４・・・ビット、５・・・原盤、６
・・・マスタ、７・・・マザー、８・・・スタンバ、９
・・・プラスチック成型品、１０・・・保護膜、１１・
・・ディスク、１２・・・ベースプレート、１３・・・
フォトポリマー、１４・・・フォトポリマー成型品、１
５・・・フォトポリマー原盤、１６・・・プラズマ処理
装置、１７・・・陽極、１８・・・陰極、１９・・・水
銀灯、２０・・・紫外線。 ′ｆ　１　昭　（へ〕 プ珂ｊｌＥン〕　（ｌ）ン　　　　　　　　　　　　づ
１〒　三さ　−ｉ１　　（Ｃ）ｔＡン （Ｃ） （Ｄ） （Ｅ） （メ「） 才２犯 手続補正書 １、事件の表示 昭和６２年特許願第２９２５７号 ２、発明の名称 情報記録担体の製造方法 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 信号を刻印した原盤をフォトポリマーを用いて作成し、
   前記原盤に対し更にフォトポリマーを用いて複製を行う
   ことを特徴とする情報記録担体の製造方法。