JPS63192895A - コ−テイング部材 - Google Patents
コ−テイング部材Info
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- JPS63192895A JPS63192895A JP62025459A JP2545987A JPS63192895A JP S63192895 A JPS63192895 A JP S63192895A JP 62025459 A JP62025459 A JP 62025459A JP 2545987 A JP2545987 A JP 2545987A JP S63192895 A JPS63192895 A JP S63192895A
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 12
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 10
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 6
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 abstract description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 18
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 8
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 4
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Insulated Conductors (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、電気部品、機械部品などに用いられる金属
等からなる部材、たとえば、耐熱7R線などのような部
材に関し、特に耐熱性、耐化学薬品性、耐食性、絶縁性
等を付与するために基材の表面に被覆を施したコーティ
ング部材に関するものである。
等からなる部材、たとえば、耐熱7R線などのような部
材に関し、特に耐熱性、耐化学薬品性、耐食性、絶縁性
等を付与するために基材の表面に被覆を施したコーティ
ング部材に関するものである。
[従来の技術]
電気部品、機械部品などに用いられる部材では、その使
用環境に応じて、耐熱性、耐化学薬品性、耐食性、絶縁
性等が要求される。近年、これらの特性の改善を目的に
金j11等の部材の表面にセラミックスをコーティング
する技術が実用化され始めている。この方法として、プ
ラズマCvD法、スパッタリング法等の気相から膜形成
を行なう方法が使用されてきた。
用環境に応じて、耐熱性、耐化学薬品性、耐食性、絶縁
性等が要求される。近年、これらの特性の改善を目的に
金j11等の部材の表面にセラミックスをコーティング
する技術が実用化され始めている。この方法として、プ
ラズマCvD法、スパッタリング法等の気相から膜形成
を行なう方法が使用されてきた。
[発明が解決しようとする問題点]
上記のような気相から膜形成を行なう方法によると、酸
化物、窒化物、炭化物等の広い範囲のセラミックス膜を
形成することができる。しかしながら、たとえばセラミ
ックスと基材の種類によってはAfL20.とCuのよ
うに、セラミックス膜と基材との密着性が良好でないも
のがある。これは、セラミックス膜と基材との熱膨張率
の差により、熱応力がその界面に発生するためと考えら
れる。
化物、窒化物、炭化物等の広い範囲のセラミックス膜を
形成することができる。しかしながら、たとえばセラミ
ックスと基材の種類によってはAfL20.とCuのよ
うに、セラミックス膜と基材との密着性が良好でないも
のがある。これは、セラミックス膜と基材との熱膨張率
の差により、熱応力がその界面に発生するためと考えら
れる。
イこで、この発明は、被膜と基材との密着性を高めると
ともに、耐熱性、耐化学薬品性、耐食性、絶縁性等の種
々の特性を発揮するコーティング部材を提供することを
目的とする。
ともに、耐熱性、耐化学薬品性、耐食性、絶縁性等の種
々の特性を発揮するコーティング部材を提供することを
目的とする。
[問題点を解決するための手段]
この発明に従ったコーティング部材は、基材の表面の上
に陽極酸化膜を形成し、さらにこの陽極酸化膜の上に気
相から生成されたセラミックス膜を形成したものである
。
に陽極酸化膜を形成し、さらにこの陽極酸化膜の上に気
相から生成されたセラミックス膜を形成したものである
。
[発明の作用効果]
金属を電解質水溶液に浸漬し、アノード分極すると金属
の種類によっては金属の表面に酸化被膜を形成するもの
がある。この酸化被膜は陽極酸化膜と呼ばれ、金属であ
る基材表面との密着性が良好である。また、陽極酸化膜
は、気相から生成されるセラミックス膜に対しても良好
な[性を呈することが認められる。この発明は、このよ
うな本願発明者らの知見に基づくものである。
の種類によっては金属の表面に酸化被膜を形成するもの
がある。この酸化被膜は陽極酸化膜と呼ばれ、金属であ
る基材表面との密着性が良好である。また、陽極酸化膜
は、気相から生成されるセラミックス膜に対しても良好
な[性を呈することが認められる。この発明は、このよ
うな本願発明者らの知見に基づくものである。
したがって、まず金属である基材に対して陽極酸化膜を
形成し、その上に付与したい特性を有するセラミックス
を気相から生成さけて被膜として形成する。そうすると
中間層とし゛C存在する陽極酸化膜は基材との密着性が
良く、また、その上に形成されたセラミックス膜とも密
着性が良いため、被覆物全体が基材に対して良好な密着
性を示す。
形成し、その上に付与したい特性を有するセラミックス
を気相から生成さけて被膜として形成する。そうすると
中間層とし゛C存在する陽極酸化膜は基材との密着性が
良く、また、その上に形成されたセラミックス膜とも密
着性が良いため、被覆物全体が基材に対して良好な密着
性を示す。
また、第1層は基材である金属の酸化物に限られるが、
第21iとして表層部を形成しているセラミックスは酸
化物の他、炭化物、窒化物など種々のセラミックスから
広く選択することができる。そのため、用途に応じて、
所望の被膜を形成することができる。
第21iとして表層部を形成しているセラミックスは酸
化物の他、炭化物、窒化物など種々のセラミックスから
広く選択することができる。そのため、用途に応じて、
所望の被膜を形成することができる。
また、陽極酸化膜表面の上に気相から生成させる方法を
用いてセラミックス膜を形成する場合、陽極酸化膜がそ
の表面上に形成されるセラミックス膜との界面に発生す
る熱応力を緩和し、密着性を高める働きをする。さらに
、陽極酸化膜は絶縁性、耐食性という特性も有する。
用いてセラミックス膜を形成する場合、陽極酸化膜がそ
の表面上に形成されるセラミックス膜との界面に発生す
る熱応力を緩和し、密着性を高める働きをする。さらに
、陽極酸化膜は絶縁性、耐食性という特性も有する。
なお、この発明においてセラミックス被膜は、プラズマ
CVD法等のCVD法、スパッタリング等のPVD法に
よって形成される。
CVD法等のCVD法、スパッタリング等のPVD法に
よって形成される。
さらに、セラミックス被膜の上にポリイミド、ポリアミ
ドイミド等の有機物被覆を形成して表面滑り性や可撓性
、常温下での絶縁性を高めるようにしてもよい。
ドイミド等の有機物被覆を形成して表面滑り性や可撓性
、常温下での絶縁性を高めるようにしてもよい。
基材としては金属や合金等が用いられるが、少なくとも
その表面が陽極酸化する金属であればよい、また陽極酸
化膜としては、優れた絶縁性を示すアルマイトと呼ばれ
る、主成分がAizOsであるものが望ましい。セラミ
ックス膜としてはAC30a 、St Oz 、M(l
O,T’+ 02なトノ酸化物からなる膜が望ましく
、耐熱性、耐食性に浸れている。
その表面が陽極酸化する金属であればよい、また陽極酸
化膜としては、優れた絶縁性を示すアルマイトと呼ばれ
る、主成分がAizOsであるものが望ましい。セラミ
ックス膜としてはAC30a 、St Oz 、M(l
O,T’+ 02なトノ酸化物からなる膜が望ましく
、耐熱性、耐食性に浸れている。
また、本発明によるコーティング部材とは典型的には耐
熱電線である。しかし、この発明は耐熱電線に限定され
るものではなく、耐熱性、耐化学薬品性、耐食性、絶縁
性等の種々の特性が要求される機械部品や電気部品など
に広く適用され得る。
熱電線である。しかし、この発明は耐熱電線に限定され
るものではなく、耐熱性、耐化学薬品性、耐食性、絶縁
性等の種々の特性が要求される機械部品や電気部品など
に広く適用され得る。
〔実施例1]
直径11IIIlφのアルミニウム線をlii!El溶
液中に浸漬・通電することによってアルマイト処理を施
し、その表面にALzO−を主成分とする膜厚5μmの
陽極酸化膜を形成した。さらに、(の被覆アルミニウム
線表面上に反応性イオンブレーティング法により気相か
ら生成される膜厚3μ−のA Q 20、膜を形成した
ものを、試料として作製した。
液中に浸漬・通電することによってアルマイト処理を施
し、その表面にALzO−を主成分とする膜厚5μmの
陽極酸化膜を形成した。さらに、(の被覆アルミニウム
線表面上に反応性イオンブレーティング法により気相か
ら生成される膜厚3μ−のA Q 20、膜を形成した
ものを、試料として作製した。
比較のため、同様のアルミニウム線の表面にアルマイト
処理のみ施し、IIJ2N8μmのALzO3膜を形成
したもの、および同様のアルミニウム線の表面に直接、
反応性イオンプレーディング法により膜厚8μlのΔ1
120=Illを形成したものを、試料として作製した
。
処理のみ施し、IIJ2N8μmのALzO3膜を形成
したもの、および同様のアルミニウム線の表面に直接、
反応性イオンプレーディング法により膜厚8μlのΔ1
120=Illを形成したものを、試料として作製した
。
得られた3種の試料を用いて、塩水噴霧法によって耐食
性と密着性、および絶縁破壊電圧を調べた。その結果、
本発明に従った、陽極酸化膜と反応性イオンブレーティ
ング法による膜とからなるAu20−被覆アルミニウム
線は、他の2者、陽極酸化膜のみ、および反応性イオン
ブレーティング法による膜のみのA l 20−被覆ア
ルミニウム線に比べて、密着性、耐食性に優れ、また絶
縁破壊電圧も高い値を示した。
性と密着性、および絶縁破壊電圧を調べた。その結果、
本発明に従った、陽極酸化膜と反応性イオンブレーティ
ング法による膜とからなるAu20−被覆アルミニウム
線は、他の2者、陽極酸化膜のみ、および反応性イオン
ブレーティング法による膜のみのA l 20−被覆ア
ルミニウム線に比べて、密着性、耐食性に優れ、また絶
縁破壊電圧も高い値を示した。
第1図は、上記方法によって得られた本発明例のII2
.20.被覆アルミニウム線を示す断面図である。図示
するAu20.被覆アルミニウム線は、基材であるアル
ミニウム線1と、陽極酸化膜であるAl120−膜2と
、反応性イオンブレーティング法によって気相から生成
されたセラミックス膜であるAl20.膜3とからなる
。
.20.被覆アルミニウム線を示す断面図である。図示
するAu20.被覆アルミニウム線は、基材であるアル
ミニウム線1と、陽極酸化膜であるAl120−膜2と
、反応性イオンブレーティング法によって気相から生成
されたセラミックス膜であるAl20.膜3とからなる
。
[実施例2]
直径1mmφの銅線の表面にスパッタリング法によって
AfL膜を形成した後、その表面にアルカリアルマイト
法によりAfLtO−を主成分とする膜MI3μmの陽
極酸化膜を形成した。得られたAu20、被覆銅線の表
面の上にプラズマCVD法により気相から生成される膜
厚7μmのA120゜膜を形成した。さらに、この△1
zOa被覆銅線の外表面にポリイミドとポリアミドイミ
ドとを塗布し、その後焼付けた。それによって、膜厚1
0μIのポリイミドと膜厚2μmのポリアミドイミドと
からなる有機物被覆を施したものが得られた。
AfL膜を形成した後、その表面にアルカリアルマイト
法によりAfLtO−を主成分とする膜MI3μmの陽
極酸化膜を形成した。得られたAu20、被覆銅線の表
面の上にプラズマCVD法により気相から生成される膜
厚7μmのA120゜膜を形成した。さらに、この△1
zOa被覆銅線の外表面にポリイミドとポリアミドイミ
ドとを塗布し、その後焼付けた。それによって、膜厚1
0μIのポリイミドと膜厚2μmのポリアミドイミドと
からなる有機物被覆を施したものが得られた。
この被覆銅線を巻線として使用したところ、耐熱性、絶
縁性、可撓性ともに良好であった。
縁性、可撓性ともに良好であった。
第2図は、このようにして得られた巻線用の被覆銅線を
示す断面図である。図示する被覆銅線は・、基材の芯部
である銅線4と、基材の表層部ひある、スパッタリング
法によるAi膜5と、陽極酸化膜であるAiz 0.1
16.!:、プラズマCVD法によって気相から生成さ
れたセラミックス膜であるAfL20sFIA7と、ポ
リイミド膜8と、ポリアミドイミド膜9とからなる。
示す断面図である。図示する被覆銅線は・、基材の芯部
である銅線4と、基材の表層部ひある、スパッタリング
法によるAi膜5と、陽極酸化膜であるAiz 0.1
16.!:、プラズマCVD法によって気相から生成さ
れたセラミックス膜であるAfL20sFIA7と、ポ
リイミド膜8と、ポリアミドイミド膜9とからなる。
第1図は、この発明に従ったコーティング部材で実施例
1において、基材がアルミニウム線からなっているもの
を示す断面図である。 第2図は、この発明に従ったコーティング部材で実施例
2において、基材がアルミニウム被覆銅線からなってい
るものを示す断面図である。 図において、1は基材であるアルミニウム線、2は陽極
酸化膜であるAfLI O,II、3はセラミックス膜
であるΔLzO−膜である。 第7図 第2図
1において、基材がアルミニウム線からなっているもの
を示す断面図である。 第2図は、この発明に従ったコーティング部材で実施例
2において、基材がアルミニウム被覆銅線からなってい
るものを示す断面図である。 図において、1は基材であるアルミニウム線、2は陽極
酸化膜であるAfLI O,II、3はセラミックス膜
であるΔLzO−膜である。 第7図 第2図
Claims (6)
- (1)基材の表面の上に陽極酸化膜を形成し、さらに前
記陽極酸化膜の上に気相から生成されたセラミックス膜
を形成した、コーティング部材。 - (2)前記基材は、少なくともその表面が陽極酸化する
金属である、特許請求の範囲第1項記載のコーティング
部材。 - (3)前記陽極酸化膜は、主成分がAl_2O_3であ
る、特許請求の範囲第1項または第2項記載のコーティ
ング部材。 - (4)前記セラミックス膜の上に有機物被覆を有してな
る、特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記
載のコーティング部材。 - (5)前記セラミックスが、Al_2O_3、SiO_
2、MgO、TiO_2を含む群から選ばれた少なくと
も1つの酸化物である、特許請求の範囲第1項ないし第
4項のいずれかに記載のコーティング部材。 - (6)当該コーティング部材は、耐熱電線である、特許
請求の範囲第1項ないし第5項記載のコーティング部材
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62025459A JPS63192895A (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | コ−テイング部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62025459A JPS63192895A (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | コ−テイング部材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63192895A true JPS63192895A (ja) | 1988-08-10 |
Family
ID=12166611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62025459A Pending JPS63192895A (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | コ−テイング部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63192895A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2008516459A (ja) * | 2004-10-13 | 2008-05-15 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | 電気絶縁性半導体基板のMgOベースのコーティング及びその製造方法 |
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EP2544190A1 (fr) * | 2011-07-04 | 2013-01-09 | Nexans | Câble électrique à corrosion limitée et à résistance au feu améliorée |
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JP2017115193A (ja) * | 2015-12-22 | 2017-06-29 | アイシン精機株式会社 | アルミニウム成形品及びその製造方法 |
-
1987
- 1987-02-05 JP JP62025459A patent/JPS63192895A/ja active Pending
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