JPH0315113A - 絶縁電線 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、絶縁電線に関し、特に高真空機器や高温使
用機器等の高真空の環境下、または高温度の環境下にお
いて用いられる配線用電線や巻線用電線等の絶縁ｗ１ｖ
Ａに関するものである。

［従来の技術］ 絶縁電線は、加熱設備や火災報知器などの高温下におけ
る安全性が要求される設備に使用されることがある。ま
た、絶縁電線は、自動車内の高温度に加熱される環境下
においても用いられる。このような絶縁電線としては、
従来から、導体にポリイミドやフッ素系樹脂等の耐熱性
有機樹脂が被覆された絶縁電線が使用されている。

高い耐熱性が要求される用途や、高い真空度が要求され
る環境下で使用される場合には、有機物被覆では、耐熱
性やガス非放出性等の点で不十分である。そこで、セラ
ミックス製のがイシ管に導体が通された形式の絶縁電線
や、酸化マグネシウムなどの金属酸化物微粒子が詰めら
れた、ステンレス合金等からなる耐熱合金製の管に導体
が通された形式のＭ！ケーブル（Ｍｉｎｅｒａｌ　　Ｉ
ｎｓｕｌａｔｅｄ　　Ｃａｂｌｅ）などが、そのような
用途に使用されてきた。

また、耐熱性とともに可撓性が要求される絶縁電線とし
ては、ガラス繊維が紡織されたものを絶縁部材として使
用するガラス編組絶縁電線などが挙げられる。

［発明が解決しようとする課題］ 上記のような耐熱性を有する有機樹脂が被覆された絶縁
電線においては、絶縁性が保たれ得る最高の温度は、高
々２００℃程度である。そのため、２００℃以上の高い
温度下において絶縁性の保証が要求される用途には、こ
のような有機物絶縁被覆電線を使用することはできなか
った。

また、セラミックス製のガイシ管を用いて耐熱性が高め
られた絶縁電線は、可撓性に乏しい等の欠点を有する。

Ｍ１ケーブルは耐熱性の合金管と導体とによって構或さ
れるため、ケーブルの外径が大きくなる。そのため、Ｍ
ｌケーブルは、耐熱性の合金管内に通される導体が許容
する電力量に対して、相対的に大きな断面を有するケー
ブルとなる。また、Ｍｌケーブルの外層は耐熱性合金管
によって構或されるため、良好な可撓性を有する。

しかしながら、ボビン等にコイル状に巻かれる巻線用電
線として用いるためには、耐熱合金製の管を所定の曲率
で曲げる必要がある。このとき、耐熱合金製の管に施さ
れる曲げ加工は困難さを伴う。

また、Ｍ！ケーブルをコイル状に巻く場合、導体に比べ
て、その外層の管が太いので、巻線密度を向上させるこ
とが困難である。

さらに、可撓性とともに耐熱性が備えられたガラス編組
絶縁電線を用いる場合、用途に応じて所定の形状に配置
するとき、ガラス繊維からガラスの粉塵が発生するとい
う問題がある。このガラス粉塵は、ガスの吸着源となり
得る。そのため、高い真空度が要求される環境下でガラ
ス編組絶縁電線を用いると、ガラス粉塵によって提供さ
れるガス吸着源のために、高い真空度を保つことは不可
能であった。

一方、従来から、耐熱性、絶縁性、熱放散性の良好な絶
縁電線として、アルミニウムあるいはアルミニウム合金
の線材に陽極酸化処理を施した、いわゆるアルマイト電
線が存在する。このアルマイト電線においては、その基
材がアルミニウムに限定される。また、その基村上に形
成される無機絶縁層も酸化アルミニウムに限定される。

そのため、種々の用途に適した基材と無機絶縁層との組
合わせを選定することができないという問題点があった
。

そこで、この発明は上記の問題点を解消するためになさ
れたもので、以下の事項を備えた絶縁電線を提供するこ
とを目的とする。

（ａ）　　高温度の環境下において高い絶縁性を有する
こと。

（ｂ）　　可撓性に優れていること。

（Ｃ）　　ガス吸着源を備えていないこと。

（ｄ）　　Ｆ４々の用途に適した基材と無機絶縁層との
組合わせを選ぶことができること。

［課題を解決するための手段コ この発明に従った絶縁電線は、基材と、酸化クロム含有
層と、酸化物絶縁層とを備えている。基材は、外表面を
有し、導体を含む。酸化クロム含有層は、基材の外表面
上に形成されている。酸化物絶縁層は、酸化クロム含有
層の上にゾル−ゲル法、または有機酸塩熱分解法によっ
て、金属酸化物の前駆体溶液を塗布することによって形
成されている。

酸化クロム含有層は、電気化学的手法によって形戊され
ることが好ましい。ここで、電気化学的手法とは、電解
めっき広、無電解めっき法をいう。

酸化物絶縁層を施す下地層は、密着層として好ましく機
能するためには、Ｃｒｙ，−ｘ　　（１．５≦Ｘ≦２．
５）層であればよい。すなわち、電気化学的手法により
形成される層は、その最外層に酸化クロム層を有する。

酸化物絶縁層は、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジ
ルコニウムを含むことが好ましい。基材は、高い導電性
とコストの観点から、銅または銅合金が用いられること
が好ましい。また、より高温での用途等を考慮した場合
、基材の表面層には、ニッケル、クロム、銀、鉄または
鉄合金、ステンレス合金、チタンまたはチタン合金が含
まれるのが好ましい。

［発明の作用効果］ 銅または銅合金等の導体の上には、クロムめっき層が良
好な密着層として形成されることは知られている。しか
しながら、金属酸化物の前駆体溶液の加熱処理によって
得られる酸化珪素等の絶縁性酸化物セラミックスは、ク
ロムめっき層に対して、ほとんど付着性を示さない。こ
れは、本願発明者等の知見に基づくものである。

また、銅からなる導体の表面上にセラミックスの薄膜を
直接、形成した絶縁電線においては、絶縁層として機能
するセラミックス薄膜の基材に対する付着力が不十分で
ある。

そこで、この発明においては、基材の外表面上に、最外
層に酸化クロム層を有する層が形成される。この酸化ク
ロム層の上には、絶縁性の酸化物セラミックスが、良好
な密着性を有する層として付着する。

上記酸化クロム層は、電気化学的手法により形成される
。酸化クロム層を電解めっき法を用いて形戊する場合、
電解液としてクロム酸の水溶液に少量の有機酸を添加し
たものが用いられる。一般的に、クロムめっきを行なう
際に使用する電解浴としでは、クロム酸、硫酸を主体と
するサージエント浴が知られているが、この浴とは以下
の点で異なる。つまり、電解浴中に混合する鉱酸は、電
解めっきの際にめっき層の表面上に生成する酸化クロム
を溶解する働きがある。このため、サージエント浴を使
用すると、光沢状の金属クロム層がめっきされる。本願
発明においては、酸化クロムを優先的にめっきすること
が必要である。したがって、本願発明で用いられる電解
浴には少量の有機酸が添加される。また、硫酸等の鉱酸
を使用する場合では、特に希薄な電解浴を用いる必要が
ある。つまり、クロム酸濃度は５０ｇ／ｉ以下でかつ硫
酸濃度はＩｇ／１１以下である。また、酸化クロムを主
体とする層の外表面上に、金属酸化物の前駆体溶液の加
熱処理によって絶縁性セラミックスの薄膜が形成される
が、この薄膜の付着性をより大きくするために、酸化ク
ロムを主体とする層の表面が粗面であることが好ましい
。

クロム酸ソーダ水溶液に、たとえば、クエン酸ソーダ、
炭酸ソーダ等を添加した電解液を用いて、電解めっき法
により酸化クロ゛ム含有層を形成してもよい。この際、
形成される層は、電解岐中の六価のクロムが三価に還元
されて生成する酸化クロムを主成分とするものである。

なお、この電解めっき処理の際、基材として銅を使用し
た場合には、基材表面が酸化され、その外方に酸化クロ
ム含有層が形成される。しかしながら、この基材表面の
酸化により、酸化クロム含有層の基材に対する密着性が
低下することはない。

本発明の酸化クロム含有層を形成するときの電解めっき
の条件は、一般に行なわれる光沢めっきとは処理電流密
度等が異なる。光沢めっきにおいては、処理温度にもよ
るが、電流密度が１０〜６０Ａ／ｄｍ２に設定されるが
、本発明においては、電流密度が１００〜２０ＯＡ／ｄ
ｍ２に設定される。この電流密度の条件により、粗面化
された酸化クロム含有層が形成され得る。

酸化クロム含有層の上には、金属酸化物の前駆体溶液を
塗布することにより、絶縁性酸化物層が形成されている
。この明細書でいう、金属酸化物の前駆体溶液とは、金
属有機化合物から調製される溶液であり、ゾル−ゲル法
または有機酸塩熱分解法に対応して大別され、以下の２
種類のタイプのものが含まれる。

第１のタイプの前駆体溶液は、金属アルコキシドおよび
金属のアセテートなどの加水分解可能な金属一酸素一有
機基結合を含む化合物を加水分解反応および脱水縮合反
応させることにより生成した溶液である。この溶液には
、アルコール等の有機溶媒、金屈アルコキシド等の原料
化合物、加水分解反応に必要な水および触媒が含まれて
いてもよい。また、無機塩より生威すろ水酸化物ゾルと
異なり、アルコキシド等の有機残基を含んでいる場合が
多い。

第２のタイプの前駆体溶液は、金属の有機酸塩などの金
属有機化合物を適当な有機溶媒に溶解した溶液である。

このタイプの前駆体溶液を用いる方法では、塗布後に加
熱して熱分解することにより金属酸化物を生成させる。

このため、用いる金属有機化合物の分解温度はその沸点
やあるいは昇華点よりも低いことが必要である。

なお、この明細書でいう金属有機化合物は、たとえば、
Ｊｏｕｒｎａｌ　　ｏｆ　　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　　Ｓ
ｃｉｅｎｃｅ　　１２（１９７７）ｐｐ．１２０３〜１
２０８に記載された”ｍｅｔａｌ−ｏｒｇａｎｉｃ　　
ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ’　と同様の概念である。

さらに、有機溶媒の揮発と残留有機物質の除去のために
、塗布層は、室温より高い温度で放置される必要がある
。しかしながら、この放置される雰囲気の温度は、基材
を構成する金属の融点以上の高温度であってはならない
。

金属酸化物の前駆体溶液の塗布によって、ほとんどすべ
ての金属酸化物系セラミックス被覆を形成することがで
きる。この方法によって形成される金属酸化物の例とし
て、Ｓ　ｉ　０２　、Ａ　Ｑ．２　０３、Ｚ　ｒ　Ｏ　
４　、Ｔ　Ｉ　Ｏ　２　、Ｍ　ｇ　Ｏ等を挙げることが
できる。また、第１のタイプの前駆体溶液に用いられる
金属アルコキシドとしてはエトキシド、プロポキシド、
ブトキシド等を挙げることができる。

第２のタイプの前駆体溶液に用いられる有機酸塩として
はナフテン酸、カブリル酸、ステアリン酸、オクチル酸
等の金属塩が好ましい。

金属酸化物の前駆体溶液からゾル−ゲル法または有機酸
塩熱分解法によって形成される酸化物絶縁層は、完全に
金属酸化物化された酸化物である。

この酸化物は、酸素気流中の雰囲気下で加熱処理される
ことによって形成されるのが好ましい。酸化クロム含有
層の上に塗布された溶液中に含まれる化合物の分解は、
通常、５００℃程度の温度で完全に終了する。しかしな
がら、それ以上の温度で加熱処理された場合、酸化クロ
ム含有層を構成する元素と、塗布された溶液中に含まれ
る金属または半金属との反応が促進されることによって
、酸化クロム含有層と酸化物層との間の付着力が向上す
る。

このようにして、セラミックス化された酸化物絶縁層は
、５００℃以上の高温下においても優れた耐熱絶縁性を
示す。また、酸化クロム含有層は、基材を構成する導体
との密着性に優れている。そのため、導体の外表面に直
接、金属酸化物の前駆体溶液の加熱処理によって酸化物
絶縁層を形或する場合に比べて、酸化物絶縁層と基材の
外表面との間の付着力が向上する。したがって、この発
明によって提供される絶縁電線は、耐熱絶縁性を備える
とともに、良好な可撓性を有する。

さらに、酸化クロム含有層上に形成される酸化物絶縁層
は、平滑な外表面を有する。そのため、膜厚に比例した
高い絶縁破壊電圧を得ることができるとともに、ガスの
吸着源を減少させることが可能である。

また、この発明においては、基材と酸化物絶縁層との間
には酸化クロム含有層が形成されている。

そのため、酸化クロム含有層を介して、種々の用途に適
した無機絶縁層との組合わせを選定することができる。

［実施例〕 実施例１ （ａ）　　酸化クロム含有層の形或 線径２ｍｍφの銅線の外表面上に電解めっき処理が施さ
れた。このとき、電解岐としては、その濃度が無水クロ
ム酸４　０　ｇ／　Ｌ、硫酸０．４５ｇ／之のものが用
いられた。めっき条件は、塔温が５０℃、電流密度が１
４０Ａ／ｄｍ２、処理時間が２分間であった。このよう
にして、銅線の外表面に酸化クロム含有層が１μｍ程度
の膜厚で形成された。

（ｂ）　　ゾル−ゲル法に用いられるコーティング溶液
の作製 テトラブチルオルトシリケイト：水：イソブ口ピルアル
コール−８：３２：６０のモル比で混合された溶液に、
硝酸をテトラブチルオルトシリケイトに対し、１００分
の３モルの割含で添加した。

その後、温度８０℃で２時間、この溶液を加熱攪拌した
。これにより、ゾル−ゲル法に用いられるコーティング
溶液が合成された。

（ｃ）　　コーティング ＣＢ）によって得られた線材を（ｂ）のコーティング溶
液に浸漬した。このようにしてコーティング溶液が外表
面に塗布された線材に、温度４００℃で１０分間加熱す
る工程を１０回施した。最後に、この線材を温度５００
℃の酸素気流中で１０分間加熱した。

以上のようにして得られた絶縁被覆電線は、第１図に示
されている。第１図は、実施例１によって得られた絶縁
電線の横断面を示す断面図である。

第１図を参照して、銅線１の外表面上に酸化クロム含有
層２が形成されている。この酸化クロム含有層２の上に
は、ゾル−ゲル法によって酸化物絶縁層として酸化珪素
層３が形成されている。酸化クロム含有層２と酸化珪素
層３とによって形成される絶縁層の膜厚は４．０μｍ程
度であった。

得られた絶縁？！Ｓ線の絶縁性を評価するために絶縁破
壊電圧を測定した。室温下においては、その絶縁破壊電
圧は８００Ｖであり、８００℃の温度下においては６０
０Ｖであった。また、直径１０Ｃｍの円筒の外周面上に
、この絶縁電線を巻付けても、絶縁層に亀裂が発生しな
かった。

実施例２ （ａ）　　酸化クロム含有層の形成 ＩＩ　径２　ｍ　ｍφの銅線をパークロロエチレンを用
いて蒸気脱脂した。その後、８５％リン酸：７０％硝酸
：水−１５：２：３の体積比で混合された溶液に、銅線
を浸漬することにより、その表面を粗面化した。

次に、銅線を陰極とし、ステンレス板を陽極として、０
．０５Ａ／ｄｍ２の直流電流を流して電解めっき処理を
行なった。このとき、電解液としては、クロム酸ソーダ
、クエン酸ソーダおよび炭酸ソーダ、それぞれ３０ｇを
水に溶解した約１込の溶戒が用いられた。

このようにして、銅線の外表面上に、約１μｍ程度の膜
厚を有する酸化銅層が形成され、その外方に酸化クロム
含有層が約０．　　１μｍの膜厚で形成された。

（ｂ）　　ゾル−ゲル法に用いられるコーティング溶液
の作製 テトラブチルオルトジルコネート［　（Ｃ４　Ｈ９０）
　４　Ｚ　ｒ］　　：水二〇一ブチルアルコール−５：
１５＋８０のモル比で混合された溶液を１２０℃の温度
で２時間加熱攪拌した。これにより、ゾル−ゲル法に用
いられるコーティング溶液が合成された。

（Ｃ）　　コーティング （ａ）によって得られた線材を（ｂ）のコーティング溶
液に浸漬した。このようにしてコーティング溶液が外表
面に塗布された線材に、温度４００℃で１０分間加熱す
る工程を１０回施した。

以上のようにして得られた絶縁被覆電線は、第２図に示
されている。第２図は、実施例２によって得られた絶縁
電線の横断面を示す断面図である。

第２図を参照して、銅線１１の外表面上に酸化銅層１２
が形成されている。また、この酸化銅層１２の外方には
、酸化クロム含有層１３が形成されている。この酸化ク
ロム含有層１３の上には、ゾル−ゲル法によって酸化物
絶縁層として酸化ジルコニウム層１４が形成されている
。酸化銅層１２、酸化クロム含有層１３と酸化ジルコニ
ウム層１４とによって形成される絶縁層の膜厚は３．０
μｍ程度であった。

得られた絶縁電線の絶縁性を評価するために絶縁破壊電
圧を測定した。室温下においては、その絶縁破壊電圧は
７００Ｖであり、７００℃の温度下においては５００ｖ
であった。また、直径１０ｃｍの円筒の外周面上に、こ
の絶縁電線を巻付けても、絶縁層に亀裂が生じなかった
。

実施例３ （ａ）　　酸化クロム含有層の形成 線径１．８ｍｍφのニッケルめっき銅線の外表面上に電
解めっき処理が施された。このとき、電躬液としては、
その濃度が無水クロム酸２００ｇ／怯、メタバナジン酸
アンモニウム２０ｇ／１１、酢酸６、５ｇ／１１のもの
が用いられた。めっき条件は、基材を陰極として用い、
浴温か５０℃、電流密度が１５０Ａ／ｄｍ２、処理時間
が２分間であった。このようにして、ニッケルめっき銅
線の外表面に酸化クロム含有層が約１μｍの膜厚で形成
された。

酸化クロム含有層の表面状態は、｛ＳＯ４６８−１９８
２のＳｕｒｆａｃｅ　　ＲｏｕｇｈｎｅｓＳによる、中
心線平均粗さＲａが０．１５μｍ１最大高さＲｙが０．
８７μｍであった。表面粗さの測定は、アメリカのＳ　
ｌｏａｎ社製表面形状測定器ＤＥＫＴＡＫ３０３０を用
い、触針径０，５μｍ１針圧１　０　ｍ　ｇ　ｓ基準長
さ５０μｍ１カットオフフィルタを使用しない条件下で
行なわれた。

その１１定結果は第５図に示されている。

（ｂ）　　有機酸塩熱分解法に用いられるコーティング
溶液の作製 ２−エチルーヘキサノイツクシリケイト２０ｇをジブチ
ルエーテル１００ｍｌｌに溶解することによりコーティ
ング溶液を作製した。

（ｃ）　　コーティング （ａ）によって得られた線材を（ｂ）のコーティング溶
液に浸漬した。このようにしてコーティング溶液が外表
面に塗布された線材に、温度５００℃で１０分間加熱す
る工程を１０回施した。

以上のようにして得られた絶縁被覆電線は、第３図に示
されている。第３図は、実施例３によって得られた絶縁
電線の横断面を示す断面図である。

第３図を参照して、銅線２１の外表面上にニッケルめっ
き層２２が形成されたニッケルめっき銅線が基材として
使用されている。このニッケルめっき銅線の外表面上に
酸化クロム含有層２３が形成されている。酸化クロム含
有層２３の上には、有機酸塩熱分解法によって酸化物絶
縁層として酸化珪素層２４が形成されている。酸化クロ
ム含有層２３と酸化珪素層２４とによって構成される絶
縁層の膜厚は５μｍ程度であった。

再られた絶縁電線の絶縁性を評価するために絶縁破壊電
圧を測定した。室温下においては、絶縁破壊電圧は５０
０Ｖであり、８００℃の温度下においては３００Ｖであ
った。また、直径５ｃｍの田筒の外周面上に、この絶縁
電線を巻付けても絶縁層に亀裂が発生しなかった。

実施例４ （ａ）　　酸化クロム含有層の形成 ステンレス合金（ＳＵＳ３０４）が銅線の外表面上に咲
合された線径１．８ｍｍφの、いわゆるステンレスクラ
ッド銅線を基材として使用した。

このステンレスクラッド銅線の外表面上に電解めっき処
理が施された。このとき、電解液としては、その濃度が
無水クロム酸２　０　０　ｇ／　Ｌメタバナジン酸アン
モニウム２　０　ｇ／　（Ｌ，酢酸６．５ｇ／之のもの
が用いられた。めっき条件は、基材を陰極として用い、
浴温か５０℃、電流密度が１５０Ａ／ｄｍ２、処理峙間
が２分間であった。このようにして、ステンレスクラッ
ド銅線の外表面に酸化クロム含有層が約１μｍの膜厚で
形成された。

この表面状態は、ＩＳＯ４６８−１９８２のＳｕｒｆａ
ｃｅ　　Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓによる、中心線平均粗さＲ
ａが０．１５μｍ１最大高さＲＹが０．８７μｍであっ
た。測定は、アメリカのＳｌｏａｎ社製表面形状測定器
ＤＥＫＴＡＫ３０３０を用い、触針径０．５μｍ１針圧
１０ｍｇ％基準長さ５０μｍ１カットオフフィルタを使
用しない条件下で行なわれた。この測定結果としては、
実施例３と同様に第５図に示されるようなものが得られ
た。

（ｂ）　　有機酸塩熱分解法に用いられるコーティング
溶液の作製 アルミニウムテトラーｉ−プトキシド２５ｇをジエチレ
／グリコールモノメチルエーテル１００ｍＬに溶解し、
その後、１５０℃で１時間加熱攪拌した。この溶液を室
温まで放冷した後に、公称粒径０．０３μｍのアルミナ
粒子を３ｇ混合することによりコーティング溶液が作製
された。

（Ｃ）　　７＋−ティング （ａ）によって得られた線材をｃｂ）のコーティング溶
液１こ浸漬した。このようにして−１−ティング溶液が
外表面に塗布された線材に、温度５００℃で１０分間加
熱する工程を１０回施した。

以上のようにして得られた絶縁被ｙ１電線は、第４図に
示されている。第４図は、実施例４によって得られた絶
縁電線の横断面を示す断面図である。

１４図を参照して、銅線３１の外表面上にステンレス合
金層３２を有するステンレスクラッド銅線が基材として
使用されている。このステンレスクラッド銅線の外表面
上に酸化クロム含有層３３が形成されている。この酸化
クロム含有層３３の上には、有機酸塩熱分解法によって
酸化物絶縁層として酸化アルミニウム層３４が形成され
ている。

この酸化アルミニウム層３４は、コーティング溶液に当
初から混合されているアルミナ微粒子を含む酸化アルミ
ニウム混会層からなる。酸化クロム含有層３３と酸化ア
ルミニウム層３４とによって構成される絶縁層の膜厚は
１２μｍ程度であった。

得られた絶縁電線の絶縁性を評価するために絶縁破壊電
圧を測定した。室温下においては、その絶縁破壊電圧は
、９００ｖであり、８００℃の温度下においては７００
ｖであった。また、直径１５ｃｍの円筒の外周面上に、
この絶縁ｍ線を巻付けても絶縁層に亀裂が発生しなかっ
た。

比較例 （ａ）　　金属クロムめっき層の形成 線径１．８ｍｍφのニッケルめっき銅線の外表面上に電
解めっき処理が施された。このとき、用いられる電Ｍ液
としては、その濃度が無水クロム酸２５０ｇ／Ｌ硫酸２
．５ｇ／１１のものが用いられた。めっき条件は、基材
を陰極として用い、浴温か５０℃、電流密度が４０Ａ／
ｄｍ２、処理時間が２分間であった。このようにして、
ニッケルめっき銅線の外表面にクロム含有層が約１μｍ
の膜厚で形成された。

この表面状態は、Ｉ　ＳＯ４６８−１９８２のＳｕｒｆ
ａｃｅ　　Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓによる、中心線平均粗さ
Ｒａが０．０６μｍ，ｉ大高さＲｙが０．５１μｍであ
った。測定は、アメリカのＳｌｏａｎ社製表面形状測定
器ＤＥＫＴＡＫ３０３０を用い、触針径０．　　５μｍ
１針圧１０ｍｇ，基準長さ５０μｍ１カットオフフィル
タを使用しない条件下で行なわれた。この測定結果は第
６図に示されている。光沢状の金属クロム層がニッケル
めっき銅線の外表面に形成された。

（ｂ）　　有機酸塩熱分解法に用いられるコーティング
溶液の作製 ２−エチルーヘキサノイツクシリケイト２０ｇをジブチ
ルエーテル１００ｍｌに溶解することによりコーティン
グ溶液が作製された。

（ｃ）　　コーティング （ａ）によって得られた線材を（ｂ）のコーティング溶
液に浸漬した。このようにしてコーティング溶液が外表
面に塗布された線材に、温度５００℃で１０分間加熱す
る工程を施したところ、加熱後、形成された絶縁層はフ
ィルム状に剥離し、付着性を示さなかった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明に従った絶縁７１線の横断面を実施
例１に対応して示す断面図である。 第２図は、この発明に従った絶縁電線の横断面を実施例
２に対応して示す断面図である。 第３図は、この発明に従った絶縁電線の横断面を実施％
Ｊ３に対応して示す断面図である。 第４図は、この発明に従った絶縁電線の横断面を実施例
４に対応して示す断面図である。 第５図は、実施例３、実施例４に従って形成された酸化
クロム含有層の表面粗さの測定結果を示すグラフである
。 第６図は、比較例に従って形成されたクロムめっき層の
表面粗さの測定結果を示すグラフである。 図において、 １， １　１． ２１， ３１は銅線、 ２， 第１図 １３， ２３， ３３は酸化クロム含有層、 ３， ２４ は酸化珪素層、 １４は酸化ジルコニウム層、 ３４ は酸化アルミニウム層である。 第２図 １１，響鱈東 １３：　Ｑ＊（ｔ’７０４　ｆ有眉 １４１２イと，ジｌムコ＝クム層 第５図 （ｐｍ） 第４＠ 第６図 ３１１凋崇亀 ３３：酎（乙２口４含有層 ３４：ｂ麦化ア／Ｌミニ鳴クビ Ｃ）ｔｍ）

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）外表面を有し、導体を含む基材と、 前記基材の外表面上に形成された酸化クロム含有層と、 前記酸化クロム含有層の上に金属酸化物の前駆体溶液を
   塗布することによって形成された酸化物絶縁層とを備え
   た、絶縁電線。
2. （２）前記酸化クロム含有層は電解めっき法によって形
   成される、請求項１に記載の絶縁電線。
3. （３）前記酸化物絶縁層は酸化珪素、酸化アルミニウム
   および酸化ジルコニウムのいずれかを含む、請求項１に
   記載の絶縁電線。
4. （４）前記基材は銅および銅合金のいずれかを含む、請
   求項１に記載の絶縁電線。
5. （５）前記基材はニッケル、クロムおよびステンレス合
   金のいずれかをその表面層に含む、請求項４に記載の絶
   縁電線。
6. （６）前記酸化物絶縁層は、その中に分散されたセラミ
   ックス微粒子を含む、請求項１に記載の絶縁電線。
7. （７）外表面を有し、導体を含む基材と、 前記基材の外表面上に形成された酸化クロム含有層と、 前記酸化クロム含有層の上にゾル−ゲル法によって形成
   された酸化物絶縁層とを備えた、絶縁電線。
8. （８）外表面を有し、導体を含む基材と、 前記基材の外表面上に形成された酸化クロム含有層と、 前記酸化クロム含有層の上に有機酸塩熱分解法によって
   形成された酸化物絶縁層とを備えた、絶縁電線。