JPS631906B2 - - Google Patents
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- JPS631906B2 JPS631906B2 JP3415382A JP3415382A JPS631906B2 JP S631906 B2 JPS631906 B2 JP S631906B2 JP 3415382 A JP3415382 A JP 3415382A JP 3415382 A JP3415382 A JP 3415382A JP S631906 B2 JPS631906 B2 JP S631906B2
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- gas treatment
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
- C02F3/02—Aerobic processes
- C02F3/12—Activated sludge processes
- C02F3/20—Activated sludge processes using diffusers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03D—FLOTATION; DIFFERENTIAL SEDIMENTATION
- B03D1/00—Flotation
- B03D1/02—Froth-flotation processes
- B03D1/028—Control and monitoring of flotation processes; computer models therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
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- B03D1/24—Pneumatic
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
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- B03D1/247—Mixing gas and slurry in a device separate from the flotation tank, i.e. reactor-separator type
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、濁り液例えば廃水から固体粒子を
分離するための、特に調整された石炭粒子含有濁
り液から石炭粒子を分離するための浮選装置に関
し、特にかかる浮選装置に包含される気体処理装
置に関する。
分離するための、特に調整された石炭粒子含有濁
り液から石炭粒子を分離するための浮選装置に関
し、特にかかる浮選装置に包含される気体処理装
置に関する。
この気体処理装置は、濁り液の流れに平行に広
がる気泡発生面を備え、この気体処理装置におい
ては、調整された濁り液に含有される固体粒子を
付着させるべき気泡が発生させられる。
がる気泡発生面を備え、この気体処理装置におい
ては、調整された濁り液に含有される固体粒子を
付着させるべき気泡が発生させられる。
浮選装置は、この気体処理装置に先行する調整
容器を有し、これの中で、分離すべき固体粒子を
疎水的に反発する化学剤が、濁り液に添加され
る。かくして調整された濁り液は、前記の気体処
理装置に送入される。これの中で、気泡と固体粒
子の複合体が生じ、これは、浮選装置において気
体処理装置に後続する分離装置の中で、あぶくと
なつて上昇し、濁り液から分離される。
容器を有し、これの中で、分離すべき固体粒子を
疎水的に反発する化学剤が、濁り液に添加され
る。かくして調整された濁り液は、前記の気体処
理装置に送入される。これの中で、気泡と固体粒
子の複合体が生じ、これは、浮選装置において気
体処理装置に後続する分離装置の中で、あぶくと
なつて上昇し、濁り液から分離される。
このような浮選の原理は、ドイツ連邦共和国特
許第2420482号明細書に詳述されている。
許第2420482号明細書に詳述されている。
公知の浮選装置では、気体処理装置に、セラミ
ツク材料または金属で作られた気泡発生器が用い
られる。試験によつて明らかになつたところによ
れば、このような堅い材料で作られた気泡発生器
では、作動の際に、特に作動の中断の際に、沈澱
による気泡発生器の目詰りによつて作動の障害が
生じ、これによつて、作動の続行の際に、後続の
分離装置における気泡と固体粒子の複合体の定常
的な流動は確保されない。
ツク材料または金属で作られた気泡発生器が用い
られる。試験によつて明らかになつたところによ
れば、このような堅い材料で作られた気泡発生器
では、作動の際に、特に作動の中断の際に、沈澱
による気泡発生器の目詰りによつて作動の障害が
生じ、これによつて、作動の続行の際に、後続の
分離装置における気泡と固体粒子の複合体の定常
的な流動は確保されない。
さらに公知の浮選装置では、欠点として、この
ような種類および配置の気体処理装置によれば、
後続の分離装置で充分な流過量が得られることは
ない。
ような種類および配置の気体処理装置によれば、
後続の分離装置で充分な流過量が得られることは
ない。
故にこの発明の目的は、上述した欠点を回避
し、濁り液の中の気泡への固体粒子の完全な付着
を確保し、作動の障害なしに大量の処理を達成で
きるような、濁り液例えば廃水から固体粒子を浮
選するための装置を提供することにある。
し、濁り液の中の気泡への固体粒子の完全な付着
を確保し、作動の障害なしに大量の処理を達成で
きるような、濁り液例えば廃水から固体粒子を浮
選するための装置を提供することにある。
この目的の達成のためこの発明によれば、浮選
装置に包含され、濁り液の流れに平行に広がる気
泡発生面を備える、調整された濁り液に含有され
る固体粒子を付着させるべき気泡を発生するため
の、気体処理装置において、前記気泡発生面が、
弾性的で多孔状の、プラスチツク材料からなるホ
ースによつて形成され、前記ホースが、濁り液の
流れに対して横向きに配置される。
装置に包含され、濁り液の流れに平行に広がる気
泡発生面を備える、調整された濁り液に含有され
る固体粒子を付着させるべき気泡を発生するため
の、気体処理装置において、前記気泡発生面が、
弾性的で多孔状の、プラスチツク材料からなるホ
ースによつて形成され、前記ホースが、濁り液の
流れに対して横向きに配置される。
この発明によれば、その技術的進歩として、気
泡発生器が弾性的なホースで形成されているの
で、流動および渦動によつて、特に半径位置およ
び軸線位置において、振動または運動が発生す
る。これによれば、ホースの上面で沈澱が弛み、
かつホースの孔の目詰りが除去されるので、妨害
なしの完全で均一な作動が可能になる。
泡発生器が弾性的なホースで形成されているの
で、流動および渦動によつて、特に半径位置およ
び軸線位置において、振動または運動が発生す
る。これによれば、ホースの上面で沈澱が弛み、
かつホースの孔の目詰りが除去されるので、妨害
なしの完全で均一な作動が可能になる。
この発明の実施例について、図面を参照しなが
ら、以下に詳述する。
ら、以下に詳述する。
第1図に図解的に図示される浮選装置によれ
ば、調整容器1の中で、濁り液が撹拌を使用して
調整される。すなわち、分離すべき固体粒子を疎
水的に反発する化学剤が、濁り液に添加される。
石炭の浮選では、この場合に、松根油が使用され
る。
ば、調整容器1の中で、濁り液が撹拌を使用して
調整される。すなわち、分離すべき固体粒子を疎
水的に反発する化学剤が、濁り液に添加される。
石炭の浮選では、この場合に、松根油が使用され
る。
調整された濁り液は、ポンプ2および必ずしも
必要でない強制混合機3を介して、かつ通路4を
通つて、濁り液環状通路5に供給され、これを介
して、分離装置10のまわりに環状に配置される
気体処理装置7に送入される。
必要でない強制混合機3を介して、かつ通路4を
通つて、濁り液環状通路5に供給され、これを介
して、分離装置10のまわりに環状に配置される
気体処理装置7に送入される。
気体処理装置7には、気体環状通路6および個
個の通路19(第3図)を介して、気体例えば空
気が供給される。気体処理装置7の中では、後述
する方法で、適当な直径の気泡が、流過する濁り
液の中に導入される。同時に、反発された固体粒
子が気泡に付着する。気泡または気泡と固体粒子
の複合体を担持した濁り液は、通路8を通つて分
離装置10に送入される。
個の通路19(第3図)を介して、気体例えば空
気が供給される。気体処理装置7の中では、後述
する方法で、適当な直径の気泡が、流過する濁り
液の中に導入される。同時に、反発された固体粒
子が気泡に付着する。気泡または気泡と固体粒子
の複合体を担持した濁り液は、通路8を通つて分
離装置10に送入される。
分離装置10は、円錐形につぼまる下方部分1
1と、円筒形の上方部分12とからなる。分離装
置10の中で、あぶくの形成が達成される。上方
部分12の中で形成されたあぶくは、離脱装置に
よつてまたはこれなしで、溢流室13に流入し、
出口14に達する。固体粒子の濃縮によつて固体
分の少くなつた濁り液は、反発されなかつた固体
粒子と共に、出口15を通つて、浄化系まで延長
するドレン18に流出する。分離装置10の側方
には、水準調節のための容器17が配置され、こ
れは垂直に調節できるように構成される。容器1
7は、分離装置10の中の濁り液の調節のため、
通路16を介して分離装置10に連通し、他方で
は、別の通路によつてドレン18に連通する。
1と、円筒形の上方部分12とからなる。分離装
置10の中で、あぶくの形成が達成される。上方
部分12の中で形成されたあぶくは、離脱装置に
よつてまたはこれなしで、溢流室13に流入し、
出口14に達する。固体粒子の濃縮によつて固体
分の少くなつた濁り液は、反発されなかつた固体
粒子と共に、出口15を通つて、浄化系まで延長
するドレン18に流出する。分離装置10の側方
には、水準調節のための容器17が配置され、こ
れは垂直に調節できるように構成される。容器1
7は、分離装置10の中の濁り液の調節のため、
通路16を介して分離装置10に連通し、他方で
は、別の通路によつてドレン18に連通する。
分離装置10を上方から見た第2図には、濁り
液環状通路5に連結される気体処理装置7の環状
配置が明示される。気体処理装置7の個数は、任
意に変化でき、浮選装置全体の大きさに依存す
る。
液環状通路5に連結される気体処理装置7の環状
配置が明示される。気体処理装置7の個数は、任
意に変化でき、浮選装置全体の大きさに依存す
る。
第3図の断面図には、分離装置10のまわりの
気体処理装置7の配置が、詳細に示される。この
図からわかるように、濁り液環状通路5からの濁
り液は、個個の通路を通つて、上方から気体処理
装置7に送入され、気体環状通路6からの気体
は、個個の通路19を通つて、気体処理装置7
に、一側または両側から横向きに送入される。気
体処理装置7を流過した濁り液は、大きな弧を描
く通路8を通つて、分離装置10の下方部分11
の下方区域に環状に配列される入口9に流入す
る。入口9は、下方部分11のかなり深い区域に
配置され、これによつて、気泡と固体粒子の浮上
の際の、流れの内部での鎮静が確保される。
気体処理装置7の配置が、詳細に示される。この
図からわかるように、濁り液環状通路5からの濁
り液は、個個の通路を通つて、上方から気体処理
装置7に送入され、気体環状通路6からの気体
は、個個の通路19を通つて、気体処理装置7
に、一側または両側から横向きに送入される。気
体処理装置7を流過した濁り液は、大きな弧を描
く通路8を通つて、分離装置10の下方部分11
の下方区域に環状に配列される入口9に流入す
る。入口9は、下方部分11のかなり深い区域に
配置され、これによつて、気泡と固体粒子の浮上
の際の、流れの内部での鎮静が確保される。
第4図に一実施例として原理的に図示された気
体処理装置7は、実質上箱形に閉じた構造を有
し、これの中には、ホース状に低圧ポリエチレン
またはこれと同等のプラスチツク材料から作られ
た弾性的で多孔状の気泡発生器74が、濁り液の
流れ方向に横向きに配置される。気体処理装置7
は、濁り液環状通路5からの通路に連結するため
の連結管71と、分離装置10へ向う通路8に対
する連結管77とを備え、濁り液の流れ方向は、
連結管71および77の区域に、矢印で示され
る。気体処理装置7には、気体環状通路6(第3
図)から、接続部72または73を介して、気体
(例えば空気または不活性気体)が、気泡発生器
74への送入のために供給される。
体処理装置7は、実質上箱形に閉じた構造を有
し、これの中には、ホース状に低圧ポリエチレン
またはこれと同等のプラスチツク材料から作られ
た弾性的で多孔状の気泡発生器74が、濁り液の
流れ方向に横向きに配置される。気体処理装置7
は、濁り液環状通路5からの通路に連結するため
の連結管71と、分離装置10へ向う通路8に対
する連結管77とを備え、濁り液の流れ方向は、
連結管71および77の区域に、矢印で示され
る。気体処理装置7には、気体環状通路6(第3
図)から、接続部72または73を介して、気体
(例えば空気または不活性気体)が、気泡発生器
74への送入のために供給される。
第4図に図示された実施例では、四個のホース
状の気泡発生器74が、流れ方向に横向きに配置
され、気体送入のための接続部72,73とホー
ス状の気泡発生器74との間に、気体分配室7
5,76が設けられる。気体分配室75,76
は、気体送入の際の圧力衝撃の形成を阻止する。
弾性的で多孔状の低圧ポリエチレンのようなプラ
スチツクからなる気泡発生器すなわちホース74
は、第4図の実施例によれば、濁り液の流れに平
行な気体処理面すなわち気泡発生面を形成するよ
うに、多くの列で前後および上下に配置できる。
上下に配置され列の中で相並ぶように配置される
気泡発生器74の個数は、流過する濁り液および
空気の流量に依存する。
状の気泡発生器74が、流れ方向に横向きに配置
され、気体送入のための接続部72,73とホー
ス状の気泡発生器74との間に、気体分配室7
5,76が設けられる。気体分配室75,76
は、気体送入の際の圧力衝撃の形成を阻止する。
弾性的で多孔状の低圧ポリエチレンのようなプラ
スチツクからなる気泡発生器すなわちホース74
は、第4図の実施例によれば、濁り液の流れに平
行な気体処理面すなわち気泡発生面を形成するよ
うに、多くの列で前後および上下に配置できる。
上下に配置され列の中で相並ぶように配置される
気泡発生器74の個数は、流過する濁り液および
空気の流量に依存する。
第4図に図示された実施例において、ホース状
に形成された気泡発生器74は、少くとも3mmの
内径を有し、これに、2μmと50μmの間の多くの
孔が形成される。この値によれば、2mmから10mm
の間の厚さの濁り液の気体処理層を生じ、これに
よつて、全横断面に渉る完全で均等な気体処理が
達成される。気体処理すべき濁り液の層の厚さが
2mmから10mmの場合には、気体発生室74の相互
間隔は、少くとも4mm最大で20mmでなければなら
ない。濁り液は、気体処理装置7を流過する際
に、可撓性の気泡発生器74の振動を引き起こ
し、これによれば、強固でない多孔状のプラスチ
ツクホースの目詰りが回避される。
に形成された気泡発生器74は、少くとも3mmの
内径を有し、これに、2μmと50μmの間の多くの
孔が形成される。この値によれば、2mmから10mm
の間の厚さの濁り液の気体処理層を生じ、これに
よつて、全横断面に渉る完全で均等な気体処理が
達成される。気体処理すべき濁り液の層の厚さが
2mmから10mmの場合には、気体発生室74の相互
間隔は、少くとも4mm最大で20mmでなければなら
ない。濁り液は、気体処理装置7を流過する際
に、可撓性の気泡発生器74の振動を引き起こ
し、これによれば、強固でない多孔状のプラスチ
ツクホースの目詰りが回避される。
別の図示なしの実施例によれば、濁り液が、弾
性的なホース(気泡発生器74)の中を流れ、同
時に、気体が、外側からホースを通してこれの内
部に供給される。従つて、気泡が、ホースの内壁
面で形成される。
性的なホース(気泡発生器74)の中を流れ、同
時に、気体が、外側からホースを通してこれの内
部に供給される。従つて、気泡が、ホースの内壁
面で形成される。
第1図は、発明の理解に必要でない構成要素を
無視した浮選装置の図解図である。第2図は、分
離装置のまわりに気体処理装置が環状に配置され
るところを示す分離装置の平面図である。第3図
は、分離装置およびこれのまわりに配置される気
体処理装置の図解的断面図である。第4図は、気
体処理装置の1実施例の断面図である。 図面において、5は濁り液通路、6は気体通
路、7は気体処理装置、74は気泡発生器である
ホース、75と76は気体分布室を示す。
無視した浮選装置の図解図である。第2図は、分
離装置のまわりに気体処理装置が環状に配置され
るところを示す分離装置の平面図である。第3図
は、分離装置およびこれのまわりに配置される気
体処理装置の図解的断面図である。第4図は、気
体処理装置の1実施例の断面図である。 図面において、5は濁り液通路、6は気体通
路、7は気体処理装置、74は気泡発生器である
ホース、75と76は気体分布室を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 浮選装置に包含され、濁り液の流れに平行に
広がる気泡発生面を備える、調整された濁り液に
含有される固体粒子を付着させるべき気泡を発生
するための、気体処理装置において、 前記気泡発生面が、弾性的で多孔状の、プラス
チツク材料からなるホースによつて形成され、前
記ホースが、濁り液の流れに対して横向きに配置
されること、を特徴とする気体処理装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3111506A DE3111506C2 (de) | 1981-03-24 | 1981-03-24 | Begasungseinrichtung für Flotationsanlagen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57171457A JPS57171457A (en) | 1982-10-22 |
JPS631906B2 true JPS631906B2 (ja) | 1988-01-14 |
Family
ID=6128138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3415382A Granted JPS57171457A (en) | 1981-03-24 | 1982-03-05 | Flotation device |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4448681A (ja) |
JP (1) | JPS57171457A (ja) |
AU (1) | AU551673B2 (ja) |
CA (1) | CA1179431A (ja) |
DE (1) | DE3111506C2 (ja) |
GB (1) | GB2095130B (ja) |
SE (1) | SE8104197L (ja) |
ZA (1) | ZA815978B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01116205U (ja) * | 1988-02-01 | 1989-08-04 |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU568392B2 (en) * | 1983-08-08 | 1987-12-24 | R.A Couche & Associates Pty. Ltd. | Improved screening device |
DE3417327A1 (de) * | 1984-05-10 | 1985-11-14 | Klöckner-Humboldt-Deutz AG, 5000 Köln | Verfahren und vorrichtung zur aufrechterhaltung eines vorbestimmten truebeniveaus in einer flotationszelle |
DE3641940A1 (de) * | 1986-12-09 | 1988-06-23 | Kloeckner Humboldt Deutz Ag | Flotationszelle |
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