JPS63186872A - 蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は光学、光電子工学などの分野で使用される光
学部品の例んばガラス基板に薄膜８蒸層する蒸着装置に
関するものである。

〔従来の技術〕

＠５図は例えば真空器械工業株式会社（東京部品用区南
大井３−２−６）発行の製品案内「真空薄膜形成装置」
に示されたものと類似の真空中で薄膜８蒸着する従来の
蒸着装置の模式概念図である。

図ζこ２いて、【１）は白熱電球などにより白色光の光
ビームを発生する光源、　（２ａ）　、　（２ｆｉ３　
Ｇま反射ミラー。

（３）は透明薄膜による光の干渉を利用して所定波長の
単色光だけを通過させる干渉フィルタ、（４）は光ビー
ムの光ｔを電気信号に変換する受光器であって光電変換
素子として例えば光電倍増管が使用される。（ＩＱは内
部を真空に１−るチャンバ、　０１）はこのナヤンバに
装置された光ヒームの透過窓、（２）は板状のモニタ・
ガラス、　　（ｉ２ａ）、　（１２ｂ）はこのモニタ・
ガラスのそれぞれ表面と裏面、（ハ）は仮酒層喝であっ
て例えばガラス・プレートが使用される。（１３ａ）は
上記被蒸着物のそれぞれ表面と裏面、α弔は上記被蒸着
物を装置する半球面形状のドームであってその装置個所
には上記被蓋７ｆ物の表面（ｌ蕊）を露出する孔が設け
られている。四は膜厚センサであって水晶振動子の表面
にＭＭする薄膜のｆＬｔ増加により共振周波数が変化す
るのを利用して薄膜の物理膜厚を検出する素子である。

ｕｏは上記チャンバ内を加熱して上記被蒸着物Ｑ３を所
定温度に保つ為のヒータ、■は電子ビーム加熱による蒸
気発生器。

口は電子ヒームを放射するフィラメント、■はハース。

Ｇはこのハースｆこ装填された蒸着物質、■は上記蒸気
発生器■の電源、（４）は上記フィラメント例を加熱す
る交流電源１句は上記フィラメント１２１１から放射シ
た電子ビームを加速する直流電源、田は上記蒸気発生器
■から発生する上記蒸着物質ツの蒸気を遮断するシヤツ
ク２３Ｄはこのシヤツクの開閉を制御するシャンタ制御
器、（ト）は上記チギンバＵＣＢ内を真空にする真空排
気系、に）は上記チャンバαｑ内に導入する酸素ガスの
圧力を調節する電磁弁、０ηはこの電磁弁を制御するガ
ス王制御器、（５１）は蒸着速度検出器であって、上記
膜厚センサ（２）の表面に単位時間ζこ形成する物理膜
厚すなわち蒸着速度と外部から入力されたその設定値と
の差信号を検出する。（６０）はマイクロ・プロセンサ
、　（６１）、　（６２）、　（６３）はこのマイクロ
・プロセッサのそれぞれ入力回路、ｍ算ユニント、出力
回路であって演算ユニットはレジスタを有する。

従来の蒸着装置は上記のように構成されて２つ。

蒸着を開始するにあたってまず被蒸着物−の例えばガラ
ス・プＶ　−トをドームα４の所定個所に装着し蒸着物
質ツの例んば’ｆ’ｉ０゜を／・−ス■に装填する。次
に真空排気系噛によりチャンバαＱ内を所定の真空度ま
で排気し７Ｓ：後ガス圧制御器Ｑ′ｔ）５−所定圧力に
設定して電磁弁（ｇｊｆこよりガス・ボンベ■に充填さ
れた酸素ガスをその所定圧力に調節しながらチャンバＧ
Ｑ内に導入する。これは被蒸着物＠の表面（こ蒸着する
例えば金属酸化物の酸素を補給するためである。そして
光源（１）を点灯すると共に電源＠を付勢し交流電源Ｑ
ＢＩこよりフィラメント０から放射した電子ビームを直
流域源万で加速し蒸着物質のに射突させて加熱しその蒸
気を発生させる。この蒸気はシャフタωが開いているの
でドームα４の方向に拡散しドーム圓に設けられた孔を
通して被蒸着物（至）の表面（１３ａ）、モニタ・ガラ
ス（２）の表面（１２ａ）、膜厚センｆａＱの表面に蒸
着してそれぞれ薄膜を形成する。そして蒸着速度検出器
（５１）で膜厚センサｃｔ６の表面に単位時間に形成す
る薄膜の物理膜厚すなわち、蒸着速度と外部から入力さ
れた蒸着速１ｆの設定値との差信号を検出しこの差信時
に基づいて電源−を制御するようになっている。

一方１元源（１）で発生した光ビームは反射ミラー（２
ａ）で反射し透過窓（ロ）を経てモニタ・ガラス＠の裏
面（１２ｂ　）に入射する。モニタ・ガラス＠の表面（
１２ａ）　！（蒸着物質のが蒸着して薄膜を形成すると
この入射した光ビームはモニタ・ガラス＠の裏面（１２
ｂ）　、薄膜との界面であるその表面（１２ａ）及び薄
膜の表面でそれぞれ反射し変調されて再び透過窓αηを
経て反射ミラー（２））で再び反射し干渉フィルタ（３
）で所定波長の単色光となり受光器（４）に入射する。

そして受光器（４）では光！変換（ζより入射した単色
光の光量に対応した電気信号を出力する。この信号＋マ
イクロ・プロセッサ（６０）に入力すると演算ユニット
（６２）のレジスタには最初モニタ・ガラス（６）の表
面（１２ａ）に薄膜が形成されていないときにモニタ・
ガラス＠の裏面（１２ｂ）及び表面（Ｌ２ａ）で反射し
た光ヒームの光量に対応した信号が記憶されているので
この信号に基づいてモニタ・ガラス＠の表面（１２ａ　
）に薄膜が形成されたときの反射率Ｒｂが演算される。

ところでモニタ・ガラス（６）の表面（１２ａ）に薄膜
が形成されるとその界面とで反射した光が干渉するため
モニタ・カラス四の反射率はその表面に形成する薄膜の
物理膜厚ｆこより周期的に変化する。そしてモニタ・ガ
ラス＠の表面（４２ａ）に薄膜が形成されたときの反射
率Ｒｂ、モニタ・ガラス（６）の表面（１２ａ）に薄膜
が形成されないときのその表面（Ｌ２ａ）における反射
率Ｒｏ、モニタ・ガラス（６）の表面（１２ａ）に薄膜
が形成されたときのその界面と薄膜の表面とにおける反
射率Ｒの間には次の関係があるＲｏ＋Ｒ−２ＲｏＲ ”＝１−ＲｏＲ・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・　■更にＲｏ、Ｒには
それぞれ次の関係がある−　１−η５２ Ｒｏ　−（−７７）　　　・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・　■・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・　■−２πηｆｄｆ　　　　・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・　■λ ただし　ηＳ：モニタ・ガラスの屈折率ηｆ：薄膜の屈
折率 ｄｆ：ｉｌ膜の物理膜厚 λ　：単色光の波長 また薄膜の物理膜厚ｄｆにその屈折率９１８乗じたηｆ
ｄｆとして光学膜厚が定ｙｆＩすれる。そこで、マイク
ロ・プロセツサ（６０）に予め設定大刀されたモニタ・
ガラス＠の屈折率ηＳ、単色光の波長λ、光学膜厚ηｆ
ｄｆ及び薄膜の設定屈折率ηｆに基づいて上記の０〜０
式により演算した反射率ｔｔｂと上記で計測演算−こよ
り求めたモニタ・ガラスｏ２の表面（１２ａ）に薄膜が
形成されたときの反射率Ｒｈとを比較しこの両者が等し
くなったときに出力回路（６３）乃）ら信号を出力して
７ヤンタ制御器３υを制御しシヤツク■を閉じ被蒸着物
（至）の表面（１３ａ）とモニタ・ガラス＠の表面（１
２ａ）へのｉ！Ａ着を停止するようになっている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来の蒸着装置は上記のように構成されチャンバαＱ内
の酸素ガスのＩＩｋ度はガス圧制御器（４７）を所定圧
力に設定して電磁弁に）（こより調節されるようになっ
ているので真空排気系Ｉの変動や蒸気発生器■からの不
６４　ｑ’ｇガスの発生などによりたえず変動する可能
性がある。ところが酸素ガスの濃度は蒸着する薄膜の留
度に影響するためこのようにチャンバＣＩＧ内の酸素ガ
スの濃度が変動すると薄膜の屈折率ηｆも友化し所定の
反射率８イするＩｓ膜を形成してもその屈折率がばらつ
いて再現性のある物質の薄膜が得られないと云う問題点
があった。

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので蒸着中にモニタ・カラスの表面に形成する薄膜
の屈折率を制御して所定の屈折率を有する薄膜を蒸着す
ることのできる蒸溜装＃を得ること８目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明（ζ係る４７ｉｔ装置は所定の温度と真空度に
保たれたチャンバ内にガスを導入しこのチャンバ内の所
定位置に被蓋着物、モニタ・ガラス、膜厚センサ、蒸気
発生器を装着してこの蒸気発生器で蒸着物質の蒸気を発
生させ被蒸着物、モニタ・カラス−ｉ厚センサの表面に
蒸着させて薄膜を形成し膜厚センサの表面に単位時間に
形成する薄１嘆の物理膜厚に対応した信号を検出してこ
の信号に基づき蒸着物質の蒸気の発生を制御するものに
２いて、薄膜を表面に形成したモニタ・ガラスに所定波
長の単色光が入射したときの反射率を検出する反射率検
出手段、この検出した反射率と上記で検出した薄膜の物
理膜厚とに基づき薄膜の屈折率の設定屈折率に対する等
不′４８判定し７））つ不等と判定したときは薄膜の屈
折率の設定屈折率からの偏差を検出する屈折率判定手段
、この検出した偏差に基づきチャンバ内に導入するガス
の圧力を制御するカス圧制御手段、屈折率判定手段が薄
膜の屈折率を設定屈折率に等しいと判定したときは薄膜
の物理膜厚あるいはこの物理膜厚にＲ換の屈折率を乗じ
た光学膜厚のいずれかの膜厚の設定膜厚に対する等不等
を判定する膜厚判定手段を設けたものである。

〔作用〕

この発明に８けては表面に薄膜を形成した七二タ・ガラ
スに所定波長の単色光が入射したときの反射率を検出し
この反射率と薄膜の物理膜厚と（こ基づき薄膜の屈折率
の設定屈折率に対する等・不等を判定し不等と判定した
ときは？Ｉｔ膜の屈折率の設定屈折率からの偏差に基づ
いてチャンバ内に導入するガスの圧力を制御し薄膜の屈
折′率を設定屈折率に等しいと判定したときは＠膜の物
理膜厚あるいはこの物理膜厚にＲ膜の屈折率を乗じた光
学膜厚のいずれ力１の膜厚の設定膜厚に対する等・不等
を判定する。

〔実施例〕

＠１図はこの発明による蒸着装置の一実施例の全体構成
図、第２図は第１図の実施例を祥細に示す模式概念図で
ある。＠１図においてαＱ〜αＱ、■−■、□□□〜弼
、■、３刀、に）、に）、（ト）、　　（５１）は辷記
従米の蒸着装置と全く同一のものである。（６）は反射
率検出手段であって薄膜を上記表面（１２ａ）に形成し
た上記モニタ・ガラスｏ２に所定波長の単色光が入射し
たときの反射率を検出する。（７）は屈折率判定手段で
あって上記反射率検出手段（６）の検出する反射率と上
記モニタ・カラスＱオの上記表面（１２ａ）に形成した
薄膜の物理膜厚とに基づきこの薄膜の屈折率の設定屈折
率に対する等・不等を判定しがっ不等と判定した時はこ
の薄膜の屈折率の設定屈折率からの偏差を検出する。（
８）はガス圧制御手段であって上記屈折率判定手段（１
）の検出した偏差に基づき上記チャンバαＯＶ３に導入
するカスの圧力を制御する。（９）は膜厚判定手段であ
って上記モニタ・ガラス＠の上記表面（１２ａ）に形成
した薄膜の屈折率を上記屈折率判定手段（１）が設定屈
折率をこ等しいと判定したときはその薄膜の物理膜厚あ
るいはこの４勿理膜厚ｆζ薄膜の屈折率を乗じた光学膜
厚のい、ｒれかの膜厚の設定膜厚に対する等・不等を判
定する。

この蒸着装置は反射率検出手段（６）により薄膜を表面
（１２ａ）に形成したモニタ・ガラス＠に所定波長の単
色光を入射させてその反射率を検出しこの反射率と薄膜
の物理膜厚とｔこ基づき薄膜の屈折率が設定屈折率に等
しいか不等であるρ）を屈折率判定手段（７）で判定し
不等と判定したときは薄膜の屈折率の設定屈折率からの
偏差薯こ対応した信号８検出してこの信号に基づきガス
圧制御手段（８）がチャンバａＱ内に導入するガスの圧
力を制御する。また屈折率判定手段（７）が薄膜の屈折
率を設定屈折率に等しいと判定したときは膜厚判定手段
（９）により薄膜の物理膜厚にその屈折率を乗じた光学
膜厚が設定光学膜ノｆに等しいか不等である７＋ｘの判
定を行ない不臨であると判定−したときはそのま＼蒸着
を継続し等しいと判定したときはその信号をシャンタ制
御器３１）へ出力してシマンタ３０を閉じ、蒸着を停止
するように＊ａ−ｉれている。

第２図は１；ｇ１図の実施例を祥細に示す模式概念図で
ある。＠２図にぢいてｆｉｌ〜（４１，（６０）〜（６
２）は上記従来の蒸着装置と全く同一のものである。−
は上記電磁７Ｐ−を外部から入力される信号に基づいて
制御するガス圧制御器、　（６４）は上記マイクロ・プ
ロセッサ（６０）の出方回路であって上記シャンタ制御
器３１）と上記ガス圧制御器−と制御する。そして反射
率検出手段（６）は光源ｒｌｌ　＋反射ばラー（２ａ）
。

（２ｂ）、干渉フィルタ（３）、受光器（４）力）らな
り屈折率判定手段（７）と膜厚判定手段（９）とはマイ
クロ・プロ七ンｆ　（６０）で構Ｉ５！されまたガス圧
制御手段（８）はガス圧制御器（財）からなっている。

次に上記実施例の動作を＠３図を参照しながら説明する
。第３図はこの発明による蒸着装置の上記実施例で薄膜
を蒸着する７０グラムを示すフローチャートである。ま
ず蒸着を開始するにあたって被蓋層相（至）をドームα
尋の所定個所に装着し蒸着物質Ｑ３をハースッに装填す
る。そして真空排気系（ト）によりチャ／バｉｌｌ内を
所定の真空度まで排気しり後マイクロ・プロセッサ（６
０）の入力回路（６１）に入力した設定屈折率に対応し
′ｒＳ信号に基づいてガス圧制御器−が制御を開始しス
テップ（７１）がスタートする。そして電磁弁０Ｑによ
りガス・ボンベ婚に充填されたガスを所定圧力に調節し
ながらチャンバＯｑ内に導入する。次に光源Ｃ１）８点
灯すると共に蒸着速度制御器（５１）に設定入力した蒸
着速度の設定値に対応した信号に基づき電源四を付勢制
御し交流電源（至）によりフィラメン）　２１１から放
射した電子ビーム８直流寛源勿により加速して蒸着物質
のに射突させて加熱しその蒸気を発生させる。この蒸気
は開いたシャツタ■を経てドーム圓の方向に拡散しドー
ムα尋に設けられた孔を通して被蒸着９勿＠の表面（１
３ａ）、モニタ・ガラス＠の表面（１２ａ）。

膜厚センサαＧの表面に蒸着してそれぞれ薄膜を形成す
る。そして蒸着速度検出器（５１）で膜厚センサ（ト）
の表面に単位時間擾ζ形成する薄膜の物理膜厚すなわち
蒸着速度と上記の蒸着速度の設定値との差信号を検出す
る。この差信号に基づいて電源ｃ！！３８制御すると共
にマイクロ・プロセンｔ　（６０）に入力して膜厚セン
サ（ト）の表面に形成した薄膜の物理膜厚を演算するス
テップ（７２）が実行される。次に光源（１）で発生し
た光ヒームを反射ミラー（２ａ）で反射させ透過窓ｑ］
）８経てモニタ・ガラス＠の裏面（１２ｂ）に入射させ
る。モニタ・ガラス＠の表面（１２ａ）にはｉ１ｉ膜ｔ
こ形５！２すれているので入射した光ビームはモニタ・
ガラス（６）の裏面（Ｌ２ｂ）、薄膜との界面で゛ある
その表面（１２ａ　）及び薄膜の表面でそれぞれ反射変
調されて再び透過窓αυを経て反射ミラー＜２ｂ）で再
び反射し干渉フィルタ（３）で所定波長の単色光となり
受光器（４）に入射する。受光器（４）では光電変換に
より入射した単色光の光量に対応した′祇気４ｇ号を出
力する。マイクロ・プロセッサ（６ｏ）の入力回路（６
１）にこのイ８締が入ると？′ｉｌ算ユニツユニット）
のＶジスタζζは最初モニタ・ガラスｇ２の表Ｗｉ　（
ｘ２ａ）に薄膜が形５＋ｉ、されていないとき醗こモニ
タ・ガラス（６）の裏面（１２ｂ）及び表面（Ｌ２ａ）
で反射した光ビームの光量に対応した信号が記隠されて
いるのでこの信号に基づいて反射’ＪＲｂを計測演算す
るステップ（７３）が行なわれる。次にステップ（７４
）に８いてステップ（７２）とステップ（７３）でそれ
ぞれ計測演算した物理膜厚ｄｆと反射率ａｂとζこ基づ
いて■〜■式ζこより薄膜の屈折率ηｆの演算を行なう
。このときマ１クログロセノ丈（６０）にはモニタ・ガ
ラスの屈折率ηＳ。

単色光の波長λが予め設定人力されている。そしてステ
ップ（７５）にはこのＹＩｉ′Ｊｔシた薄膜の屈折率η
ｆが予め設定人力された屈折率の設定値（ζ等しいか否
かの判定を行なう。演算した薄膜の屈ｆｒ率ηｆが屈折
率の設定値に等しくなければ次のステップ（７６）でこ
の薄膜の屈折率ηｆの曲定値からの偏差を演算しこの偏
差に対応した信号に基づいてガス圧制御器−を制御する
。また演算した薄膜の屈折率ηｆが屈折率の設定値番こ
等しければ次のステップ（７７）でこの薄膜の屈？ｉ−
率ηｆ８ステップ（７２）で計測演算した薄膜の物理膜
厚ｄｆに乗じた光学膜厚１７ｆｄｆを演算し、艶に次の
ステップ（７８）でこの光学膜厚ηｆｄｆが予め設定入
力された光学膜厚の設定値に等しいか否かの判定を行な
う。光学膜厚ηｆｄｆが設定値ｆこ等しければ次のステ
ップ（７９）でシでンタ制御器Ｃ３１１を制御してシャ
ツタωを閉じ蒸着を停止する。

また光学膜厚ηｆｄｆが設定値に等しくなければ等しく
なるまで蒸着を継続する。

第４図は第２図の実施例に３いて＠３図のプログラムと
異なる７°ログラムを示すフロチャートチあってステッ
プ（７２）で計測演算した薄膜の物理膜厚ｄｆと予め設
定入力された薄膜の屈折率ηｆ、モニタ・ガラス＠の屈
折率ηＳ及び単色光の波長λと（こ基づいてステップ（
８４）で０〜０式によりＮ膜を表面に形成したモニタ・
ガラスの反射率Ｒｃを演算し次のステップ（８５）でこ
の演算した反射率Ｒｃがステップ（７３）で計測演算し
た薄膜を表面（１２ａ）に形成したモニタ・ガラス＠の
反射率Ｒｂに等しいか否かの判定を行ないこれが等しく
なければステップ（８６）でこの反射率Ｒｂの反射率Ｒ
ｅｖ）らの偏差を演算するようになっておりこの実施例
Ｉこよっても同様の作用を期待することができる。

〔発明の効果〕

この発明は以上説明したとおり所定の温度と真空度ｔこ
保たれたチャンバ内にガスを導入しこのチャンバ内の所
定位置に被蓋ＪｊＷ物、モニタ・ガラス。

膜厚センサ、蒸気発生器を装着して蒸気発生器で蒸着物
質の蒸気を発生させ被ＫＮ物、モニタ・ガラス、膜厚セ
ンサの表面に蒸Ｈさせて薄膜を形成し膜厚センサの表面
に単位時間に形成する薄膜の物理膜厚に対応した信号を
検出してこの信号蛋こ基づき蒸着物質の蒸気の発生を制
御するものにおいて１表面に薄膜を形成したモニタ・ガ
ラスに所定波長の単色光が入射したときの反射率を検出
しこの検出した反射率と上記で検出した薄膜の物理膜厚
とに基づいて薄膜の屈折率の設定屈折率に対する等・不
等を判定しかつ不等と判定したときは薄膜の屈折率の設
定屈折率力Ｓらの偏差を検出する屈折率判定手段とこの
偏差に基づきチャンバ内に導入するガスの圧力を制御す
るガス圧制御手段と屈折率判定手段が薄膜の屈折率を設
定屈折率ｆこ等しいと判定したときは薄膜の設定膜厚に
対する等・不等を判定する膜厚判定手段とを設け、モニ
タ・ガラスの表面に蒸着形成する薄膜の屈折率を制御し
て設定屈折率ｌζ等しくなるよう番こしたので所定の屈
折率を有する薄膜を蒸着することができるという効果が
ある。

【図面の簡単な説明】

＠１図はこの発明による蒸着装置の一実施例の全体構成
図、第２図は第１図の実施例を詳細に示す模式概念図、
１３図は＠２図の実施例で薄膜を蒸着するプログラムを
示すフローチャート、第４図は＠２図の実施例に２いて
＠３図のプログラムと異なるプログラムを示すフローチ
ャート、第５図は従来の蒸着装置の模式概念図である。 図において、（１）は光源、　　（２ａ）　、　（２ｂ
）は反射ミラー、＋３）は干渉フィルタ、（４）は受光
器、（６）は反射率検出手段、（７）は屈折率判定手段
、（８）はガス圧制御手段、（９）は膜厚判定手段、α
Ｑはチャンバ、αυは透過窓、（２）はモニタ・ガラス
、　　（１２ａ）、　（１２ｂ）はモニタガラスのそれ
ぞれ表面お裏面、Ｑ３は被蒸着物。 （１３ａ）　、　（１３ｂ）は被蒸着物の表面と裏面、
Ｑ５は膜厚センサ、ωは蒸気発生器、０は蒸着物質、■
は電源。 ωはシャッタ、　（Ｉｌｌはシャッタ制御器、旬は真空
排気系、卿はガスボンベ、■は電磁弁、（ト）はガス圧
制御器、　　（５１）は４着速度検出器、　　（６０）
はマイクロプロセッサである。 なお、各図中同一符号は同一、または相当部分を示す。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）所定の温度を真空度に保たれたチャンバ内にガス
   を導入し上記チャンバ内の所定位置に被蒸着物、モニタ
   ・ガラス、膜厚センサ、蒸気発生器を装着して上記蒸気
   発生器で蒸着物質の蒸気を発生させ上記の被蒸着物、モ
   ニタ・ガラス、膜厚センサの表面に蒸着させて薄膜を形
   成し上記膜厚センサの上記表面に単位時間に形成する上
   記薄膜の物理膜厚に対応した信号を検出してこの信号に
   基づき上記蒸着物質の蒸気の発生を制御するものにおい
   て、上記薄膜を上記表面に形成した上記モニタ・ガラス
   に所定波長の単色光が入射したときの反射率を検出する
   反射率検出手段、この反射率検出手段の検出する反射率
   と上記薄膜の物理膜厚とに基づき上記モニタ・ガラスの
   上記表面に形成した上記薄膜の屈折率の設定屈折率に対
   する等、不等を判定し、かつ不等と判定したときは上記
   屈折率の上記設定屈折率からの偏差を検出する屈折率判
   定手段、この屈折率判定手段の検出した偏差に基づき上
   記チャンバ内に導入する上記ガスの圧力を制御するガス
   圧制御手段、上記屈折率判定手段が上記屈折率を上記設
   定屈折率に等しいと判定したときは上記薄膜の物理膜厚
   あるいはこの物理膜厚に上記薄膜の屈折率を乗じた光学
   膜厚のいずれかの膜厚の設定膜厚に対する等、不等を判
   定する膜厚判定手段を設けたことを特徴とする蒸着装置
   。
2. （２）屈折率判定手段及び膜厚判定手段がマイクロ・プ
   ロセッサで実現されていることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の蒸着装置。