JPS63186709A - アルコキシシリル基を有する重合体 - Google Patents

アルコキシシリル基を有する重合体

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JPS63186709A
JPS63186709A JP1815787A JP1815787A JPS63186709A JP S63186709 A JPS63186709 A JP S63186709A JP 1815787 A JP1815787 A JP 1815787A JP 1815787 A JP1815787 A JP 1815787A JP S63186709 A JPS63186709 A JP S63186709A
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Kiyohide Matsui
松井 清英
Kazuhiko Ishihara
一彦 石原
Kinuko Kogureri
小暮利 衣子
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Sagami Chemical Research Institute
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ガラス等の水酸基を有する基材表面と反応す
ることによりその表面を安定にta水、撥油性処理しう
るコーティング材料として有用な新規な反応性重合体に
関する。
〔従来技術〕
含フツ素重合体は、炭化水素系重合体に比較して耐食性
及び耐薬品性に優れ、さらにt8水、1B油性を有する
ため、これらの特性を利用した防汚材料、非粘着材料へ
の応用がなされている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、ポリテトラフルオロエチレンやポリフッ
化ビニリデンのように主鎖にフッ素原子が導入されてい
る重合体は通常の有機溶媒には不溶であるため、例えば
ガラスや金属などの基材上にコーティングする際には加
熱溶融した後に圧着する操作が必要となり、複雑な形状
を有する基材上にはコーティングすることができない、
また、含フツ素アクリル酸エステルあるいは含フツ素メ
タクリル酸エステルの重合体は、酢酸エチル等の有m溶
媒に可溶で、この重合体溶液をコーティングすることに
より繊維のtΩ水処理、防汚処理や光ファイバーのコー
ティング材料などに利用されているが、これらの重合体
には加水分解性を有するエステル結合が存在するため、
長時間にわたる使用に際しては撥水性や光透過性などの
性能低下が避けられない。
さらに、含フツ素重合体はその低い表面自由エネルギー
のために他の基材との接着性に問題が残されていた。
本発明者等は上記の問題点を解決するため鋭意研究した
結果、本発明のアルコキシシリル基を存する重合体が高
い撥水性、In油性及び透過性と共に優れたコーテイン
グ性、安定性、及び基材との反応性を有することを見出
し本発明を完成するに至った。
C問題点を解決するための手段〕 本発明のアルコキシシリル基を有する重合体は、一般式 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わし
、R2は水素原子または低級ポリフルオロアルキル基を
表わし、R″はポリフルオロアルキル基を表わし、nは
0〜2の整数である。)で示される繰返し単位とアルコ
キシシリル基を有する繰返し単位とから構成される。
R2で示される低級ポリフルオロアルキル基としては、
ジフルオロメチル基、ペルフルオロメチル基、2から5
個のフッ素原子で置換されたエチル基、2から7個のフ
ッ素原子で置換されたプロピル基、2から9個のフッ素
原子で置換されたブチル基などを挙げることができるが
、特にペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基が
導入の容易さの点で好ましい。
R2で示されるポリフルオロアルキル基としては、ペル
フルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオ
ロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペ
ンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプ
チル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロノニル
基、ペルフルオロデシル基、ジフルオロメチル基、2か
ら4個のフッ素原子で置換されたエチル基、2から8個
のフン素原子で置換されたブチル基、2から12個のフ
ッ素原子で置換されたヘキシル基、3から16個のフッ
素原子で置換されたオクチル基、3−オキサー2−トリ
フルオロメチル−2,4,4゜5.5,6.6.6−オ
クタフルオロヘキシル基などを例示することができる。
特に、アルキル末端が完全にフッ素化されたポリ (ベ
ル)フルオロアルキル基が高いI8水、(Ω油性を発現
する点で好ましい。
アルコキシシリル基を有する繰返し単位としては、アル
コキシシリル基を有する繰返し単位であれば限定されな
いが、一般式 (式中、R4は水素原子または低級アルキル基、R5、
R6は低級アルキル基またはフェニル基、Aは二価の連
結基、lは0〜5の整数、mはO〜2の整数、pは1〜
3の整数を表わす、但し、m+p−3である。)で示さ
れる繰返し単位を具体的態様として挙げることができる
。八で示されるきる(式中、R7は水素原子または低級
アルキル基を表わす、)。
このようなアルコキシシリル基を有する繰返し単位のさ
らに具体的な例示として 等を示すことができる。
本発明のアルコキシシリル基を存する重合体は、一般式 C式中、R1、R2、R8及びnは前記と同一である。
)で表わされる単量体とアルコキシシリル基を有する単
量体の一種もしくは複数種とを混合し、通常のラジカル
重合法により共重合することにより容易に合成すること
ができる0重合反応に用いる方法としてはバルク重合、
溶液重合、乳化重合など公知の方法を用いることができ
る。ラジカル重合反応は単に熱、紫外線の照射またはラ
ジカル開始剤の添加により速かに開始される0反応に好
適に用いられるラジカル開始剤としては、ジラウロイル
ペルオキシド、ベンゾイルペルオキシドなどの有機過酸
化物あるいはα、α′−アゾビスイソブチロニトリルの
ようなアゾ化合物などを例示することができる0重合反
応に利用できるを機溶媒は、生成する重合体が可溶であ
ることが高分子量体を得る上で好ましく、例えばベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン、
四塩化炭素、クロロホルム、メチルエチルケトン、フル
オロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、N。
N−ジメチルホルムアミド等を用いることができがこれ
らに限定されるものではない0反応は通常40℃から1
00℃の範囲で行う。
共重合することのできるアルコキシシリル基を含む単量
体としては、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメ
トキシシラン、メタクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン、アクリロイルオキシブチルトリエトキシシ
ラン、3−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシ
ラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジェトキシシ
ラン、3−メタクリロキシブロビルトリメトキシシラン
、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルメチルジメト
キシシラン、ビニルメチルジェトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリフエノキシシラン、p−
(トリメトキシシリル)スチレンなどを例示することが
できる。また、該アルコキシシリル基を有する重合体中
に含有されるアルコキシシリル基を有する繰返し単位の
組成は1mol%〜5Qmol%の範囲で、好ましくは
5mo 1%〜30mol%である。該繰返し単位がこ
れより少ない場合には効果的に基材と反応せず、また嚢
これより多い場合には、tn水・撥油性が低下する。
なお、本発明の重合体は、第三の繰返し単位として、ス
チレン、アクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等を単
量体とする繰返し単位を含んでいてもより、In水・1
口油性の観点からこの第三の繰返し単位は、3Qmol
%以下であることが好ましい。
本発明のアルコキシシリル基を有する重合体の分\号o
oo/ 子量は1000以上、好ましくは(5)m以上である。
分子量が1000以下のものは、被膜形成性が悪く、充
分なta水1a油性を示さない。
以下参考例、実施例、試験例により本発明を具体的に説
明する。
参考例1 2.2.3,3,4,4.4−ヘプタフルオロプロパツ
ール18.0g及び硫酸水素テトラn−ブチルアンモニ
ウム20.37g、ベンゼン300m1を三ロフラスコ
に仕込みアルゴン気流下で攪拌した0次に5Qwt%水
酸化ナトリウム水溶液17.5mlを入れ、15分撹拌
した後、p−クロロメチルスチレン9.15gを加え室
温にて一晩攪拌した0反応混合液に大量の水を加えベン
ゼン層を水洗した。この操作を繰返し、ベンゼン層を洗
浄したのち、無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、減圧
下ベンゼンを留去した。残留物をn−へキサンを溶出液
としてシリルゲルカラムに通し精製し収率56%でp−
(2,2,3,3,4,4,4−へブタフルオロブチル
オキシメチル)スチレン(OHFI)を得た。
元素分析(%); 実測値:C,49,34H;3.60 計算値:C;49.34  H;3.48IR(cm−
’);3000〜2800.1610゜1510 (芳
香環) 、  1630 (CH=CHり 。
1205.1)50 (CF)。
NMR(ppm)3.83〜4.13 (−0CHzC
F、)。
5.89 (CH!=)、6.50〜6.90アルコー
ルを2.2,3,3.4,4,5,5゜6,6,7.7
,8,8.8−ペンタデカフルオロオクタツールに替え
た他は、参考例1と同様の方法でp−(2,2,3,3
,4,4,5,5゜6.6.7.7,8.8.8−ベン
タデ力フルオオクチルオキシメチル)スチレン(OHF
v)を収率50.9%で得た。
元素分析(%); 実測値:C;39.5  H;2.2 計算値:C:39.6  H;2.2 TR(CJI−’);2800〜3000,1610゜
1510 (芳香環)、1630 CCH=CH,)。
1210.1)50 (C−F)、1)00〜1080
 (−〇−)。
NMR(i)pm): 3.8〜4.1)  (CHt
  。
2H)、4.6(〜cHzo−、2H)。
5.2〜5.9 (CHI=、2H)、6.5〜6.9
(−CH−、IH)、7.2〜7.5(芳香環、4H)
 。
実施例1 参考例1で得た0HF34.268 g (13,5m
mol)及び3−メタクリコイルオキシプロピルトリメ
トキシシラ7 (MOS)0.372 g(1,5mm
 o l )を、あらかじめヘキサメチルジシラザンの
トルエン溶液(1: 2vo 1/vo l)で1晩加
熱還流処理したガラス重合管に加えた。
テトラヒドロフラン10.5mlを溶媒とし、α。
α′−アゾビスイソブチロニトリル12.33■を重合
開始剤として加え、これを常法により脱気後高真空下(
10”’mm1g以下)にて封管した。
これを60℃で29.5時間振り混ぜながら重合反応を
行った0反応混合物を大量のメタノールに注ぎ、重合体
を沈澱させた。これを濾別、乾燥し、白色固体0.45
4g(収率9.8%)を得た l)I−NMR測定によ
りOHFff−MO3共重合体であることを確認した0
元素分析値より算出したMOSの導入率は9.4mol
%であった。また、GPC測定より得られたOHFff
−MO3共重合体の分子量は2.3X10’であった。
NMR(ppm/CFC]zCFtCI);0.27〜
0.67 <−5iCHオー)。
0.97〜2.17,3.33〜3.47(S 1Oc
Hs)、3.47〜4.136.17〜7.27 (+
) 元素分析値(%)、C,49,30,H,4,05実施
例2 0HFffを参考例2で得たO HF 7に、溶媒をT
HFから1.4−ビストリフルオロメチルベンゼン(B
TB)に替えたほかは実施例1と同様に重合反応を行い
、MOSが7.7mol%導入されたOHFff−MO
3共重合体を26.7%の収率で得た。この共重合体の
分子量は9.7X10’であった。
NMR(ppm/CFC1zCFgC1);0.28〜
0.67 (S 1cHx  )。
0.97〜2.20,3.40〜3.48(S i 0
CHs)、3.48〜4.13実施例2で得たOHF?
−MO3共重合体200■を2 m lのBTBに溶解
し、その溶液。約0.45m1を18X24mmの清浄
なガラス板上に流延し、50℃でゆっくりと溶媒を芸発
させ、ガラス板上にフィルムを作成した。さらに50℃
で減圧下−晩乾燥させたところ42■の共重合体がガラ
ス上にコートされていた。これをBTBに30分、浸漬
した後、充分に乾燥した。ガラス板に付着した不溶分の
重量を測定したところ27■でガラス板との反応率は6
4%であった。このガラス板上のフィルム表面の液滴の
接触角を協和科学製コンタクトアングルゴニオメータ−
で測定したところ純水で1)9.5度、ヨウ化メチレン
の場合は100.0度であった。
試験例2 試験例1と同様の方法を用いて作成した○HF q−M
O3共重合体フィルムを飽和水蒸気下80℃にて一晩放
置した。次にBTBに30分浸漬した後、充分に乾燥し
た。このフィルムのガラスとの反応率は919ioであ
った。このフィルム表面の液滴の接触角は純水で120
.0度、ヨウ化メチレンで100.0度であった。
試験例3 0HF、−MO3共重合体の替りに実施例1で得たOH
F!−MO3共重合体を用いた以外は試験例2と同様に
してフィルムを作成し、ガラスとの反応性試験を行った
。このフィルムのガラスとの反応率は64%であった。
このフィルム表面の液滴の接触角は純水で1)5.0度
、ヨウ化メチレンで91.5度であった。
比較例1 実施例2においてMOSを入れなかった以外は同様の操
作を行ない、OHF s単独重合体を得た。
得られた重合体の分子量は3.0X10’であった。
この重合体を用いて試験例1と同様の方法を用いてガラ
ス板上に重合体フィルムを作成した。このフィルムを試
験例2と同様の条件で処理したところ、フィルムはほぼ
完全にBTBに溶解し、純水の接触角は30.5度であ
った。
〔発明の効果〕
本発明の重合体はそのアルコキシシリル基がガラス等の
水酸基を有する基材表面と反応し、基材表面に、強固に
結合すると共に、高いta水ta油性を発現する。した
がって、安定な難剥離性のtR水・撥油処理剤コーティ
ング剤として有用である。
手続補正書(自発) 昭和63年2月1o日 特許庁長官  小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和62年特許願第 18157  号2、発明の名称 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 (1)本願明細書第21頁3行のrOHF3 Jを’0
HF7 Jに訂正する。
以上

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼−( I ) (式中、R^1は水素原子または低級アルキル基を表わ
    し、R^2は水素原子または低級ポリフルオロアルキル
    基を表わし、R^3はポリフルオロアルキル基を表わし
    、nは0〜2の整数である。 で示される繰返し単位とアルコキシシリル基を有する繰
    返し単位からなる分子量1000以上のアルコキシシリ
    ル基を有する重合体。
  2. (2)アルコキシシリル基を有する繰返し単位が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼−(II) (式中、R^4は水素原子または低級アルキル基、R^
    5、R^6は低級アルキル基またはフェニル基、Aは二
    価の連結基、lは0〜5の整数、mは0〜2の整数、p
    は1〜3の整数を表わす。但し、m+p=3である。)
    で示される繰返し単位である特許請求の範囲第(1)項
    に記載のアルコキシシリル基を有する重合体。
  3. (3)アルコキシシリル基を有する繰返し単位の組成が
    1mol%〜50mol%の範囲である特許請求の範囲
    第(1)項又は第(2)項に記載のアルコキシシリル基
    を有する重合体。
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