JPS63186709A - アルコキシシリル基を有する重合体 - Google Patents
アルコキシシリル基を有する重合体Info
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 26
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 title claims abstract description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 15
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 abstract 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2,2'-azo-bis-isobutyronitrile Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=C(C=C)C=C1 ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSOZORWBKQSQCJ-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C JSOZORWBKQSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INBMZWLPLZXTBL-UHFFFAOYSA-N 4-triethoxysilylbutyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCOC(=O)C=C INBMZWLPLZXTBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEHYCIQPPPQNMI-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triphenoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C=C)OC1=CC=CC=C1 FEHYCIQPPPQNMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEWCZPTVOYXPGG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-dimethylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C=C JEWCZPTVOYXPGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrabutylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005804 perfluoroheptyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005008 perfluoropentyl group Chemical group FC(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRSJRHKJPOJTMS-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-phenylethenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=CC1=CC=CC=C1 JRSJRHKJPOJTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガラス等の水酸基を有する基材表面と反応す
ることによりその表面を安定にta水、撥油性処理しう
るコーティング材料として有用な新規な反応性重合体に
関する。
ることによりその表面を安定にta水、撥油性処理しう
るコーティング材料として有用な新規な反応性重合体に
関する。
含フツ素重合体は、炭化水素系重合体に比較して耐食性
及び耐薬品性に優れ、さらにt8水、1B油性を有する
ため、これらの特性を利用した防汚材料、非粘着材料へ
の応用がなされている。
及び耐薬品性に優れ、さらにt8水、1B油性を有する
ため、これらの特性を利用した防汚材料、非粘着材料へ
の応用がなされている。
しかしながら、ポリテトラフルオロエチレンやポリフッ
化ビニリデンのように主鎖にフッ素原子が導入されてい
る重合体は通常の有機溶媒には不溶であるため、例えば
ガラスや金属などの基材上にコーティングする際には加
熱溶融した後に圧着する操作が必要となり、複雑な形状
を有する基材上にはコーティングすることができない、
また、含フツ素アクリル酸エステルあるいは含フツ素メ
タクリル酸エステルの重合体は、酢酸エチル等の有m溶
媒に可溶で、この重合体溶液をコーティングすることに
より繊維のtΩ水処理、防汚処理や光ファイバーのコー
ティング材料などに利用されているが、これらの重合体
には加水分解性を有するエステル結合が存在するため、
長時間にわたる使用に際しては撥水性や光透過性などの
性能低下が避けられない。
化ビニリデンのように主鎖にフッ素原子が導入されてい
る重合体は通常の有機溶媒には不溶であるため、例えば
ガラスや金属などの基材上にコーティングする際には加
熱溶融した後に圧着する操作が必要となり、複雑な形状
を有する基材上にはコーティングすることができない、
また、含フツ素アクリル酸エステルあるいは含フツ素メ
タクリル酸エステルの重合体は、酢酸エチル等の有m溶
媒に可溶で、この重合体溶液をコーティングすることに
より繊維のtΩ水処理、防汚処理や光ファイバーのコー
ティング材料などに利用されているが、これらの重合体
には加水分解性を有するエステル結合が存在するため、
長時間にわたる使用に際しては撥水性や光透過性などの
性能低下が避けられない。
さらに、含フツ素重合体はその低い表面自由エネルギー
のために他の基材との接着性に問題が残されていた。
のために他の基材との接着性に問題が残されていた。
本発明者等は上記の問題点を解決するため鋭意研究した
結果、本発明のアルコキシシリル基を存する重合体が高
い撥水性、In油性及び透過性と共に優れたコーテイン
グ性、安定性、及び基材との反応性を有することを見出
し本発明を完成するに至った。
結果、本発明のアルコキシシリル基を存する重合体が高
い撥水性、In油性及び透過性と共に優れたコーテイン
グ性、安定性、及び基材との反応性を有することを見出
し本発明を完成するに至った。
C問題点を解決するための手段〕
本発明のアルコキシシリル基を有する重合体は、一般式
(式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わし
、R2は水素原子または低級ポリフルオロアルキル基を
表わし、R″はポリフルオロアルキル基を表わし、nは
0〜2の整数である。)で示される繰返し単位とアルコ
キシシリル基を有する繰返し単位とから構成される。
、R2は水素原子または低級ポリフルオロアルキル基を
表わし、R″はポリフルオロアルキル基を表わし、nは
0〜2の整数である。)で示される繰返し単位とアルコ
キシシリル基を有する繰返し単位とから構成される。
R2で示される低級ポリフルオロアルキル基としては、
ジフルオロメチル基、ペルフルオロメチル基、2から5
個のフッ素原子で置換されたエチル基、2から7個のフ
ッ素原子で置換されたプロピル基、2から9個のフッ素
原子で置換されたブチル基などを挙げることができるが
、特にペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基が
導入の容易さの点で好ましい。
ジフルオロメチル基、ペルフルオロメチル基、2から5
個のフッ素原子で置換されたエチル基、2から7個のフ
ッ素原子で置換されたプロピル基、2から9個のフッ素
原子で置換されたブチル基などを挙げることができるが
、特にペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基が
導入の容易さの点で好ましい。
R2で示されるポリフルオロアルキル基としては、ペル
フルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオ
ロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペ
ンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプ
チル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロノニル
基、ペルフルオロデシル基、ジフルオロメチル基、2か
ら4個のフッ素原子で置換されたエチル基、2から8個
のフン素原子で置換されたブチル基、2から12個のフ
ッ素原子で置換されたヘキシル基、3から16個のフッ
素原子で置換されたオクチル基、3−オキサー2−トリ
フルオロメチル−2,4,4゜5.5,6.6.6−オ
クタフルオロヘキシル基などを例示することができる。
フルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオ
ロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペ
ンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプ
チル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロノニル
基、ペルフルオロデシル基、ジフルオロメチル基、2か
ら4個のフッ素原子で置換されたエチル基、2から8個
のフン素原子で置換されたブチル基、2から12個のフ
ッ素原子で置換されたヘキシル基、3から16個のフッ
素原子で置換されたオクチル基、3−オキサー2−トリ
フルオロメチル−2,4,4゜5.5,6.6.6−オ
クタフルオロヘキシル基などを例示することができる。
特に、アルキル末端が完全にフッ素化されたポリ (ベ
ル)フルオロアルキル基が高いI8水、(Ω油性を発現
する点で好ましい。
ル)フルオロアルキル基が高いI8水、(Ω油性を発現
する点で好ましい。
アルコキシシリル基を有する繰返し単位としては、アル
コキシシリル基を有する繰返し単位であれば限定されな
いが、一般式 (式中、R4は水素原子または低級アルキル基、R5、
R6は低級アルキル基またはフェニル基、Aは二価の連
結基、lは0〜5の整数、mはO〜2の整数、pは1〜
3の整数を表わす、但し、m+p−3である。)で示さ
れる繰返し単位を具体的態様として挙げることができる
。八で示されるきる(式中、R7は水素原子または低級
アルキル基を表わす、)。
コキシシリル基を有する繰返し単位であれば限定されな
いが、一般式 (式中、R4は水素原子または低級アルキル基、R5、
R6は低級アルキル基またはフェニル基、Aは二価の連
結基、lは0〜5の整数、mはO〜2の整数、pは1〜
3の整数を表わす、但し、m+p−3である。)で示さ
れる繰返し単位を具体的態様として挙げることができる
。八で示されるきる(式中、R7は水素原子または低級
アルキル基を表わす、)。
このようなアルコキシシリル基を有する繰返し単位のさ
らに具体的な例示として 等を示すことができる。
らに具体的な例示として 等を示すことができる。
本発明のアルコキシシリル基を存する重合体は、一般式
C式中、R1、R2、R8及びnは前記と同一である。
)で表わされる単量体とアルコキシシリル基を有する単
量体の一種もしくは複数種とを混合し、通常のラジカル
重合法により共重合することにより容易に合成すること
ができる0重合反応に用いる方法としてはバルク重合、
溶液重合、乳化重合など公知の方法を用いることができ
る。ラジカル重合反応は単に熱、紫外線の照射またはラ
ジカル開始剤の添加により速かに開始される0反応に好
適に用いられるラジカル開始剤としては、ジラウロイル
ペルオキシド、ベンゾイルペルオキシドなどの有機過酸
化物あるいはα、α′−アゾビスイソブチロニトリルの
ようなアゾ化合物などを例示することができる0重合反
応に利用できるを機溶媒は、生成する重合体が可溶であ
ることが高分子量体を得る上で好ましく、例えばベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン、
四塩化炭素、クロロホルム、メチルエチルケトン、フル
オロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、N。
量体の一種もしくは複数種とを混合し、通常のラジカル
重合法により共重合することにより容易に合成すること
ができる0重合反応に用いる方法としてはバルク重合、
溶液重合、乳化重合など公知の方法を用いることができ
る。ラジカル重合反応は単に熱、紫外線の照射またはラ
ジカル開始剤の添加により速かに開始される0反応に好
適に用いられるラジカル開始剤としては、ジラウロイル
ペルオキシド、ベンゾイルペルオキシドなどの有機過酸
化物あるいはα、α′−アゾビスイソブチロニトリルの
ようなアゾ化合物などを例示することができる0重合反
応に利用できるを機溶媒は、生成する重合体が可溶であ
ることが高分子量体を得る上で好ましく、例えばベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン、
四塩化炭素、クロロホルム、メチルエチルケトン、フル
オロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、N。
N−ジメチルホルムアミド等を用いることができがこれ
らに限定されるものではない0反応は通常40℃から1
00℃の範囲で行う。
らに限定されるものではない0反応は通常40℃から1
00℃の範囲で行う。
共重合することのできるアルコキシシリル基を含む単量
体としては、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメ
トキシシラン、メタクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン、アクリロイルオキシブチルトリエトキシシ
ラン、3−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシ
ラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジェトキシシ
ラン、3−メタクリロキシブロビルトリメトキシシラン
、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルメチルジメト
キシシラン、ビニルメチルジェトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリフエノキシシラン、p−
(トリメトキシシリル)スチレンなどを例示することが
できる。また、該アルコキシシリル基を有する重合体中
に含有されるアルコキシシリル基を有する繰返し単位の
組成は1mol%〜5Qmol%の範囲で、好ましくは
5mo 1%〜30mol%である。該繰返し単位がこ
れより少ない場合には効果的に基材と反応せず、また嚢
これより多い場合には、tn水・撥油性が低下する。
体としては、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメ
トキシシラン、メタクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン、アクリロイルオキシブチルトリエトキシシ
ラン、3−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシ
ラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジェトキシシ
ラン、3−メタクリロキシブロビルトリメトキシシラン
、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルメチルジメト
キシシラン、ビニルメチルジェトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリフエノキシシラン、p−
(トリメトキシシリル)スチレンなどを例示することが
できる。また、該アルコキシシリル基を有する重合体中
に含有されるアルコキシシリル基を有する繰返し単位の
組成は1mol%〜5Qmol%の範囲で、好ましくは
5mo 1%〜30mol%である。該繰返し単位がこ
れより少ない場合には効果的に基材と反応せず、また嚢
これより多い場合には、tn水・撥油性が低下する。
なお、本発明の重合体は、第三の繰返し単位として、ス
チレン、アクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等を単
量体とする繰返し単位を含んでいてもより、In水・1
口油性の観点からこの第三の繰返し単位は、3Qmol
%以下であることが好ましい。
チレン、アクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等を単
量体とする繰返し単位を含んでいてもより、In水・1
口油性の観点からこの第三の繰返し単位は、3Qmol
%以下であることが好ましい。
本発明のアルコキシシリル基を有する重合体の分\号o
oo/ 子量は1000以上、好ましくは(5)m以上である。
oo/ 子量は1000以上、好ましくは(5)m以上である。
分子量が1000以下のものは、被膜形成性が悪く、充
分なta水1a油性を示さない。
分なta水1a油性を示さない。
以下参考例、実施例、試験例により本発明を具体的に説
明する。
明する。
参考例1
2.2.3,3,4,4.4−ヘプタフルオロプロパツ
ール18.0g及び硫酸水素テトラn−ブチルアンモニ
ウム20.37g、ベンゼン300m1を三ロフラスコ
に仕込みアルゴン気流下で攪拌した0次に5Qwt%水
酸化ナトリウム水溶液17.5mlを入れ、15分撹拌
した後、p−クロロメチルスチレン9.15gを加え室
温にて一晩攪拌した0反応混合液に大量の水を加えベン
ゼン層を水洗した。この操作を繰返し、ベンゼン層を洗
浄したのち、無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、減圧
下ベンゼンを留去した。残留物をn−へキサンを溶出液
としてシリルゲルカラムに通し精製し収率56%でp−
(2,2,3,3,4,4,4−へブタフルオロブチル
オキシメチル)スチレン(OHFI)を得た。
ール18.0g及び硫酸水素テトラn−ブチルアンモニ
ウム20.37g、ベンゼン300m1を三ロフラスコ
に仕込みアルゴン気流下で攪拌した0次に5Qwt%水
酸化ナトリウム水溶液17.5mlを入れ、15分撹拌
した後、p−クロロメチルスチレン9.15gを加え室
温にて一晩攪拌した0反応混合液に大量の水を加えベン
ゼン層を水洗した。この操作を繰返し、ベンゼン層を洗
浄したのち、無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、減圧
下ベンゼンを留去した。残留物をn−へキサンを溶出液
としてシリルゲルカラムに通し精製し収率56%でp−
(2,2,3,3,4,4,4−へブタフルオロブチル
オキシメチル)スチレン(OHFI)を得た。
元素分析(%);
実測値:C,49,34H;3.60
計算値:C;49.34 H;3.48IR(cm−
’);3000〜2800.1610゜1510 (芳
香環) 、 1630 (CH=CHり 。
’);3000〜2800.1610゜1510 (芳
香環) 、 1630 (CH=CHり 。
1205.1)50 (CF)。
NMR(ppm)3.83〜4.13 (−0CHzC
F、)。
F、)。
5.89 (CH!=)、6.50〜6.90アルコー
ルを2.2,3,3.4,4,5,5゜6,6,7.7
,8,8.8−ペンタデカフルオロオクタツールに替え
た他は、参考例1と同様の方法でp−(2,2,3,3
,4,4,5,5゜6.6.7.7,8.8.8−ベン
タデ力フルオオクチルオキシメチル)スチレン(OHF
v)を収率50.9%で得た。
ルを2.2,3,3.4,4,5,5゜6,6,7.7
,8,8.8−ペンタデカフルオロオクタツールに替え
た他は、参考例1と同様の方法でp−(2,2,3,3
,4,4,5,5゜6.6.7.7,8.8.8−ベン
タデ力フルオオクチルオキシメチル)スチレン(OHF
v)を収率50.9%で得た。
元素分析(%);
実測値:C;39.5 H;2.2
計算値:C:39.6 H;2.2
TR(CJI−’);2800〜3000,1610゜
1510 (芳香環)、1630 CCH=CH,)。
1510 (芳香環)、1630 CCH=CH,)。
1210.1)50 (C−F)、1)00〜1080
(−〇−)。
(−〇−)。
NMR(i)pm): 3.8〜4.1) (CHt
。
。
2H)、4.6(〜cHzo−、2H)。
5.2〜5.9 (CHI=、2H)、6.5〜6.9
(−CH−、IH)、7.2〜7.5(芳香環、4H)
。
(−CH−、IH)、7.2〜7.5(芳香環、4H)
。
実施例1
参考例1で得た0HF34.268 g (13,5m
mol)及び3−メタクリコイルオキシプロピルトリメ
トキシシラ7 (MOS)0.372 g(1,5mm
o l )を、あらかじめヘキサメチルジシラザンの
トルエン溶液(1: 2vo 1/vo l)で1晩加
熱還流処理したガラス重合管に加えた。
mol)及び3−メタクリコイルオキシプロピルトリメ
トキシシラ7 (MOS)0.372 g(1,5mm
o l )を、あらかじめヘキサメチルジシラザンの
トルエン溶液(1: 2vo 1/vo l)で1晩加
熱還流処理したガラス重合管に加えた。
テトラヒドロフラン10.5mlを溶媒とし、α。
α′−アゾビスイソブチロニトリル12.33■を重合
開始剤として加え、これを常法により脱気後高真空下(
10”’mm1g以下)にて封管した。
開始剤として加え、これを常法により脱気後高真空下(
10”’mm1g以下)にて封管した。
これを60℃で29.5時間振り混ぜながら重合反応を
行った0反応混合物を大量のメタノールに注ぎ、重合体
を沈澱させた。これを濾別、乾燥し、白色固体0.45
4g(収率9.8%)を得た l)I−NMR測定によ
りOHFff−MO3共重合体であることを確認した0
元素分析値より算出したMOSの導入率は9.4mol
%であった。また、GPC測定より得られたOHFff
−MO3共重合体の分子量は2.3X10’であった。
行った0反応混合物を大量のメタノールに注ぎ、重合体
を沈澱させた。これを濾別、乾燥し、白色固体0.45
4g(収率9.8%)を得た l)I−NMR測定によ
りOHFff−MO3共重合体であることを確認した0
元素分析値より算出したMOSの導入率は9.4mol
%であった。また、GPC測定より得られたOHFff
−MO3共重合体の分子量は2.3X10’であった。
NMR(ppm/CFC]zCFtCI);0.27〜
0.67 <−5iCHオー)。
0.67 <−5iCHオー)。
0.97〜2.17,3.33〜3.47(S 1Oc
Hs)、3.47〜4.136.17〜7.27 (+
) 元素分析値(%)、C,49,30,H,4,05実施
例2 0HFffを参考例2で得たO HF 7に、溶媒をT
HFから1.4−ビストリフルオロメチルベンゼン(B
TB)に替えたほかは実施例1と同様に重合反応を行い
、MOSが7.7mol%導入されたOHFff−MO
3共重合体を26.7%の収率で得た。この共重合体の
分子量は9.7X10’であった。
Hs)、3.47〜4.136.17〜7.27 (+
) 元素分析値(%)、C,49,30,H,4,05実施
例2 0HFffを参考例2で得たO HF 7に、溶媒をT
HFから1.4−ビストリフルオロメチルベンゼン(B
TB)に替えたほかは実施例1と同様に重合反応を行い
、MOSが7.7mol%導入されたOHFff−MO
3共重合体を26.7%の収率で得た。この共重合体の
分子量は9.7X10’であった。
NMR(ppm/CFC1zCFgC1);0.28〜
0.67 (S 1cHx )。
0.67 (S 1cHx )。
0.97〜2.20,3.40〜3.48(S i 0
CHs)、3.48〜4.13実施例2で得たOHF?
−MO3共重合体200■を2 m lのBTBに溶解
し、その溶液。約0.45m1を18X24mmの清浄
なガラス板上に流延し、50℃でゆっくりと溶媒を芸発
させ、ガラス板上にフィルムを作成した。さらに50℃
で減圧下−晩乾燥させたところ42■の共重合体がガラ
ス上にコートされていた。これをBTBに30分、浸漬
した後、充分に乾燥した。ガラス板に付着した不溶分の
重量を測定したところ27■でガラス板との反応率は6
4%であった。このガラス板上のフィルム表面の液滴の
接触角を協和科学製コンタクトアングルゴニオメータ−
で測定したところ純水で1)9.5度、ヨウ化メチレン
の場合は100.0度であった。
CHs)、3.48〜4.13実施例2で得たOHF?
−MO3共重合体200■を2 m lのBTBに溶解
し、その溶液。約0.45m1を18X24mmの清浄
なガラス板上に流延し、50℃でゆっくりと溶媒を芸発
させ、ガラス板上にフィルムを作成した。さらに50℃
で減圧下−晩乾燥させたところ42■の共重合体がガラ
ス上にコートされていた。これをBTBに30分、浸漬
した後、充分に乾燥した。ガラス板に付着した不溶分の
重量を測定したところ27■でガラス板との反応率は6
4%であった。このガラス板上のフィルム表面の液滴の
接触角を協和科学製コンタクトアングルゴニオメータ−
で測定したところ純水で1)9.5度、ヨウ化メチレン
の場合は100.0度であった。
試験例2
試験例1と同様の方法を用いて作成した○HF q−M
O3共重合体フィルムを飽和水蒸気下80℃にて一晩放
置した。次にBTBに30分浸漬した後、充分に乾燥し
た。このフィルムのガラスとの反応率は919ioであ
った。このフィルム表面の液滴の接触角は純水で120
.0度、ヨウ化メチレンで100.0度であった。
O3共重合体フィルムを飽和水蒸気下80℃にて一晩放
置した。次にBTBに30分浸漬した後、充分に乾燥し
た。このフィルムのガラスとの反応率は919ioであ
った。このフィルム表面の液滴の接触角は純水で120
.0度、ヨウ化メチレンで100.0度であった。
試験例3
0HF、−MO3共重合体の替りに実施例1で得たOH
F!−MO3共重合体を用いた以外は試験例2と同様に
してフィルムを作成し、ガラスとの反応性試験を行った
。このフィルムのガラスとの反応率は64%であった。
F!−MO3共重合体を用いた以外は試験例2と同様に
してフィルムを作成し、ガラスとの反応性試験を行った
。このフィルムのガラスとの反応率は64%であった。
このフィルム表面の液滴の接触角は純水で1)5.0度
、ヨウ化メチレンで91.5度であった。
、ヨウ化メチレンで91.5度であった。
比較例1
実施例2においてMOSを入れなかった以外は同様の操
作を行ない、OHF s単独重合体を得た。
作を行ない、OHF s単独重合体を得た。
得られた重合体の分子量は3.0X10’であった。
この重合体を用いて試験例1と同様の方法を用いてガラ
ス板上に重合体フィルムを作成した。このフィルムを試
験例2と同様の条件で処理したところ、フィルムはほぼ
完全にBTBに溶解し、純水の接触角は30.5度であ
った。
ス板上に重合体フィルムを作成した。このフィルムを試
験例2と同様の条件で処理したところ、フィルムはほぼ
完全にBTBに溶解し、純水の接触角は30.5度であ
った。
本発明の重合体はそのアルコキシシリル基がガラス等の
水酸基を有する基材表面と反応し、基材表面に、強固に
結合すると共に、高いta水ta油性を発現する。した
がって、安定な難剥離性のtR水・撥油処理剤コーティ
ング剤として有用である。
水酸基を有する基材表面と反応し、基材表面に、強固に
結合すると共に、高いta水ta油性を発現する。した
がって、安定な難剥離性のtR水・撥油処理剤コーティ
ング剤として有用である。
手続補正書(自発)
昭和63年2月1o日
特許庁長官 小 川 邦 夫 殿
1、事件の表示
昭和62年特許願第 18157 号2、発明の名称
明細書の「発明の詳細な説明」の欄
5、補正の内容
(1)本願明細書第21頁3行のrOHF3 Jを’0
HF7 Jに訂正する。
HF7 Jに訂正する。
以上
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼−( I ) (式中、R^1は水素原子または低級アルキル基を表わ
し、R^2は水素原子または低級ポリフルオロアルキル
基を表わし、R^3はポリフルオロアルキル基を表わし
、nは0〜2の整数である。 で示される繰返し単位とアルコキシシリル基を有する繰
返し単位からなる分子量1000以上のアルコキシシリ
ル基を有する重合体。 - (2)アルコキシシリル基を有する繰返し単位が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼−(II) (式中、R^4は水素原子または低級アルキル基、R^
5、R^6は低級アルキル基またはフェニル基、Aは二
価の連結基、lは0〜5の整数、mは0〜2の整数、p
は1〜3の整数を表わす。但し、m+p=3である。)
で示される繰返し単位である特許請求の範囲第(1)項
に記載のアルコキシシリル基を有する重合体。 - (3)アルコキシシリル基を有する繰返し単位の組成が
1mol%〜50mol%の範囲である特許請求の範囲
第(1)項又は第(2)項に記載のアルコキシシリル基
を有する重合体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62018157A JPH0717717B2 (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | アルコキシシリル基を有する重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62018157A JPH0717717B2 (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | アルコキシシリル基を有する重合体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63186709A true JPS63186709A (ja) | 1988-08-02 |
JPH0717717B2 JPH0717717B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=11963774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62018157A Expired - Lifetime JPH0717717B2 (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | アルコキシシリル基を有する重合体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0717717B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05132627A (ja) * | 1991-11-11 | 1993-05-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着性および経時安定性の良好なシリル基含有共重合体のエマルジヨン組成物 |
JPH05214031A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-08-24 | Nippon Paint Co Ltd | ポリマー、無機材料用表面改質剤、及びその改質物 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5443242A (en) * | 1977-09-13 | 1979-04-05 | Kansai Paint Co Ltd | Resin composition for rust preventive coating compound |
JPS61293943A (ja) * | 1985-06-18 | 1986-12-24 | Sagami Chem Res Center | 含フッ素スチレン誘導体 |
-
1987
- 1987-01-30 JP JP62018157A patent/JPH0717717B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5443242A (en) * | 1977-09-13 | 1979-04-05 | Kansai Paint Co Ltd | Resin composition for rust preventive coating compound |
JPS61293943A (ja) * | 1985-06-18 | 1986-12-24 | Sagami Chem Res Center | 含フッ素スチレン誘導体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05214031A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-08-24 | Nippon Paint Co Ltd | ポリマー、無機材料用表面改質剤、及びその改質物 |
JPH05132627A (ja) * | 1991-11-11 | 1993-05-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着性および経時安定性の良好なシリル基含有共重合体のエマルジヨン組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0717717B2 (ja) | 1995-03-01 |
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