JPS6317952A - 形状記憶性光学材料 - Google Patents
形状記憶性光学材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は室温(0〜50℃)付近では任意の形状に変形
された状態を持続し、室温以上に昇温したときに元の形
状に復元する特性を有する形状記憶性及び可視光線透過
性を併有する形状記憶性光学材料に関する。
された状態を持続し、室温以上に昇温したときに元の形
状に復元する特性を有する形状記憶性及び可視光線透過
性を併有する形状記憶性光学材料に関する。
本発明の形状記憶性光学材料はこのような特性を利用し
て、光電送路切替えスイッチ、光遮断スイッチ、熱感応
光スィッチ等の光デバイスやファインコネクター、光学
レンズ、ゴーグルなどへの用途がある。更に、オイルシ
ール、パツキン、0リング等の透明シール製品、透明防
弾シート、透明パイプラミネート、装飾材、玩具、教材
、文具等にも広汎な用途を有する。
て、光電送路切替えスイッチ、光遮断スイッチ、熱感応
光スィッチ等の光デバイスやファインコネクター、光学
レンズ、ゴーグルなどへの用途がある。更に、オイルシ
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弾シート、透明パイプラミネート、装飾材、玩具、教材
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ゴム、プラスチックスなどのエラストマーは、常温で外
力を加えると変形し、外力を取去ると元に戻るという性
質を有する。従来のエラストマーにおいては、外力を加
えることにより変形し、外力を取去った後も変形した形
状を維持し、環境が変化したときに元の形状に戻るとい
う形状記憶性を有するものはなかった。
力を加えると変形し、外力を取去ると元に戻るという性
質を有する。従来のエラストマーにおいては、外力を加
えることにより変形し、外力を取去った後も変形した形
状を維持し、環境が変化したときに元の形状に戻るとい
う形状記憶性を有するものはなかった。
形状記憶性を有する素材としては、ある種の金属、形状
記憶合金が挙げられるにすぎない。
記憶合金が挙げられるにすぎない。
一般に、ガラス転移温度Tgが低い程、変形時の内部歪
が緩和しやすい仲間にあるが、一般のゴムではTgが室
温よりかなり低く、例えばブタジェン−アクリロニトリ
ルゴムでは一50℃、ブタジェン−スチレンゴムでは一
57℃、天然ゴムでは一73℃である。このためこれら
のゴムを室温で変形させても外力を取去れば瞬間的に元
の形状に戻る。
が緩和しやすい仲間にあるが、一般のゴムではTgが室
温よりかなり低く、例えばブタジェン−アクリロニトリ
ルゴムでは一50℃、ブタジェン−スチレンゴムでは一
57℃、天然ゴムでは一73℃である。このためこれら
のゴムを室温で変形させても外力を取去れば瞬間的に元
の形状に戻る。
また、光学材料として用いられているガラス、硬質プラ
スチックスは、曲げ、引張り、圧縮などの変形応力を加
えると、その光透過性が著しく低下する。更に、透明ゴ
ムといわれるものは、その可視光線透過率が厚さ10m
mあたり5〜30%であり、光学材料として実用的性能
を有しない。
スチックスは、曲げ、引張り、圧縮などの変形応力を加
えると、その光透過性が著しく低下する。更に、透明ゴ
ムといわれるものは、その可視光線透過率が厚さ10m
mあたり5〜30%であり、光学材料として実用的性能
を有しない。
そこで、金属素材ではなく、ゴムやプラスチックス素材
からなるエラストマーでありながら室温で変形してもそ
の形状を維持し、室温以上に昇温したとき元の形状に復
元する形状記憶性を有し、しかも優れた可視光線透過率
を有する光学材料が求められていた。
からなるエラストマーでありながら室温で変形してもそ
の形状を維持し、室温以上に昇温したとき元の形状に復
元する形状記憶性を有し、しかも優れた可視光線透過率
を有する光学材料が求められていた。
本発明は上記問題を解決することを目的とし、その構成
は、ビニル系単量体を主成分とするA成分の重合体とア
クリル酸誘導体を主成分とするB成分の重合体または合
成ゴムとの混合物であって、少なくとも一方が三次元綱
目構造を有している組成物又はA成分単量体とB成分単
量体との三次元網目構造を有する共重合体であって、ガ
ラス転移温度Tgが0〜50℃で、可視光線透過率が厚
さ10’mmあたり40%以上であることを特徴とする
。
は、ビニル系単量体を主成分とするA成分の重合体とア
クリル酸誘導体を主成分とするB成分の重合体または合
成ゴムとの混合物であって、少なくとも一方が三次元綱
目構造を有している組成物又はA成分単量体とB成分単
量体との三次元網目構造を有する共重合体であって、ガ
ラス転移温度Tgが0〜50℃で、可視光線透過率が厚
さ10’mmあたり40%以上であることを特徴とする
。
本発明はビニル系単量体を主成分とするA成分の重合体
とアクリル酸誘導体を主成分とするB成分の重合体また
は合成ゴムとをポリマーブレンドするか(ただし、少な
(とも一方の重合体は三次元網目構造を有している)或
いは、A成分雛量体とB成分単量体を架橋性基含有ビニ
ル単量体と共重合させて得られ、三次元網目構造を有す
るものである。合成ゴムとしては、ブタジェンゴム、エ
チレンプロプレンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム
等が挙げられる。
とアクリル酸誘導体を主成分とするB成分の重合体また
は合成ゴムとをポリマーブレンドするか(ただし、少な
(とも一方の重合体は三次元網目構造を有している)或
いは、A成分雛量体とB成分単量体を架橋性基含有ビニ
ル単量体と共重合させて得られ、三次元網目構造を有す
るものである。合成ゴムとしては、ブタジェンゴム、エ
チレンプロプレンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム
等が挙げられる。
更に、ガラス転移温度Tgを約0ないし50℃、好まし
くは20〜40℃に調整したものである。
くは20〜40℃に調整したものである。
また、透明性の優れた重合体用単量体を用いることによ
り、可視光線の透過率が厚さ10mmあたり40%以上
になるようにしたものである。
り、可視光線の透過率が厚さ10mmあたり40%以上
になるようにしたものである。
A成分の主成分としては、次の一般式で表されるビニル
系単量体が挙げられる。
系単量体が挙げられる。
C)lz= C(CH3)
COOC++Hg、、十+ (但し、n−1〜4)B
成分の主成分としては炭素数が1〜8のアルキル基を有
するアクリル酸誘導体または炭素数が1〜8のアルコキ
シアルキル基を有するアクリル酸誘導体が挙げられる。
成分の主成分としては炭素数が1〜8のアルキル基を有
するアクリル酸誘導体または炭素数が1〜8のアルコキ
シアルキル基を有するアクリル酸誘導体が挙げられる。
特に、A成分の主成分がメチルメタクリレートのときに
は、B成分の主成分としては、一般式、CH2=CHX COOCH2CH(CHz)bY、 (但し、b=o〜6、 Xたー■1、−011.−CZI(S、 OC2H5、
Y=−Hl−CH3である。)で表されるアクリル酸エ
ステル、引火ばエチルアクリレート、n−ブチルアクリ
レートが好ましい。また、A成分の主成分がスチレンの
ときはB成分単量体としてはブタジェンが好ましい。
は、B成分の主成分としては、一般式、CH2=CHX COOCH2CH(CHz)bY、 (但し、b=o〜6、 Xたー■1、−011.−CZI(S、 OC2H5、
Y=−Hl−CH3である。)で表されるアクリル酸エ
ステル、引火ばエチルアクリレート、n−ブチルアクリ
レートが好ましい。また、A成分の主成分がスチレンの
ときはB成分単量体としてはブタジェンが好ましい。
A成分とB成分或いはゴムとの混合比はA成分/B酸成
分いはゴムが9515〜5/95(重量比、好ましくは
80 / 20〜20/80である。A成分重合体、B
成分重合体及びゴムの屈折率n0は1.4〜1.6であ
ることが好ましい。更に、A成分重合体とB成分重合体
或いはゴムとの屈折率差Δn0が0〜0.08、好まし
くは0〜0.05になるようにA成分重合体とB成分重
合体或いはゴムを選択する。
分いはゴムが9515〜5/95(重量比、好ましくは
80 / 20〜20/80である。A成分重合体、B
成分重合体及びゴムの屈折率n0は1.4〜1.6であ
ることが好ましい。更に、A成分重合体とB成分重合体
或いはゴムとの屈折率差Δn0が0〜0.08、好まし
くは0〜0.05になるようにA成分重合体とB成分重
合体或いはゴムを選択する。
三次元網目構造を得るためには、−eにA成分やB成分
の主成分を架橋性基含有ビニル単量体と塊状重合または
溶液重合法等により共重合させ、しかる後、架橋剤を用
い、場合によっては架橋剤なしに加熱架橋させる。ゴム
の場合は透明性を阻害しないようなゴム加硫剤、例えば
ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイ
ドなどを用いて架橋させる。
の主成分を架橋性基含有ビニル単量体と塊状重合または
溶液重合法等により共重合させ、しかる後、架橋剤を用
い、場合によっては架橋剤なしに加熱架橋させる。ゴム
の場合は透明性を阻害しないようなゴム加硫剤、例えば
ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイ
ドなどを用いて架橋させる。
架橋性基含有ビニル単量体としては、
(al カルボキシル基をもつビニル単量体、申)
エポキシ基をもつビニル単量体、(C)反応性ハロゲン
基をもつビニル単量体、(d) ジエン系ビニル単量
体、 tel 水酸基をもつビニル単量体、(fl アミ
ド基をもつビニル単量体等があり、上記のビニル単量体
の中から少なくとも1つが選択され共重合される。
エポキシ基をもつビニル単量体、(C)反応性ハロゲン
基をもつビニル単量体、(d) ジエン系ビニル単量
体、 tel 水酸基をもつビニル単量体、(fl アミ
ド基をもつビニル単量体等があり、上記のビニル単量体
の中から少なくとも1つが選択され共重合される。
(al カルボキシル基をもつビニル単量体としては
、例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などが
ある。この場合、架橋剤としてはエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、1.6−ヘキサンシオールジグリ
シジルエーテルなどのポリエポキシド類、1,4−ブタ
ンジオール、1.1.1− )リメチロールプロパンな
どのポリオール類がよい。又、架橋剤を用いずに加熱架
橋してもよい。
、例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などが
ある。この場合、架橋剤としてはエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、1.6−ヘキサンシオールジグリ
シジルエーテルなどのポリエポキシド類、1,4−ブタ
ンジオール、1.1.1− )リメチロールプロパンな
どのポリオール類がよい。又、架橋剤を用いずに加熱架
橋してもよい。
(b) エポキシ基をもつビニル単量体としては、例
えばアリルグリシジルエーテル、グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレートなどがある。
えばアリルグリシジルエーテル、グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレートなどがある。
この場合、架橋剤としてはジエチレントリアミン、メタ
フェニレンジアミンなどのポリアミン類、アジピン酸な
どのポリカルボン酸類、無水ピロメリット酸、無水マレ
イン酸などの酸無水物、ポリアミド類、スルホンアミド
類がよい。
フェニレンジアミンなどのポリアミン類、アジピン酸な
どのポリカルボン酸類、無水ピロメリット酸、無水マレ
イン酸などの酸無水物、ポリアミド類、スルホンアミド
類がよい。
tel 反応性ハロゲン基をもつビニル単量体として
は、例えば2−クロルエチルビニルエーテル、モノクロ
ル酢酸ビニルなどがある。この場合架橋剤としてはジエ
チレントリアミン、トリエチレンテトラミンなどのポリ
アミン類、ヘキサメチレンジアミンカーバメイトなどの
ポリカーバメイト類がよい。
は、例えば2−クロルエチルビニルエーテル、モノクロ
ル酢酸ビニルなどがある。この場合架橋剤としてはジエ
チレントリアミン、トリエチレンテトラミンなどのポリ
アミン類、ヘキサメチレンジアミンカーバメイトなどの
ポリカーバメイト類がよい。
(dl ジエン系ビニル単量体としては、例えばジビ
ニルベンゼン、ピペリレン、イソプレン、ペンタジェン
、ビニルシクロヘキセン、クロロプレン、ブタジェン、
メチルブタジェン、シクロペンタジェン、エチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、プロピ
レングリコールジメタクリレートなどがある。この場合
架橋剤としては、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミル
パーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジー第3
ブチルパーオキシヘキサンなどの有機過酸化物類、アゾ
ビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物類、ジビニル
ベンゼン、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシ
アヌレートなどの多官能性ビニル化合物類がよい。又、
架橋剤を用いずに加熱架橋してもよい。
ニルベンゼン、ピペリレン、イソプレン、ペンタジェン
、ビニルシクロヘキセン、クロロプレン、ブタジェン、
メチルブタジェン、シクロペンタジェン、エチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、プロピ
レングリコールジメタクリレートなどがある。この場合
架橋剤としては、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミル
パーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジー第3
ブチルパーオキシヘキサンなどの有機過酸化物類、アゾ
ビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物類、ジビニル
ベンゼン、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシ
アヌレートなどの多官能性ビニル化合物類がよい。又、
架橋剤を用いずに加熱架橋してもよい。
(e) 水酸基をもつビニル単量体としては、例えば
ヒドロキシアルキルアクリレート、ヒドロキシアルキル
メタクリレート、ヒドロキシアルコキシアクリレート、
N−メチロールアクリルアミドなどがある。この場合架
橋剤としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、2.
4−)リレンジイソシアネートなどのポリイソシアネー
ト類、アジピン酸などのポリカルボン酸類、メトキシメ
チルメラミンなどのアルコキシメチルメラミン類がよい
。
ヒドロキシアルキルアクリレート、ヒドロキシアルキル
メタクリレート、ヒドロキシアルコキシアクリレート、
N−メチロールアクリルアミドなどがある。この場合架
橋剤としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、2.
4−)リレンジイソシアネートなどのポリイソシアネー
ト類、アジピン酸などのポリカルボン酸類、メトキシメ
チルメラミンなどのアルコキシメチルメラミン類がよい
。
(fl アミド基をもつビニル単量体としては、例え
ばアクリルアミド、メタクリルアミドなどがある。
ばアクリルアミド、メタクリルアミドなどがある。
この場合架橋剤としては、アミノホルムアルデヒドがよ
く、又、架橋剤を用いずに加熱架橋してもよい。
く、又、架橋剤を用いずに加熱架橋してもよい。
これら架橋性基含有ビニル単量体はそれぞれ用いられた
A成分やB成分の主成分に適したものを選ぶことが望ま
しい。例えば、主成分がメチルメタフリレートやアクリ
ル酸エステルのときにはヒドロキシアルキルアクリレー
ト、ヒドロキシアルキルメタクリレートなどが好ましい
。また、主成分がスチレンのような場合は架橋性基含有
ビニル単量体を必ずしも共重合させる必要はない。 こ
れら架橋性基含有ビニル単量体はA成分又はB成分の主
成分90〜99mo1%に対し1〜10 mo1%、好
ましくは1〜5 mo1%添加して共重合させる。しか
る後、共重合させた架橋性基含有ビニル単量体に適した
架橋剤を使用して三次元網目構造体とする。架橋剤の量
は全量に対し0.1〜10重量%が好ましい。架橋性基
含有ビニル単量体によっては架橋剤なしで加熱架橋する
ことができる。
A成分やB成分の主成分に適したものを選ぶことが望ま
しい。例えば、主成分がメチルメタフリレートやアクリ
ル酸エステルのときにはヒドロキシアルキルアクリレー
ト、ヒドロキシアルキルメタクリレートなどが好ましい
。また、主成分がスチレンのような場合は架橋性基含有
ビニル単量体を必ずしも共重合させる必要はない。 こ
れら架橋性基含有ビニル単量体はA成分又はB成分の主
成分90〜99mo1%に対し1〜10 mo1%、好
ましくは1〜5 mo1%添加して共重合させる。しか
る後、共重合させた架橋性基含有ビニル単量体に適した
架橋剤を使用して三次元網目構造体とする。架橋剤の量
は全量に対し0.1〜10重量%が好ましい。架橋性基
含有ビニル単量体によっては架橋剤なしで加熱架橋する
ことができる。
本発明による形状記憶性光学材料を製造するには、モノ
マー段階で常法によりハイドロキノンモノメチルエーテ
ル等の重合禁止剤その他の不純物を除去し、孔径0.5
μmのフィルターで口過した後、減圧蒸留法にて精留し
て精製する。このようにして得られた原料を用いて製造
したA成分の重合体とB成分の重合体を用いる。また、
合成ゴムの場合は、老化防止剤その他の添加剤を除去し
て使用する。各成分の屈折率差Δn0=0〜0.08、
好ましくはΔn0=0〜0.05になるように組合わせ
てブレンドし、次いで架橋してA成分重合体又はB成分
重合体の少な(とも一方に三次元網目構造を形成させる
。好ましくは、両者を同時に架橋して三次元網目構造を
形成させる。なお、A成分の重合体とB成分の重合体或
いは合成ゴムとの相溶性がよい場合には、屈折率差が大
きくても充分な透明性が得られる。 ″・ 本発明のA成分重合体はガラス転移温度Tgが0〜15
0℃、B成分重合体はガラス転移温度Tgが一100〜
50℃であることが好ましく、更に両者とも分子量が数
万以上のものが好ましい。
マー段階で常法によりハイドロキノンモノメチルエーテ
ル等の重合禁止剤その他の不純物を除去し、孔径0.5
μmのフィルターで口過した後、減圧蒸留法にて精留し
て精製する。このようにして得られた原料を用いて製造
したA成分の重合体とB成分の重合体を用いる。また、
合成ゴムの場合は、老化防止剤その他の添加剤を除去し
て使用する。各成分の屈折率差Δn0=0〜0.08、
好ましくはΔn0=0〜0.05になるように組合わせ
てブレンドし、次いで架橋してA成分重合体又はB成分
重合体の少な(とも一方に三次元網目構造を形成させる
。好ましくは、両者を同時に架橋して三次元網目構造を
形成させる。なお、A成分の重合体とB成分の重合体或
いは合成ゴムとの相溶性がよい場合には、屈折率差が大
きくても充分な透明性が得られる。 ″・ 本発明のA成分重合体はガラス転移温度Tgが0〜15
0℃、B成分重合体はガラス転移温度Tgが一100〜
50℃であることが好ましく、更に両者とも分子量が数
万以上のものが好ましい。
このように、モノマー段階で精製を行ったA成分重合体
、B成分重合体或いは精製ゴムの組合せ、組成比、三次
元網目構造の発達程度を調整することによりそのTgを
約0ないし50℃、好ましくは20〜40℃になるよう
にし、更に、可視光線透過率が厚さ10mmあたり40
%以上になるようにする。
、B成分重合体或いは精製ゴムの組合せ、組成比、三次
元網目構造の発達程度を調整することによりそのTgを
約0ないし50℃、好ましくは20〜40℃になるよう
にし、更に、可視光線透過率が厚さ10mmあたり40
%以上になるようにする。
本発明に係るエラストマーは、分子内部に三次元網目構
造が形成され、ゲル化しているため、流動変形すること
な(室温で自由自在に変形することができる。しかもT
gが通常のゴムに比して約100℃も高い室温付近であ
るため、変形させた後形状が復元するまでに長時間を要
し、事実上変形した状態を長(維持することができ、熱
風にさらしたり、熱湯につけたりして熱エネルギーを与
えると数秒の間に元の形状に復元する。
造が形成され、ゲル化しているため、流動変形すること
な(室温で自由自在に変形することができる。しかもT
gが通常のゴムに比して約100℃も高い室温付近であ
るため、変形させた後形状が復元するまでに長時間を要
し、事実上変形した状態を長(維持することができ、熱
風にさらしたり、熱湯につけたりして熱エネルギーを与
えると数秒の間に元の形状に復元する。
更に、屈折率の近似した或いは相溶性のよい成分を選ぶ
ことによりブレンドによる光透過損失量が減少し、しか
も、変形、復元によりその光学的特性が変わらないエラ
ストマーが得られる。
ことによりブレンドによる光透過損失量が減少し、しか
も、変形、復元によりその光学的特性が変わらないエラ
ストマーが得られる。
〔実施例1〕及び〔比較例1.2〕
重合禁止剤を除去し、蒸留精製したメチルメタクリレー
ト98n+o1%と2−ヒドロキシエチルアクリレート
2 mo1%を、アゾビスイソブチロニトリルを開始剤
として溶液重合法にて共重合して得1ま たA成分重合体(屈折率n0=1.49) 60重量部
と、同じく重合禁止剤を除去し、蒸留精製したエチルア
クリレート95mo1%と2−ヒドロキシエチルアクリ
レート4 mo1%を、アゾビスイソブチロニトリルを
開始剤として溶液重合法にて共重合して得たB成分重合
体(屈折率no =1.46) 40重量部、ならびに
精製したヘキサメチレンジイソシアネート4重量部をメ
チルエチルケトン溶液中で均一に混合し、溶剤を除去し
た後120℃×60゛で厚さ2IIIm、 20X10
0mmの大きさのシートを作成し、実施例1とした。
ト98n+o1%と2−ヒドロキシエチルアクリレート
2 mo1%を、アゾビスイソブチロニトリルを開始剤
として溶液重合法にて共重合して得1ま たA成分重合体(屈折率n0=1.49) 60重量部
と、同じく重合禁止剤を除去し、蒸留精製したエチルア
クリレート95mo1%と2−ヒドロキシエチルアクリ
レート4 mo1%を、アゾビスイソブチロニトリルを
開始剤として溶液重合法にて共重合して得たB成分重合
体(屈折率no =1.46) 40重量部、ならびに
精製したヘキサメチレンジイソシアネート4重量部をメ
チルエチルケトン溶液中で均一に混合し、溶剤を除去し
た後120℃×60゛で厚さ2IIIm、 20X10
0mmの大きさのシートを作成し、実施例1とした。
別に、メチルメタクリレート981Ilo1%と2−ヒ
ドロキシエチルアクリレート21Io1%の共重合体(
屈折率no =1.49) 96重量部とシリコーンゴ
ム(屈折率no =1.40) 4重量部ならびにヘキ
サメチレンジイソシアネート4重量部を塩化メチレン溶
液中で均一に混合し、溶剤を除去した後、実施例1と同
様にしてシートを作成し、比較例1とした。
ドロキシエチルアクリレート21Io1%の共重合体(
屈折率no =1.49) 96重量部とシリコーンゴ
ム(屈折率no =1.40) 4重量部ならびにヘキ
サメチレンジイソシアネート4重量部を塩化メチレン溶
液中で均一に混合し、溶剤を除去した後、実施例1と同
様にしてシートを作成し、比較例1とした。
また、ベンゾイルパーオキサイドを開始剤として溶液重
合法にて重合したスチレンポリマー(屈折率no =1
.59) 4重量部とエチルアクリレート96 n+
o1%と2−ヒドロキシエチルアクリレート4mo1%
の共重合体(屈折率no −1,46) 96重量部な
らびにヘキサメチレンジイソシアネート4重量部をメチ
ルエチルケトン溶液中で均一に混合し、溶剤を除去した
後、実施例1と同様にしてシートを作成し、比較例2と
した。
合法にて重合したスチレンポリマー(屈折率no =1
.59) 4重量部とエチルアクリレート96 n+
o1%と2−ヒドロキシエチルアクリレート4mo1%
の共重合体(屈折率no −1,46) 96重量部な
らびにヘキサメチレンジイソシアネート4重量部をメチ
ルエチルケトン溶液中で均一に混合し、溶剤を除去した
後、実施例1と同様にしてシートを作成し、比較例2と
した。
上記の方法で作成した成形物のガラス転移点Tgと光透
過率、屈折率n0を測定し、第1表に示した。
過率、屈折率n0を測定し、第1表に示した。
第 1 表
※注 波長650r++++における厚さ1抛mあたり
の光透過率である。(以下の重合体、比較例においても
同様である。) 実施例1のシートを20℃で約90度に折曲げて変形さ
せたところ、室温ではこの形状が長く維持され変化がみ
られなかった。この変形させた成形品を60℃の熱風に
さらすと実施例1のものは直ちにもとの形状に復元し、
光透過率も元のままであった。比較例1のものは60℃
の熱風にさらしても元の形状に回復せず、表面に亀裂が
生じた。
の光透過率である。(以下の重合体、比較例においても
同様である。) 実施例1のシートを20℃で約90度に折曲げて変形さ
せたところ、室温ではこの形状が長く維持され変化がみ
られなかった。この変形させた成形品を60℃の熱風に
さらすと実施例1のものは直ちにもとの形状に復元し、
光透過率も元のままであった。比較例1のものは60℃
の熱風にさらしても元の形状に回復せず、表面に亀裂が
生じた。
また、比較例2のものは20℃で変形させても外力を取
去ると同時に元の形状に復元し、変形させることができ
なかった。
去ると同時に元の形状に復元し、変形させることができ
なかった。
〔実施例2〕及び〔比較例3.4〕
重合禁止剤を除去し、蒸留精製したスチレン単量体をベ
ンゾイルパーオキサイドを開始剤として塊状重合して得
たA成分重合体(屈折率no=1.59) 70重量部
と、同じ(精製したポリブタジェン(屈折率no =1
.52) 30重量部に、ジクミルパーオキサイド3重
量部を加え、メチルエチルケトン溶液中で均一に混合し
、溶剤を除去した後150℃×60゛ で厚さ2mm、
20X100mmの大きさのシートを作成し、実施例2
とした。
ンゾイルパーオキサイドを開始剤として塊状重合して得
たA成分重合体(屈折率no=1.59) 70重量部
と、同じ(精製したポリブタジェン(屈折率no =1
.52) 30重量部に、ジクミルパーオキサイド3重
量部を加え、メチルエチルケトン溶液中で均一に混合し
、溶剤を除去した後150℃×60゛ で厚さ2mm、
20X100mmの大きさのシートを作成し、実施例2
とした。
別に、スチレン重合体(屈折率n0−1.59) 96
a 重量部とエチルアクリレート98mo1%と2−エトキ
シエチルアクリレート2mo1%の共重合体(屈折率n
o =1.46) 4重量部にジクミルパーオキサイド
3重量部を加え、実施例2と同様にしてシートを作成し
、比較例3とした。
a 重量部とエチルアクリレート98mo1%と2−エトキ
シエチルアクリレート2mo1%の共重合体(屈折率n
o =1.46) 4重量部にジクミルパーオキサイド
3重量部を加え、実施例2と同様にしてシートを作成し
、比較例3とした。
また、未精製のポリブタジェン(屈折率no=1.52
) 100重量部にジクミルパーオキサイド3重量部
を加え、実施例2と同様にしてシートを作成し、比較例
4とした。
) 100重量部にジクミルパーオキサイド3重量部
を加え、実施例2と同様にしてシートを作成し、比較例
4とした。
これら重合体、比較例のガラス転移点Tgと光透過率、
屈折率n0を測定し、第2表に示した。
屈折率n0を測定し、第2表に示した。
第 2 表
上記シートを20℃で約90度に折曲げて変形させたと
ころ、室温ではこの形状が長く維持され変化がみられな
かった。この変形させた成形品を60℃の熱風にさらす
と実施例2のものは直ちに元の形状に復元し、光透過率
も元のままであった。
ころ、室温ではこの形状が長く維持され変化がみられな
かった。この変形させた成形品を60℃の熱風にさらす
と実施例2のものは直ちに元の形状に復元し、光透過率
も元のままであった。
比較例3のものは60℃の熱風にさらしても元の形状に
回復せず、表面に亀裂が生じた。また、比較例4のもの
は20℃で変形させても外力を取去ると同時に元の形状
に復元し、変形させることができなかった。
回復せず、表面に亀裂が生じた。また、比較例4のもの
は20℃で変形させても外力を取去ると同時に元の形状
に復元し、変形させることができなかった。
〔実施例3〕及び〔比較例5.6〕
A成分単量体として重合禁止剤を除去し、蒸留精製した
メチルメタクリレート58mo1%、B成分単量体とし
て、同じく精製したn−ブチルアクリレ−)38mo1
%、架橋性基含有ビニル単量体として2−ヒドロキシエ
チルアクリレート4 IIto1%をアゾビスイソブチ
ロニトリルを開始剤として溶液重合法により得た共重合
体100重量部にヘキサメチレンジイソシアネート3重
量部を加え、メチルエチルケトン溶液中で均一に分散し
、溶剤を除去した後120℃×60゛で厚さ2mm、2
0X100o+mの大きさのシートを作成し、実施例3
とした。
メチルメタクリレート58mo1%、B成分単量体とし
て、同じく精製したn−ブチルアクリレ−)38mo1
%、架橋性基含有ビニル単量体として2−ヒドロキシエ
チルアクリレート4 IIto1%をアゾビスイソブチ
ロニトリルを開始剤として溶液重合法により得た共重合
体100重量部にヘキサメチレンジイソシアネート3重
量部を加え、メチルエチルケトン溶液中で均一に分散し
、溶剤を除去した後120℃×60゛で厚さ2mm、2
0X100o+mの大きさのシートを作成し、実施例3
とした。
別に、スチレン95mo1%とn−ブチルアクリレート
4 mo1%の共重合体100重量部にジクミルパーオ
キサイド3重量部を加え、実施例3と同様にしてシート
を作成し、比較例5とした。
4 mo1%の共重合体100重量部にジクミルパーオ
キサイド3重量部を加え、実施例3と同様にしてシート
を作成し、比較例5とした。
また、スチレンl mo1%とn−ブチルアクリレート
95mo1%、2−ヒドロキシエチルアクリレート4
mo1%の共重合体100重量部にヘキサメチレンジイ
ソシアネート3重量部を加え、実施例3と同様にしてシ
ートを作成し、比較例6とした。
95mo1%、2−ヒドロキシエチルアクリレート4
mo1%の共重合体100重量部にヘキサメチレンジイ
ソシアネート3重量部を加え、実施例3と同様にしてシ
ートを作成し、比較例6とした。
これら重合体、比較例のガラス転移点Tgと光透過率、
屈折率n0を測定し、第3表に示した。
屈折率n0を測定し、第3表に示した。
第 3 表
上記シートについて実施例1と同様の変形試験を行った
ところ、実施例3は実施例1と同様の、比較例5は比較
例1と、比較例6は比較例2とそれぞれ同様の結果が得
られた。
ところ、実施例3は実施例1と同様の、比較例5は比較
例1と、比較例6は比較例2とそれぞれ同様の結果が得
られた。
本発明によれば、室温において任意の形状に容易に加工
することができ、その形状が長く維持され、熱湯に漬け
るなど熱エネルギーを与えることによりもとの形状に復
元し、しかも優れた光学特性を有する形状記憶性光学材
料が得られる。
することができ、その形状が長く維持され、熱湯に漬け
るなど熱エネルギーを与えることによりもとの形状に復
元し、しかも優れた光学特性を有する形状記憶性光学材
料が得られる。
特許出願人 エヌオーケー株式会社
代理人 弁理士 吉田俊夫(外1名)
手続補正書
昭和61年11月7日
特許庁長官 黒 1)明 雄 殿
1、事件の表示
昭和61年特許願第159810号
2、発明の名称
形状記憶性光学材料
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
名称 エヌオーケー株式会社
4、代理人 ■150
住所 東京都渋谷区松濤−丁目29番21号5、補正命
令の日付 自発 6、補正の対象 明細書の特許請求の範囲及び7、補正
の内容 (11特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。
令の日付 自発 6、補正の対象 明細書の特許請求の範囲及び7、補正
の内容 (11特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。
(2) 明細書、第2頁、17行の「インコネクター
」を「インコネクター」に訂正する。
」を「インコネクター」に訂正する。
(3)同、第6頁、10行の「一般式、」を「一般式」
に訂正する。
に訂正する。
(4)同、第6頁末行の「A成分とB成分」を「A成分
重合体とB成分重合体」に訂正する。
重合体とB成分重合体」に訂正する。
(5)同、第7頁、1行のr/B成分」を「重合体/B
成分重合体」に訂正する。
成分重合体」に訂正する。
(6)同、第7頁、3行、第12頁2行及び3行、第1
4頁、1行、6行、14行、15行、第15頁、2行、
4行、10行、第1表最下段、第16頁、13行、15
行、末行、第17頁、3行、6行、11行、第2表最下
段、第19頁、11行及び第3表最下段の「no」をr
noJに訂正する。
4頁、1行、6行、14行、15行、第15頁、2行、
4行、10行、第1表最下段、第16頁、13行、15
行、末行、第17頁、3行、6行、11行、第2表最下
段、第19頁、11行及び第3表最下段の「no」をr
noJに訂正する。
(7)同、第19頁1行の「95」を「96」に訂正す
る。
る。
以上
訂正特許請求の範囲
(1) ビニル系単量体を主成分とするA成分の重合
体とアクリル酸誘導体を主成分とするB成分の重合体ま
たは合成ゴムとの混合物であって、少なくとも一方が三
次元網目構造を有している組成物又はA成分単量体とB
成分単量体との三次元網目構造を有する共重合体であっ
て、ガラス転移温度Tgが0〜50℃で、可視光線透過
率が厚さ10mmあたり40%以上である形状記憶性光
学材料。
体とアクリル酸誘導体を主成分とするB成分の重合体ま
たは合成ゴムとの混合物であって、少なくとも一方が三
次元網目構造を有している組成物又はA成分単量体とB
成分単量体との三次元網目構造を有する共重合体であっ
て、ガラス転移温度Tgが0〜50℃で、可視光線透過
率が厚さ10mmあたり40%以上である形状記憶性光
学材料。
(2)A成分重合体とB成分重合体または合成ゴムとの
混合比が重量比で、9515〜5/95である特許請求
の範囲第1項記載の形状記憶性光学材料。
混合比が重量比で、9515〜5/95である特許請求
の範囲第1項記載の形状記憶性光学材料。
(3)A成分の重合体のガラス転移温度Tgが0〜15
0℃、B成分の重合体または合成ゴムのガラス転移温度
Tgが一100〜50℃である特許請求の範囲第1項又
は第2項記載の形状記憶性光学材料。
0℃、B成分の重合体または合成ゴムのガラス転移温度
Tgが一100〜50℃である特許請求の範囲第1項又
は第2項記載の形状記憶性光学材料。
(4)A成分重合体、B成分重合体及び合成ゴムの屈折
率nゎが1.4〜1.6であり、A成分重合体とB成分
重合体又は合成ゴムとの屈折率差が0〜0.08である
特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載す
る形状記憶性光学材料。
率nゎが1.4〜1.6であり、A成分重合体とB成分
重合体又は合成ゴムとの屈折率差が0〜0.08である
特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載す
る形状記憶性光学材料。
Claims (4)
- (1)ビニル系単量体を主成分とするA成分の重合体と
アクリル酸誘導体を主成分とするB成分の重合体または
合成ゴムとの混合物であって、少なくとも一方が三次元
網目構造を有している組成物又はA成分単量体とB成分
単量体との三次元網目構造を有する共重合体であって、
ガラス転移温度Tgが0〜50℃で、可視光線透過率が
厚さ10mmあたり40%以上である形状記憶性光学材
料。 - (2)A成分重合体とB成分重合体または合成ゴムとの
混合比が重量比で、95/5〜5/95である特許請求
の範囲第1項記載の形状記憶性光学材料。 - (3)A成分の重合体のガラス転移温度Tgが0〜15
0℃、B成分の重合体または合成ゴムのガラス転移温度
Tgが−100〜50℃である特許請求の範囲第1項又
は第2項記載の形状記憶性光学材料。 - (4)A成分重合体、B成分重合体及び合成ゴムの屈折
率n_0が1.4〜1.6であり、A成分重合体とB成
分重合体又は合成ゴムとの屈折率差が0〜0.08であ
る特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載
する形状記憶性光学材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15981086A JPS6317952A (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | 形状記憶性光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15981086A JPS6317952A (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | 形状記憶性光学材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6317952A true JPS6317952A (ja) | 1988-01-25 |
Family
ID=15701749
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15981086A Pending JPS6317952A (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | 形状記憶性光学材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6317952A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1818346A1 (en) * | 2006-02-10 | 2007-08-15 | Mnemoscience GmbH | Shape memory materials comprising polyelectrolyte segments |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6028433A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-13 | Nippon Zeon Co Ltd | 形状記憶性成形体及びその使用方法 |
-
1986
- 1986-07-09 JP JP15981086A patent/JPS6317952A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6028433A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-13 | Nippon Zeon Co Ltd | 形状記憶性成形体及びその使用方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1818346A1 (en) * | 2006-02-10 | 2007-08-15 | Mnemoscience GmbH | Shape memory materials comprising polyelectrolyte segments |
WO2007090687A1 (en) | 2006-02-10 | 2007-08-16 | Mnemoscience Gmbh | Shape memory materials comprising polyelectrolyte segments |
US8344034B2 (en) | 2006-02-10 | 2013-01-01 | Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum fuer Material und Kuestenferschung GmbH | Shape memory materials comprising polyelectrolyte segments |
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