JPS6317873A

JPS6317873A - エチレンオキシドの回収方法

Info

Publication number: JPS6317873A
Application number: JP61159672A
Authority: JP
Inventors: Yukihiko Kakimoto; 行彦柿本; Masayuki Sawada; 沢田　雅行; Nobuaki Kajimoto; 梶本　宣明; Isamu Kiguchi; 木口　勇
Original assignee: Nippon Shokubai Co Ltd
Current assignee: Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date: 1986-07-09
Filing date: 1986-07-09
Publication date: 1988-01-25
Anticipated expiration: 2009-07-27
Also published as: JPH0655734B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、エチレンを分子状酸素含有ガスにより接触気
相酸化して得られるエチレンオキシドを精製する方法に
関するものである。ざらに詳しくは、エチレンを銀触媒
の存在下、分子状酸素合有ガスにより接触気相酸化して
得られるエチレンオキシドを含む反応生成ガスをエチレ
ンオキシド吸収塔へ導びき吸収液に吸収させてエチレン
オキシドを回収し、ついでエチレンオキシドを含む吸収
液をエチレンオキシド放散塔へ送り、エチレンオキシド
放散塔底部を加熱することによりエチレンオキシド放散
塔頂よりエチレンオキシドを放散し、エチレンオキシド
放散塔底部より抜き出した液の一部はエチレンオキシド
吸収塔へ尋き吸収液として循環使用する工程よりなるエ
チレンオキシドの回収方法においてエチレンオキシド放
散塔及びエチレンオキシド精留塔及び軽質分分離塔の加
熱エネルギーを低減させるエチレンオキシドの回収方法
に関するものである。

（従来の技術）エチレンオキシドを回収する工程において、反応生成ガ
スを水を主とする吸収液に吸収させエチレンオキシド水
溶液として回収し、この水溶液からエチレンオキシドを
放散せしめ又エチレンオキシドを得ている。エチレンオ
キシドは一般につざのようにして回収される。エチレン
と分子状酸へ含有ガスとを銀触媒上で接触気相酸化して
生成するエチレンオキシドを含む反応生成ガスをエチレ
ンオキシド吸収塔へ導びき水を主とする吸収液と向流接
触さｔソエチレンオキシド水溶液として回収し、ついで
エチレンオキシド放散塔へ送り、エチレンオキシド放散
塔底部を加熱蒸気で１１１熱するごとによってエチレン
オキシドを水溶液から放散させ、エチレンオキシド放散
塔底部より実質的にエチレンオキシドを含まない水溶液
は吸収液とじて循環使用し、エチレンオキシド放散塔頂
部より放散されるエチレンオキシド、水、二酸化炭木、
不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン、）の他
ホルムアルデヒド等の低沸点不純；ＩＩＪ　８３よびア
セトアルデヒド、醋Ｖ秀の高沸点不１１１１！物を含む
放散物を脱水工程、軽質分分離工程Ｊ３よび車質分分加
工程の各々を経て精製しエチレンオキシドを製）Δりる
ことができる。エチレンオキシドの回収方法については
種々の提案がされている。たとえば、米国！４！を前箱
３．１６５．５３９号、米国特許第２゜７７１．４７３
号、米国特許第４，０２８，０７０号、米国特許第３．
０９７．２１５弓、米国特許第３．２１７．４６６翼、
米田持−１第３．７４５．０９２号、米国特許第３．７
２９，８９９’；、米国特許第３．７６６．７１／１弓
、１３よび米１１特訂第３，９６４，９８０号等が挙げ
られる。

従来公知の方法を具体的に説１ＩＩｌｔろと、怜１えば
第１図にｄ３いてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸
木含イｊガスにより接触気相酸化して生成するエチレン
オキシドを含む反応生成ガスを導管１を通して、充填塔
あるいは棚段塔型式のエチレンオキシド吸収塔２の下部
へ供給し、導管３よりエチレンオキシド吸収塔２の上部
へ吸収液を導入し、反応生成ガスと向流接触させ、反応
生成ガス中の９９重量％以上のエチレンオキシドを回収
し、エチレンオキシド吸収塔２の塔頂より吸収しなかっ
たエチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、ア
ルゴン、メタン、エタン）アルデヒド類、酸性物質等の
ガスｔま導管４を通して二酸化炭素吸収工程および／ま
たは酸化反応工程へ循環される。

この吸収工程においてエチレンオキシドの他、エチレン
、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メ
タン、エタン、）ならびにエチレン酸化反応工程で生成
したホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデ
ヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実質量が同時に吸収
される。エチレンオキシド吸収塔２の塔底液を導管５を
通して熱交換器６へ送りエチレンオキシド放散塔底液と
熱交換して温度７０〜１１０℃に高め、導管７によりフ
ラッシュタンク８へ送られ一部エチレンオキシド、水を
含む不活性ガスの軽質分ガスが導管９により分離される
。軽質分ガスをフラッシュした残部の吸収液を導管１０
を通して塔頂圧力０．１〜２　Ｋ９　／　ｃｉ　Ｇ、塔
頂温度８５〜１２０℃のエチレンオキシドｔ！１数基１
１の上部へ供給し、エチレンオキシド放散塔１１の加熱
器１２より水蒸気またはダウサム（ダウ社、熱媒体商品
）等の加熱媒体で導管１３を通して加熱するか、または
直接エチレンオキシド放散塔１１の底部へ水蒸気を導入
する加熱方式により加熱し、吸収液中に含まれるエチレ
ンオキシドの９９重量％以上を放散せしめ、エチレンオ
キシド放散塔１１の底部よりエチレンオキシドを実質的
に含まない温度１００〜１５０℃のエチレンオキシド放
散塔底液の一部は導管１４および導管１５を通して熱交
換器６でエチレンオキシド吸収塔２の塔底液と熱交換し
、導管１６を通して、さらに導管１８および導管１９に
冷却水が通る冷２ＪＩ器１７により冷却し、ついで吸収
液中のエチレングリコール濃度を調節するため新鮮な水
を導管２１を通して尋人し、必要により、吸収液中のＤ
　Ｈを調節するため水酸化カリウム水溶液を添加し、吸
収液中の消泡剤濃度を調節するため消泡剤をエチレンオ
キシド吸収塔２へそれぞれ導入することができる。エチ
レンを分子状Ｗｉｔで酸化する酸化工程およびエチレン
オキシド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシドと
水との加水反応で生成する副生エチレングリコールおよ
びホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒ
ドおよびＭ酸等の高沸点不純物の増加を防ぐためエチレ
ンオキシド放散塔１１の塔底部より導管１４および２２
を通してエチレンオキシド放散塔１１の底液を抜き出し
、副生エチレングリコール濃縮工程に送られる。

一方、エチレンオキシド放散塔１１の塔頂部より放散さ
れるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管２３を通し
て、導管２５および導管２６に冷却水が通る凝縮器２４
へ送り、凝縮液は導管２７を通してエチレンオキシド放
散塔１１の塔頂部へ還流し、未凝縮蒸気は導管２８を通
して脱水塔２９へ供給される。

脱水塔２９の加熱器３０により水蒸気またはダウサム（
ダウ社商品）等の加熱媒体で導管３１を通して加熱する
か、または直接脱水塔２９の下部へ水蒸気を導入する加
熱方式により加熱し、脱水塔２９の塔底より導管３２を
通して実質的にエチレンオキシドを含まない水が抜き出
される。

脱水塔２つの塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸気は
導管３３を通して、導管３５および導管３６に冷却水ま
たはブラインが通る凝縮器３４へ送り、凝縮液は導管３
７を通して脱水塔２９の塔頂部へ還流し、凝縮器３４の
未凝縮蒸気は導管３９を通して再エチレンオキシド吸収
塔（図示していない）へ供給される。凝縮器３４の凝縮
液の他部は導管３８を通して重質分分離塔４０へ供給さ
れる。

重質分分離塔４０の加熱器４１により水蒸気またはダウ
サム（ダウ社商品）等の加熱媒体で々管４２を通して加
熱する方式により加熱し、重質分分離塔４０の塔頂部よ
り重質分を含むエチレンオキシド蒸気は導管４３を通し
て凝縮器４４へ送り、凝縮液は導管４７を通して重質分
分離塔４０の塔頂部へ運流し、未凝縮蒸気は導管４８を
通してエチレンオキシドを回収するため再エチレンオキ
シド吸収塔（図示してない）へ供給される。

一方、重質分を分離されたエチレンオキシドは重質分分
離塔４０の塔底より導管４９を通してエチレンオキシド
精留塔５０へ供給される。

エチレンオキシド精留塔５０の加熱器５８へ導管５９よ
り圧力０．５〜３．０に９／ｒ：ｉＧの水蒸気を供給し
、エチレンオキシド精留塔５０の塔底温；度　３５〜８
５℃、エチレンオキシド精留塔底圧力１．２〜８．２７
（ｙ／Ｃ！ｉＧで精留を行ない、エチレンオキシド精留
塔頂より塔頂温度２９〜８１℃、塔頂圧力１．０〜８．
０Ａｆｆ１０ｊＧのエチレンオキシド蒸気を導管５１を
通して、凝縮器５２へ送りエチレンオキシド蒸気は液化
し、液化した一部は導管５６を通してエチレンオキシド
精留塔５０の塔頂部へ還流液として導入し、液化した他
部は導管５７を通してエチレンオキシド製品として抜き
出される。

エチレンオキシド精留塔５０の凝縮器５２の未凝縮蒸気
は導管５５を通してエチレンオキシドを回収するため再
エチレンオキシド吸収塔（図示してない）へ供給される
。

エチレンオキシド精留塔５０の塔底液はアセトアルデヒ
ド、水、および酢酸等の高沸点不純物の重質分分離のた
め必要により導管６７を通して抜き出される。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、このようなエチレンオキシドの精製方法
は、エチレンオキシド放散塔頂蒸気の凝縮熱の回収やエ
チレンオキシド放散塔底部より抜き出された液が有する
熱エネルギーを回収する点については十分でなく、大（
６）の熱量が系外に廃棄されるという問題があった。従
来の方法は１００〜１５０℃のエチレンオキシド放散塔
底液をエチレンオキシド吸収塔底液と熱交換させ、熱量
の回収を行なった後、冷加してエチレンオキシド吸収塔
の吸収液としていた。また、エチレンオキシドの精製方
法はエチレンオキシド放散塔及びエチレンオキシド精留
塔及び軽質分分離塔における加熱蒸気量を多聞に消費す
る問題があった。

したがって、本発明の目的は、エチレンオキシドの新規
な精製方法を提供することにある。

本発明の俵の目的は、エチレンオキシド放散塔底液の有
するエネルギーの有効利用をはかったエチレンオキシド
の精製方法を提供することにある。

（問題点を解決するための手段）これらの諸目的は、エチレンを分子状酸素含有ガスと接
触気相酸化して生成したエチレンオキシドを含有する反
応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入し吸収液と
向流接触さ゛せ、吸収塔頂部よりのガスの一部はエチレ
ン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含む吸収
塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エチレンオ
キシド放散塔頂部からエチレンオキシドを放散せしめ、
エチレンオキシド放散塔底部より抜き出した液はエチレ
ンオキシド吸収塔へ導き吸収液として循環使用する工程
よりなるエチレンオキシド回収方法において、エチレン
オキシドの放ｒｆｉＲ５底部より抜き出した液をフラッ
シュ処理して気相部と液相部に分離し、気相部は圧縮し
てエチレンオキシド放散塔底部の気相部へ導入し、液相
部はエチレンオキシド精留塔および／または軟質分分離
塔の加熱源とした後、エチレンオキシド吸収塔の吸収液
とすることを特徴とするエチレンオキシドの回収方法に
より達成される。

これらの諸目的は、前記方法において、液相部はエチレ
ンオキシド精留塔の加熱源として使用することよりなる
エチレンオキシドの精製方法によっても達成される。前
記方法において、液相部は軽質分分離塔の加熱源として
用いることよりなるエチレンオキシドの精製方法によっ
ても達成される。さらに前記方法において、液相部はエ
チレンオキシド精留塔および軽質分分離塔の両者に供給
されてその加熱源として使用することよりなるエチレン
オキシドの精製方法によっても達成される。

また、前記方法において、液相部はエチレンオキシド精
留塔の加熱源として使用したのち、さらに軽質分分離塔
に供給してその加熱源として使用することよりなるエチ
レンオキシドの精製方法によっても達成される。

第１図は、公知のエチレンオキシドの精製方法の一例を
示すフローチャートであり、第２〜５図は、本発明によるエチレンオキシドの精製方
法の実施態様を示すフローチャートである。

本発明においてエチレンオキシド吸収塔へ供給される吸
収液の温度は５〜４０℃、好ましくは１０〜３５℃であ
り、吸収液の組成はｐｌ−１が５〜１２、好ましくは６
〜１１、エチレングリコール濃度が１〜４０重量％、好
ましくは５〜３０重量％、消泡剤濃度がｏ、ｉｐｐｍ以
上、好ましくは１〜１１００ｐｐ、残り水の範囲にｔＩ
Ｉｌ　御される。吸収液中のエチレングリコール濃度を
一定に保持するためエチレンオキシド吸収塔とエチレン
オキシド放散塔とを循環する吸収液の一部をエチレンオ
キシド放散塔底部から抜き出し副としエチレングリコー
ル濃度塔へ送り、必要により新鮮な水が尋人され＄す御
される。ｐＨの調節は、たとえばカリウム、ナトリウム
のようなアルカリ金属の水酸化物や炭酸塩等の吸収液に
溶解する化合物を添加することにより行うのが好ましく
、添加剤は具体的には水酸化カリウムまたは水酸化ナト
リウムが好ましい。

消泡剤は、エチレンオキシド、ａｊ生エチレングリコー
ル等に不活性であり、吸収液の消泡効果をｆｉするもの
であればいかなる消泡剤でも使用でき、代表的な例とし
ては水溶性シリコンエマルション　　。

が吸収液への分散性、希釈安定性、熱安定性が優れてい
るので効果的である。

エチレンオキシド吸収塔の操作条件は、反応生成ガス中
のエチレンオキシド濃度が０．５〜５容ｔ１１％、好ま
しくは１．０〜４容艶％であり、エチレンオキシド吸収
塔の操作圧は２〜４　Ｑ　Ｋｇ／　ａｉ　Ｇ、好ましく
は１０〜３０　Ｋｇ　／　ｃＩｉＧである。エチレンオ
キシド放ｒｌｉ塔の操作条件は、エチレンオキシド放散
塔頂圧力０　、　１〜２　Ｋｇ　／　ｃｉ　Ｇ、好まし
くは０゜３〜０．６句／　ｃｉ　Ｇ、エチレンオキシド
放散塔頂温度８５〜１２０℃、エヂレンオキシド放散塔
底温度１００〜１５０℃、エチレンオキシド放散塔底エ
チレンオキシド濃度はｌ０ＤＩ）ＩＩＩ以下、好ましく
は０．５ｐｐｍ以下である。

本発明の第１の特徴はエチレンオキシド放散塔底部より
出る液をエチレンオキシド放散塔底部の圧力より低い圧
力で操作されるフラッシュタンクへ導入し、低圧蒸気を
発生させる。この蒸気の発生は吸熱的であり溶液の温度
の低下をもたらす効果がある。発生した水蒸気は、電気
駆動の遠心式圧縮機またはスクリュウ式圧縮機あるいは
往復動式圧縮機により昇圧され、エチレンオキシド放散
塔底部の気相部へ供給されエチレンオキシド放散塔の加
熱源の一部となり、エチレンオキシド放散塔の加熱ぬの
水蒸気の削減を持たらす。さらに低圧蒸気を発生した残
部の液はエチレンオキシド吸収塔底部からの液と熱交換
され熱回収される。

一方、エチレンオキシド吸収塔底液は低圧蒸気を発生し
たエチレンオキシド放散塔底液の残部と熱交換された後
、フラッシュタンクにて軽質弁ガスを分離した後、エチ
レンオキシド放散塔頂部へ供給されてエチレンオキシド
は放散される。本発明においてエチレンオキシド放散塔
頂部より放散されるものは、大部分がエチレンオキシド
および水、少部分が二酸化炭素および微６１の酸素、エ
チレン、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン
）、ホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデ
ヒドおよび酢Ｖ等の高沸点不純物からなる放散物である
。

本発明の他の特徴覧よ、エチレンオキシド放散塔底部よ
り抜き出した液が有する熱エネルギーを回収し、その回
収熱エネルギーの有効利用を計ることである。

その手段として、エチレンオキシド放散塔底部より出る
液をエチレンオキシド放散塔底部の圧力より低い圧力で
操作されるフラッシュタンクへ導入し、低圧蒸気を発生
させる。この蒸気の発生は吸熱的であり溶液の温度の低
下をもたらす効果がある。発生した蒸気は、電気駆動の
遠心式圧縮機またはスクリュウ式圧縮機あるいは往復動
式圧縮機により昇圧されエチレンオキシド放散塔底部の
気相部へ供給されエチレンオキシド放散塔の加熱源の一
部となり、°エチレンオキシド放散塔の加熱源の水蒸気
の削減を持たらす。さらに低圧水蒸気を発生した残部の
液はエチレンオキシド吸収塔底部からの液と熱交換器に
より熱交換され熱回収される。

一方、エチレンオキシド吸収塔底液は低圧蒸気を発生し
たエチレンオキシド放散塔底液の残部と熱交換された後
、フラッシュタンクにて軽質弁ガスを分離した後、エチ
レンオキシド放散塔頂部へ供給されてエチレンオキシド
は放散される。本発明においてエチレンオキシド放散塔
より放散されるものは、大部分がエチレンオキシドおよ
び水、少部分が二酸化炭素および微１■の酸素、エチレ
ン、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、
ホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒド
および酢酸等の高沸点不純物からなる放散物である。

また、熱回収されたエチレンオキシド放散塔底液は、さ
らに熱エネルギーを有しているため、エチレンオキシド
精留塔の加熱源として利用され、エチレンオキシド精留
塔加熱源の水蒸気の削減をもたらす。一方エヂレンオキ
シド放散塔頂より放散される放散物も熱エネルギーを有
しているためエチレンオキシド精留塔加熱源として利用
することができ、エチレンオキシド精留塔加熱源の水蒸
気の削減をもたらす。

本発明においてエチレンオキシド脱水塔へ供給される供
給蒸気の温度は５〜６０℃、好ましくは１０〜５０℃で
あり、供給蒸気のエチレンオキシド濃度は８０〜９８手
昂％の範囲である。

エチレンオキシド脱水塔の操作条件は、脱水塔頂点１［
力０〜２　ＫＦｉ　／　ｃｔｉ　Ｇ、好ましくは０．３
〜０゜６８９　／　ｃｉ　Ｇ、脱水ＲＳ　Ｗｓ　Ｑ度１
０〜４０℃、脱水塔底温度１００〜１３０℃の範囲であ
る。脱水船底エチレンオキシド濃度は１００ｐｐＩ！１
以下、好ましくはｌ０ＣＤＩ以下の範囲である。

本発明において軽質弁分離塔へ供給される供給液の温度
は０〜５０℃、好ましくは５〜３０℃であり、供給液の
組成は大部分がエチレンオキシドで、わずかのホルムア
ルデヒド等のアルデヒド類及び水を含んでいる。

軽質分分離塔の操作条件は、軟質分分離塔頂圧力１〜１
０Ｋｇ／ｃｄＧ好ましくは３〜７８９　／　ｃｉ　Ｇの
範囲である。

ＩＩｆ質分分離塔頂温度３０〜９０℃、軽質分分離塔底
温度３０〜９０℃の範囲である。

軽質分分離塔底エチレンオキシド濃度は９９．５虫堡％
以上、好ましくは９９．９５車量％以上の範囲である。

本発明においてエチレンオキシド精留塔は棚段塔型式お
よび充填塔型式がある。

棚段塔型式の蒸留塔のａ段としては種々あるがバブルキ
ャップトレイ、ユニフラックストレイ、ターボグリッド
トレイ、リップトレイ、フレキシトレイ、シープトレイ
、パラストトレイ等が挙げられる。また、充填塔型式の
精留塔の充填物としては、ラシヒリング、ボールリング
、サドル型リング、スパイラルリング、マクマホンバッ
キング、インターロックスメタルバッキング、−論理段
数あたり１０ｍｍ１−１ａ以下の圧力損失を布する充填
物、織物または編物構造の金網積ＦＪ仮等が挙げられる
。

本発明においてエチレンオキシド精留塔および軽質分分
離塔は一理論段数あたり２０ｍｍＨｇ以下、好ましくは
１５顛Ｈ（＋以下の圧力損失を有する棚段塔形式および
一理論段数あたり１０ｍＨ（］以下、好ましくは８５ｔ
ｙｓ　Ｈ（＋以下の圧力損失を有する充填塔形式が好ま
しい。

本発明においてエチレンオキシド精留塔へ供給される供
給液の温度は３０〜９０℃、好ましくは５０〜７０℃で
あり、供給液の組成はエチレンオキシド濃度が９９．５
重量％以上、好ましく（ま９９．９５重量％以上の範囲
に制御される。

エチレンオキシドの精留塔の操作条件は、精留塔頂圧力
１　、０〜８　、０　Ｋ９　／　ｃｉ　Ｇ、好ましくは
１゜２〜５．０に９／ｃｉＧ、精留塔Ｔｌｉ温度２９〜
８１℃、精留塔底温度３５〜８５℃、精留塔底エチレン
オキシド濃度は３０〜９０重品％、好ましくは４０〜８
０１聞％の範囲である。

本発明において、エチレンオキシド精密塔底液はアセト
アルデヒド、水および酢酸等の高沸点不純物からなる重
質分である。

したがって前記特徴は、エチレンを銀触媒の存在下、分
子状Ｍｆｆｉ含有ガスと接触気相酸化して生成したエチ
レンオキシドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシ
ド吸収塔へ導入し吸収液と向流接触させ、エチレンオキ
シド吸収塔偵部よりのガスの一部はエチレン酸化反応工
程へ循環し、エチレンオキシドを含むエチレンオキシド
吸収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エチレ
ンオキシド放散塔Ｆｔ部からエチレンオキシドを放ｒｌ
！せしめ、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出した
液の一部は熱交換器にてエチレンオキシド吸収塔底部と
熱交換した復、冷却器にて冷却した後、エチレンオキシ
ド吸収塔へ導き吸収液として循環使用し、残部はその液
に含まれるエチレングリコールを濃縮づるため副生エチ
レングリコール濃縮塔へ送る工程において、エチレンオ
キシド放＠、塔頂部より放散する蒸気が有する熱エルネ
ギ−を回収し、その回収熱エネルギーの有効利用を計る
ことである。その手段として、エチレンオキシド放散塔
頂部より放＠する蒸気をエチレンオキシド精留塔の加熱
器に送り、熱交換し放散物を液化し、凝縮した液はエチ
レンオキシド放散塔へ還流し、未凝縮ガスは脱水塔へ供
給する方法が採用されろ。

さらにエチレンオキシド放散塔底部より抜き出した液は
エチレンオキシド放散塔底部の圧力より低い圧力で操作
されるフラッシュタンクへ導入し低圧蒸気を発生させ、
電気駆動の圧縮機により昇圧されエチレンオキシド放散
塔底部の気相部へ供給し、エチレンオキシド放散塔の加
熱源の一部となり、エチレンオキシド放散塔加熱用水蒸
気の削減をもたらす。一方、低圧蒸気を発生させたエチ
レンオキシド放散塔底液はエチレンオキシド吸収塔底液
と熱交換して熱量を回収した後、エチレンオキシド放散
塔底液はエチレンオキシド精留塔の加熱器に導かれ、エ
チレンオキシド精留塔の加熱源の一部として利用され、
ついで冷ＩＪＩ水で冷却されエチレンオキシド吸収塔へ
りかれる。

一方、エチレンオキシド吸収塔底液はエヂレンオキシド
放ｒｌｉ塔底部よりの液と熱交換された後、フラッシュ
タンクにて軽質弁ガスを分離した慢、エチレンオキシド
放散塔頂部へ供給されてエチレンオキシドは放散される
。本発明においてエチレンオキシド放散塔より放散され
るものは、大部分が水、エチレンオキシド、受部分が二
酸化炭素、＠量の酸素、エチレン、不活性ガス（窒素、
アルゴン、メタン、エタン）、ホルムアルデヒド等の低
沸点不純物、アセトアルデヒドおよび酢ＭＷの高沸点不
純物からなる放散物である。

本発明の第２の特徴は、前記第１の特徴の方法において
、フラッシュ処理後の液相部はエチレンオキシドを含む
エチレンオキシド吸収塔底液と熱交換後、エチレンオキ
シド精留塔の加熱源に使用し、ついで軽質弁分離塔の加
熱源に使用した後、冷却器にて冷却し、エチレンオキシ
ド吸収塔へ導き吸収液として循環使用することにある。

本発明の第３の特徴は、前記第１の特徴の方法において
、フラッシュ処理後の液相部はエチレンオキシドを含む
エチレンオキシド吸収塔底液と熱交換後、軽質弁分離塔
の加熱ぬに使用した後、冷却し、エチレンオキシド吸収
塔へ′４さ吸収液として循環使用することにある。

本発明の第４の特徴は、前記第１の特徴の方法において
、フラッシュ処理後の液相部はエチレンオキシドを含む
エチレンオキシド吸収塔底液と熱交換後、エチレンオキ
シド精留塔の加熱′＆および軽質弁分離塔の加熱源に使
用した後、冷却器にて冷却し、エチレンオキシド吸収塔
へ導き吸収液として循環使用することにある。本発明を
さらに詳しく述べるために図面に基づいて説明する。

第２図においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管３０１を通して、充填塔
あるいは棚段塔形式のエチレンオキシド吸収塔３０２の
下部へ供給し、導管３０３より吸収塔３０２の上部へ、
温度４０’Ｃ以下、ｐＨ＝６以上、エチレングリコール
濃度＝１〜２０重量％、消泡剤（水溶性シリコーンエマ
ルション）濃度＝１〜５００　ｐｐｍおよび残部は水か
ら成る吸収液を導入し、反応生成ガスと向流接触させ反
応生成ガス中のエチレンオキシドを吸収液に吸収させる
。ここで反応生成ガス中の９９重量％以上のエチレンオ
キシドが回収される。吸収塔３０２の塔頂より吸収しな
かったエチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素
、アルゴン、メタン、エタン）、アルデヒド、酸性物質
等のガスは導管３０４を通して炭酸ガス吸収工程および
／または酸化反応工程へ循環される。

エチレンオキシド吸収工程においてエチレンオキシドの
他、エチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、
アルゴン、メタン、エタン、）ならびにエチレン酸化反
応工程で生成したホルムアルデヒド等の低沸点不純物、
アセトアルデヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実質Ｍ
が同時に吸収される。

エチレンオキシド吸収塔３０２の塔底液を導管３０５、
熱交換器３０６へ送り放散塔底液と熱交換し温度７０〜
１１０℃に高め、導管３０７により、フラッシュタンク
３０８へ送られ、一部のエチレンオキシド、水を含む不
活性ガスの軽質弁ガスが導管３０９により分離される。

軽質弁ガスをフラッシュした残部の吸収液を導管３１０
を通して圧力０．１〜２υ／ｃＩｉ・Ｇ１温度９０〜１
２０℃のエチレンオキシド放散塔３１１の上部へ供給し
、放散塔３１１の加熱器３１２へ導管３１３を通して水
蒸気またはダウサム（米国ダウ社熱媒体商品）等の加熱
媒体を供給して、加熱するかまたは直接エチレンオキシ
ド放散塔の底部に水蒸気を導入して加熱し、エチレンオ
キシド放散塔３１１の底部よりエチレンオキシドを実質
的に含まない湿度１００〜１５０℃の放散塔底液の一部
は導管３１４および導管３１５を通してフラッシュタン
ク３８５へ供給され、エチレンオキシド放散塔底部の圧
力より低い圧力（例えば０．３〜２．０に９／　ｃｉ−
ａ　ｂＳ　、好ましくは０．５〜１　、８に９／ｃｉ・
ａｂｓ）迄圧力が下げられ低圧蒸気を発生させ、溶液の
温度の低下をもたらす。フラッシュタンク３８５で発生
した低圧蒸気は導管３８６を通して蒸気圧縮機３８７に
送られエチレンオキシド放散塔３１１の塔底圧力０．５
８ｇ／ｃｔｉ　・Ｇ〜２．４Ｎ５／ＩＪｉ−Ｇよりわず
かに高い圧力（例えば０．６〜２．５に９／ｃｎｊ−Ｇ
）まで圧縮され、導管３８６ａによりエチレンオキシド
族１ＩｉＲ５３１１の底部の気相部に送入される。

フラッシュタンク３８５でフラッシュした残部の液は導
管３１６ａを通して熱交換器３０６で、エチレンオキシ
ドを舎むエチレンオキシド吸収塔底液と熱交換後、導管
３１６ｂよりエチレンオキシド精留塔３５０の加熱器３
５８に導かれ、加熱源として使用した復、η管３１６Ｃ
より冷ＩＩ器３１７を通して、導管３２１より水、水酸
化カリウム水溶液および消泡剤（水溶性シリコーンエマ
ルション）を添加し、導管３０３を通してエチレンオキ
シド吸収塔３０２に４人することができる。

一方、エチレンを分子状酸素で酸化する酸化工程Ｊ５よ
びエチレンオキシド放散工程の間で吸収液中のエチレン
オキシドと水との加水反応で生成するａ１生エチレング
リコールおよびホルムアルデヒド等の低沸点不ｔｋ物、
アセトアルデヒドおよび酢酸等のｒＳＳ沸点不動物増加
を防ぐためエチレンオキシド放散塔３１１の塔底より導
管３１４を通して汰き出した残部の吸収液は導管３２２
を通してＡｖＩ生エチレングリコール溌縮塔に送られる
。

一方、エチレンオキシド放散塔３１１の塔頂部より放散
されるエチレンオキシドを含む放散蒸気は導管３２３を
通して、エチレンオキシド１５留塔３５０の加熱器３６
０へ送り加熱源とした後、凝縮液および未凝縮蒸気は導
管３６１を通して導管３６２　Ｊ３よび導管３６３に冷
却水が通る凝縮器３６４へ送り、凝縮液は導管３２７を
通してエチレンオキシド放散塔３１１の塔頂部へ還流し
、未凝縮蒸気は導管３２８を通して脱水塔３２９へ供給
される。

脱水塔３２９の加熱器３３０により水蒸気またはダウサ
ム（ダウ社商品）等の加熱媒体で導管３３１を通して加
熱するか、または直接脱水塔３２９の下部へ水蒸気を尋
人する加熱方式により加熱し、脱水塔３２９の塔底より
導管３３２を通して実質的にエチレンオキシドを含まな
い水が抜き出される。

脱水塔３２９の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸気
は導管３３３を通して、導管３３５および導管３３６に
冷に１水またはブラインが通る凝縮器３３４へ入り、凝
縮液の一部は３９管３３７を通して脱水塔３２９の塔頂
部へ還流し、凝縮器３３４の未凝縮蒸気は導管３３９を
通して再エチレンオキシド吸収塔（図示してない）へ供
給される。

凝縮液の他部は導管３３８を通して重質分分離塔３４０
へ供給される。重質分分離塔３４０の塔頂部より重質分
ガスを含むエチレンオキシド熱気は導管３４３を通して
凝縮器３４４へ送り、凝縮液は導管３４７を通して重質
分分離塔３４０の塔Ｉｆｊ部へ還流し、未凝縮蒸気は導
管３４８を通してエチレンオキシドを回収するため再エ
チレンオキシド吸収塔（図示してない）へ供給される。

軽質分会ｍ塔３４０（７）塔底液は導管３４９を通して
エチレンオキシド精留塔３５０へ供給される。

エチレンオキシド精留塔３５０の加熱器３６０ヘエチレ
ンオキシド放散塔３１１の塔頂部からの放散物を供給し
、エチレンオキシド精留塔３５０の加熱２Ｓ３５８に導
管３１６ｂよりエチレンオキシド族ｒｆｉ塔底液を尋人
し、加熱する方式により加熱し、エチレンオキシド精留
塔３５０の塔底温度３５〜８５℃、エチレンオキシド精
留塔底圧力１゜２〜８．２Ｋｇ／Ｃ１ｉ・Ｇで精留を行
ない、エチレンオキシド精留塔頂より塔頂温度２９〜８
１℃、塔頂部圧力１〜８８９　／　ｃｉ・Ｇのエチレン
オキシド蒸気を導管３５１を通して、エチレンオキシド
凝縮５３５２へ送り、エチレンオキシドを液化し、−部
は導管３５６を通してエチレンオキシド精留塔３５０の
塔頂部へ還流液として供給し、他部は導管３５７を通し
てニブーレンオキシド製品として夫さ出した。

エチレンオキシド精留塔３５０の塔底液はアセトアルデ
ヒドおよび酢酸等の高沸点子に物の重質分分離のため必
要により導管３６７を通して抜き出される。

第３図は、本発明の別の実施態様を示すもので、第２図
に示す方法において、エチレンオキシド精留塔４５０の
加熱器４５８に供給されて加熱源として利用されたフラ
ッシュタンク４８５からのエチレンオキシド放散塔底液
を、さらに導管４４２ａより軽質分分離塔４４０の加熱
器４４１に供給して軽質分会Ｉｉｌ塔４４０の加熱源と
して利用し、ついで導管４４２ｂを経て熱交換器４１７
へ戻した以外は同様な方法である。なお、第２図におけ
る符号に１００をプラスした符号は第３図において同一
の部材を表わす。

第４図は、本発明のさらに別の実施態様を示すもので、
第２図に示覆一方法において、フラッシュタンク５８５
でフラッシュして得られる液を熱交換器５０６を通した
のち、軽質分分離塔５４０の加熱源として使用した場合
であり、例えば加熱器５４１に導管５１６ｂより９人し
て利用したのち、導管５１６Ｃにより熱交換器５１７へ
送られる。

なお、第３図における符号に１００をプラスした符号は
第４図において同一の部材を表わす。

第５図は、本発明の他の実施態様を示すもので、第４図
に示す方法において、フラッシュタンク６８５でフラッ
シュして得られる液を熱交換器６０６を通したのち、エ
チレンオキシド精留塔６５０および軽質分分離塔６４０
の両方の加熱源として使用した場合であり、例えば導管
６１６Ｃを経て加熱器６５８、また導管６４２ａを経て
加熱器６４１に供給され、ついでいずれも導管６１６ｅ
を経て熱交換器６１７へ送られる。なＪ３、第４図にお
ける符号に１００をプラスした符号は第５図において同
一の部材を表わす。

（実　施　例）以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明づ−る。

しかし本発明はこの実施例のみによって本発明の範囲を
規制づるものでない。

実施例１第２図においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管３０１を通して、棚段塔
形式のエチレンオキシド吸収塔３０２の下部へ供給し、
導管３０３よりエチレンオキシド吸収塔３０２の上部へ
、温度２９゜６℃、１）Ｈ＝６、エチレングリコール濃
度−９゜０重量％、消泡剤（水溶性シリコーンエマルジ
ョン）ｆＡ度＝　３　ｐａｗおよび残部ｔま水から成る
吸収液を導入し、反応生成ガスと向流接触させ、反応生
成ガス中のエチレンオキシドを吸収液ｉ吸収させた。こ
こで反応生成ガス中の９９重量％以上のエチレンオキシ
ドが回収された。エチレンオキシド吸収塔３０２の塔頂
より吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不活
性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、アルデヒ
ド、酸性物質等の不純物塔のガスは導管３０４を通して
二酸化炭素吸収工程および／または酸化反応工程へ循環
した。

この吸収工程においてエチレンオキシドの他、エチレン
、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メ
タン、エタン、）ならびにエチレン酸化反応工程で生成
したホルムアルデヒド等の低沸点茶ＩｉＩ！物、アセト
アルデヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実質ωが同特
に吸収された。

エチレンオキシド吸収塔３０２の塔底液を導管３０５を
通して、熱交換器３０６へ送りエチレンオキシド放＠、
塔底液と熱交換し温度８２．７℃に高め、導管３０７に
より、フラッシュタンク３０８へ送り、一部エチレンオ
キシド、水を含む軽質分ガスを導管３０９により分離し
た。軽質分ガスをフラツユした残部の吸収液を導管３１
０を通して塔頂圧力゛０．４に９／ｃｉＧ、塔頂温度８
７℃のエチレンオキシド吸収塔３１１の上部へ供給し、
エチレンオキシド放散塔３１１の加熱器３１２へ導管３
１３を通して加熱用水蒸気を供給する加熱方式によりエ
チレンオキシドはエチレンオキシド放散塔頂部より放散
した。

一方、エチレンオキシド放散塔３１１の塔底より導管３
１４を通して抜き出した残部の吸収液は導管３２２を通
して副生エチレングリコール′ＩＡ縮塔に送った。

エチレンオキシド放散塔３１１の底部より実質的にエチ
ンオキシドを含まない放散塔底液を専管３１４を通して
抜き出し、その一部はＷ？ｆｆ３１５を通してフラッシ
ュタンク３８５へ供給し、０、３５に３／ｃｒｉ−Ｇの
圧力まで圧力が下げられて低圧蒸気を発生させ、溶液の
温度の低下をもたらした。フラッシュタンク３８５で発
生した低圧蒸気は導管３８６を通して蒸気圧縮機３８７
に送られエチレンオキシド放散塔３１１の塔底圧力０゜
５に５／ｃｉ・Ｇよりわずかに高い圧力０．６に’ｉ／
ｃｉ・Ｇ迄１１縮され導＠　３８６　ａによりエチレン
オキシド放散塔３１１の底部の気相部に導入した。フラ
ッシュタンク３８５でフラッシュした残部の液は￥！４
管３１６ａを通して熱交換器３０６によりエチレンオキ
シドを含むエチレンオキシド吸収塔底液と熱交換後、導
管３１６ｂによりエチレンオキシド精留塔の加熱器３５
８に導かれエチレンオキシド精留塔の加熱源に使用した
後、専管３１６Ｃより冷ｆＪ器３１７を通して、導管３
２１より水、水酸化カリウム水溶液および消泡剤（水溶
性シリコーンエマルション）を添加し、導管３０３を通
してエチレンオキシド吸収塔３０２に導入した。

一方、エチレンオキシド族ｍＪ？ｌ３１１の塔１＋Ｉ　
ＮＳより放散されるエチレンオキシドを含む放散蒸気ｋ
Ｌ導管３２３を通して、エチレンオキシド精留塔“　３
５０の加熱Ｚ３６０へ送り加熱源とした後、凝縮液及び
未凝縮蒸気は導管３６１を通して導管３６２および導管
３６３に冷却水が通る凝縮器３６４へ送り、凝縮液は導
管３２７を通してエチレンオキシド放散塔３１１の塔頂
部へ還流し、未遷縮蒸気は導管３２８を通して脱水塔３
２９へ供給した。

脱水塔３２９の加熱器３３０に導管３３１により水蒸気
を導入する加熱方式により加熱し、脱水塔３２９の塔底
より導管３３２を通して実業′ｉ的にエチレンオキシド
を含まない水を扱さ一部した。

脱水塔３２９の塔頂部よりエチレンオキシドを含む蒸気
は専管３３３を通して、η管３３５および導管３３６に
ブラインが通る凝縮器３３４・＼送り、凝縮液の一部は
導管３３７を通して脱水塔３２９の塔頂部へ還流し、凝
縮器３３４の未凝縮蒸気は導管３３９を通して再エチレ
ンＡキシド吸収塔（図示してない）へ供給した。凝縮液
の他部は専管３３８を通して一理論段数あたり５　ｍ　
Ｈｇ以下の圧力損失を有するボールリングを充填した充
填塔型式の軽質分分離塔３４０へ供給した。軽質分分離
塔３４０の塔頂部より軽質分ガスを含むエチレンオキシ
ド蒸気は導管３４３を通して凝縮器３４４へ送り、凝縮
液は導管３４７を通して軽質分分離塔３４０の塔頂部へ
還流し、未凝縮蒸気は導管３４８を通してエチレンオキ
シドを回収するため再エヂレンオキシド吸収塔（図示し
てない）へ供給した。軽質分分離塔３４０の塔底液は導
管３４９を通して一理論段数あたり５　ｍ　ＨＱ以下の
圧力損失を有するボールリングを充填した充ｆｉｌ型式
のエチレンオキシド精留塔３５０へ供給した。

エチレンオキシド精留塔３５０の加熱器３６０へ、エチ
レンオキシド放ｒＩｉ塔３１１の塔頂部からの放散物を
供給し、エチレンオキシド精留塔３５０の加熱器３５８
に専管３１６ｂを通してエチレンオキシド放散塔底液を
導入し、加熱する方式により加熱し、エチレンオキシド
精留塔３５０の塔底温度４５℃、エチレンオキシド精留
塔底圧力２．０ｔＪ　／　ｃｉ　Ｇで精密を行ない、エ
チレンオキシド精留塔頂より塔頂温度３９℃、塔頂部圧
力１．Ｅ１４Ｆ／ｃｉ　Ｇのエチレンオキシド蒸気をど
）管３５１を通して、エチレンオキシド凝縮各３５２へ
送り、エチレンオキシドを液化し、一部は導管３５６を
通してエチレンオキシド精留塔３５０の塔頂部へ還流液
として供給し、＠部は専管３５７を通して工ｆレンオキ
シド製品として抜き出した。

エチレンオキシド精留塔凝縮器３５２の未纂縮蒸気Ｇｊ
ｌ管３５５を通してエチレンオキシドを回収するため再
エヂレンオキシド吸収塔（図示してない）へ供給した。

エチレンオキシド精留塔３５０の塔底液はアセトアルデ
ヒドおよび酢酸等の高沸点不純物の分離のため必要によ
り導管３６７を通して抜き出された。

表−１にこのプロセスの連続操作条件を一括して表示す
る。

実施例２第３図に示すように実施例１と同様な方法において、−
理論段数あたり２０　ｍｔｎ　ト１　ｇ以下の圧力損失
を為するパラストトレイを備えた棚段塔型式のｖｉ質分
分分画４４０およびエチレンオキシド精留塔４５０を用
い、エチレンオキシド放散塔底液は熱交換器４０６によ
りエチレンオキシド吸収塔４０２からの吸収液と熱交換
したのち導管４１６ｂおよび４１６Ｃを経てエチレンオ
キシド精留塔４５０の加熱器４５８に供給してエチレン
オキシド精留塔４５０内の液を加熱し、ついで導管４４
２ａを経て軽質分分謎塔４４０の加熱器４４１に供給し
て軽質分分離塔４４０の液を加熱し、さらに導管４４２
ｂを経て冷却器４１７に送り、エチレンオキシド吸収塔
４０２に循環した以外ｔユ同様な方法を行なった。表−
２にこのプロセスの連続条件を一括して表示する。

実施例３第４図に示すように、実施例１と同様な方・法において
、エチレンオキシド放散塔底液は熱交換器５０６により
エチレンオキシド吸収Ｌ’Ｓ　５０２からの液と熱交換
したのち導管５１６ｂを経て軽質分分離塔５４０の加熱
３５４１に供給して加熱源として使用し、ついで導管５
１６Ｃを経て冷却器５１７に送って冷却し、さらに導管
５２０および５０３を経てエチレンオキシド吸収塔５０
２に循環した以外は同様な方法を行なった。表−３にこ
のプロセスの連続条件を一括して表示する。

実施例４〜９第５図に示すように、実施例１と同様な方法において、
エチレンオキシド放散塔底液はフラッシュタンク６８５
にて、低圧蒸気をフラッシュ後熱交換器６０６によりエ
チレンオキシド吸収塔６０２からの液と熱交換したのち
、導管６１６Ｃおよび６４２ａを経てエチレンオキシド
精留塔６５０の加熱器６５８および軽質分分離塔６４０
の加熱器６４１にそれぞれ並列的に供給して加熱源とし
て使用し、ついで導管６１６ｄおよび６４２ｂを経て導
管６１６ｅにより熱交換器６１７に送って冷却し、さら
に導管６２０および６０３を経てエチレンオキシド吸収
塔６０２に循環した以外は同様な方法を行なった。また
、第５図に示すような方法で各部の操作条件を変えた以
外は同様の方法を行ったプｕ　ｔスの連続条件を表−４
〜９に一括して表示する。

比較例１第１図に示すように、実施例１と同様な方法において、
ｌヂレンオキシド放散塔１１の塔頂部より放散されるエ
チレン第１シトを含む放＠蒸気は導管２３を通し〔、￥
）管２５よ３よび導管２６に冷却水が通る凝縮器２４へ
送り、凝縮液は導管２７を通してエチレンオキシド吸収
！５１１の塔頂部へ遠流し、未凝縮蒸気は導管２８を通
して脱水塔へ供給され、また、エチレンオキシド放散塔
１１の塔底液をフラッシュ処理することなく、その一部
を熱交換器６にてエチレンオキシド吸収塔底からの液と
熱交換した後、さらに熱交換器１７で冷１４１し、つい
でエチレンオキシド吸収塔２に循環してその吸収液とし
て使用した以外は同様な方法を行なった。表−１０にこ
のプロセスの連続条件を一括して表示する。

（発明の効果）本発明の方法によれば、エチレンオキシド放散塔底液を
フラッシュするときに発生した蒸気がフラッシュドラム
から分離され、圧縮手段によりエチレンオキシド放散塔
底部の圧力より少し高い圧力に圧縮されエチレンオキシ
ド放散塔底部に導入寸ろことにより、エチレンオキシド
吸収塔を加熱するに要する加熱熱量を大幅に減少するこ
とが可能となる効果を発揮するものである。また、エチ
レンオキシド放散塔底液をフラッシュさせた後の波とエ
チレンオキシド吸収塔底液とを熱交換後、エチレンオキ
シド放散塔底液をエチレンオキシド精留塔及び軽質分分
離塔の加熱源として利用することにより、エチレンオキ
シド精留塔及び軽買分分離塔の省エネル１′−とも達成
できる。また、エヂレンオ卑シト敢ｍ塔迫蒸気をエチレ
ンオキシド精留塔の力Ｕ熱源とすることにより、エチレ
ンオキシド精留塔の省エネルギーとも達成できる。さら
にこの方法を実施ツることによってエチレンオキシド吸
収塔に送る吸収液を冷却する冷却水の熱負荷及び、エチ
レンオキシド放散塔頂蒸気の凝縮器に通ずる冷却水の熱
負荷が低減される効果を発揮するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に関連する公知のエチレンキシド回収
方法を示す一例である。第２〜５図は、本発明のエチレンオキシド回収方法の好
ましい具体例を示す一例である。（３０２）　　エチレンオキシド吸収塔（３１７）　　
冷却器（３０８）　　フラッシュタンク（３１１）　　エチレンオキシド放散塔（３１２＞　　
エチレンオキシド放散塔加熱器（３２９）　　脱水塔（３３０）　　脱水塔加熱器（３３４）　　脱水塔凝縮器（３４０）　　軽質分分離塔（３４１）　　４Ｉｆ質分分離塔加熱器（３４，１）　
　軽質分分離塔凝縮器（３５０）　　エチレンオキシド精留塔（３５２）　　
エチレンオキシド精留塔凝縮器（３５８）　　エチレン
オキシド精留塔加熱器（３６０）　　エチレンオキシド
精留塔加熱器＜３８４）　　エチレンオキシド成数基凝
縮器（３０６）　　熱交換器（３８７）　　蒸気圧縮機

Claims

【特許請求の範囲】

（１）エチレンを分子状酸素含有ガスと接触気相酸化し
て生成したエチレンオキシドを含有する反応生成ガスを
エチレンオキシド吸収塔へ導入し吸収液と向流接触させ
、吸収塔頂部よりのガスの一部はエチレン酸化反応工程
へ循環し、エチレンオキシドを含む吸収塔底液はエチレ
ンオキシド放散塔へ供給し、放散塔頂部からエチレンオ
キシドを放散せしめ、放散塔底部より抜き出した液は吸
収塔へ導き吸収液として循環使用する工程よりなるエチ
レンオキシドの回収方法において、エチレンオキシド放
散塔底部より抜き出した液をフラッシュ処理して気相部
と液相部に分離し、気相部は圧縮してエチレンオキシド
放散塔底部へ導入し、液相部はエチレンオキシドを含む
エチレンオキシド吸収塔底液と熱交換し、エチレンオキ
シド精留塔の加熱源および／または軽質分分離塔の加熱
源とした後、吸収塔の吸収液とすることを特徴とするエ
チレンオキシドの回収方法。
（２）液相部はエチレンオキシドを含むエチレンオキシ
ド吸収塔底液と熱交換後、エチレンオキシド精留塔の加
熱源に使用し、ついで冷却器により冷却後エチレンオキ
シド吸収塔へ導き吸収液として循環使用してなる特許請
求の範囲第１項記載の方法。
（３）エチレンオキシド精留塔は一理論段数あたり２０
ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する棚段塔型式の精留塔で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法
。
（４）エチレンオキシド精留塔は一理論段数あたり１０
ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する充填塔型式の精留塔で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法
。
（５）液相部はエチレンオキシドを含むエチレンオキシ
ド吸収塔底液と熱交換後エチレンオキシド精留塔の加熱
源に使用し、ついで軽質分分離塔の加熱源に使用したの
ち、冷却器にて冷却後エチレンオキシド吸収塔へ導き吸
収塔液として循環使用してなる特許請求の範囲第１項記
載の方法。
（６）エチレンオキシド精留塔は一理論段数あたり２０
ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する棚段塔型式の精留塔で
あることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の方法
。
（７）エチレンオキシド精留塔は一理論段数あたり１０
ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する充填塔型式の精留塔で
あることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の方法
。
（８）エチレンオキシド軟質分分離塔は一理論段数あた
り２０ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する棚段塔型式の分
離塔であることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載
の方法。
（９）エチレンオキシド軟質分分離塔は一理論段数あた
り１０ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する充填塔型式の分
離塔であることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載
の方法。
（１０）エチレンオキシド放散塔頂から放散される放散
物をエチレンオキシド精留塔の加熱源に使用することを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。
（１１）液相部はエチレンオキシドを含むエチレンオキ
シド吸収液と熱交換後、軟質分分離塔の加熱源に使用し
たのち、エチレンオキシド吸収塔へ導き吸収液として循
環使用する特許請求の範囲第１項記載の方法。
（１２）エチレンオキシド軟質分分離塔は一理論段数あ
たり２０ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する棚段塔型式の
分離塔であることを特徴とする特許請求の範囲第１０項
記載のエチレンオキシドの精製方法。
（１３）エチレンオキシド軟質分分離塔は一理論段数あ
たり１０ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する充填塔型式の
分離塔であることを特徴とする特許請求の範囲第１０項
記載のエチレンオキシドの精製方法。
（１４）液相部はエチレンオキシドを含むエチレンオキ
シド吸収液と熱交換後、エチレンオキシド精留塔および
軒質分分離塔の加熱源として使用したのち、冷却器にて
冷却後エチレンオキシド吸収塔へ導き吸収液として循環
使用する特許請求の範囲第１項記載の方法。
（１５）エチレンオキシド精留塔は一理論段数あたり２
０ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する棚段塔型式の精留塔
であることを特徴とする特許請求の範囲第１４項記載の
方法。
（１６）エチレンオキシド精留塔は一理論段数あたり１
０ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する充填塔型式の精留塔
であることを特徴とする特許請求の範囲第１４項記載の
方法。
（１７）エチレンオキシド軟質分分離塔は一理論段数あ
たり２０ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する棚段塔型式の
分離塔であることを特徴とする特許請求の範囲第１４項
記載の方法。
（１８）エチレンオキシド軟質分分離塔は一理論段数あ
たり１０ｍｍＨｇ以下の圧力損失を有する充填塔型式の
分離塔であることを特徴とする特許請求の範囲第１４項
記載の方法。
（１９）エチレンオキシド放散塔頂から放散される放散
物をエチレンオキシド精留塔の加熱源に使用することを
特徴とする特許請求の範囲第１４項記載の方法。