JPS59130517A - 酸性ガスを含む高温生成ガスの処理方法 - Google Patents
酸性ガスを含む高温生成ガスの処理方法Info
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- JPS59130517A JPS59130517A JP58004883A JP488383A JPS59130517A JP S59130517 A JPS59130517 A JP S59130517A JP 58004883 A JP58004883 A JP 58004883A JP 488383 A JP488383 A JP 488383A JP S59130517 A JPS59130517 A JP S59130517A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガス製造装置のガス発生工程から得られる炭酸
ガスや硫化水素等の酸性ガスを含む高温生成ガスを省エ
ネルギー的に処理する方法に関するものである。
ガスや硫化水素等の酸性ガスを含む高温生成ガスを省エ
ネルギー的に処理する方法に関するものである。
水素や、アンモニア合成ガス等のガス製造装置等では、
数千〜数万ｐｐｍの炭酸ガスや硫化水素等の酸性ガスや
、微量の水素、及び−酸化炭素を含む凝縮水力＼゛多量
排出される。この凝縮水は、脱ガスやその他の処理がな
され、装置へ循環使用されるが、通常脱ガスにはスチー
ムストリッピングが行なわれている。ストリッピングス
チームの熱量の大部分は、塔頂凝縮器で冷却されるか、
大気へ放出されており、熱の有効利用が図られていない
。
数千〜数万ｐｐｍの炭酸ガスや硫化水素等の酸性ガスや
、微量の水素、及び−酸化炭素を含む凝縮水力＼゛多量
排出される。この凝縮水は、脱ガスやその他の処理がな
され、装置へ循環使用されるが、通常脱ガスにはスチー
ムストリッピングが行なわれている。ストリッピングス
チームの熱量の大部分は、塔頂凝縮器で冷却されるか、
大気へ放出されており、熱の有効利用が図られていない
。
本発明は、このストリッピングスチームの熱量を有効に
利用するだめ、脱酸性ガス工程とストリッピング工程と
を特別の形態で組合せて低圧蒸気を多重効用することに
より、脱ガス用のストリッピングスチームを削減するこ
とを目的とした省エネルギー型高温生成ガスの処理方法
に関するものである。
利用するだめ、脱酸性ガス工程とストリッピング工程と
を特別の形態で組合せて低圧蒸気を多重効用することに
より、脱ガス用のストリッピングスチームを削減するこ
とを目的とした省エネルギー型高温生成ガスの処理方法
に関するものである。
第１図は、ガス製造装置のガス発生工程から得られる酸
性ガスを含む高温生成ガスの処理に関する一般的な説明
図である。即ち、水素ガスやアンモニア合成ガス、その
他の各種合成ガスの製造を目的としたガス製造装置のガ
ス発生工程から得られる酸性ガス（例えば、ＣＯ２，Ｈ
２Ｓ等）を含む高温生成ガスの一般的処理では、先ず冷
却工程で所要温度まで冷却される。この冷却工程には、
高温生成ガスからの熱エネルギーの回収を目的としだ熱
交換や、高温生成ガスを冷却させると同時に精製する精
製工程が含まれる。この冷却工程では、場合によっては
、例えば冷却処理方式や冷却処理条件等によっては、酸
性ガスを含む凝縮水が生じる場合がある。
性ガスを含む高温生成ガスの処理に関する一般的な説明
図である。即ち、水素ガスやアンモニア合成ガス、その
他の各種合成ガスの製造を目的としたガス製造装置のガ
ス発生工程から得られる酸性ガス（例えば、ＣＯ２，Ｈ
２Ｓ等）を含む高温生成ガスの一般的処理では、先ず冷
却工程で所要温度まで冷却される。この冷却工程には、
高温生成ガスからの熱エネルギーの回収を目的としだ熱
交換や、高温生成ガスを冷却させると同時に精製する精
製工程が含まれる。この冷却工程では、場合によっては
、例えば冷却処理方式や冷却処理条件等によっては、酸
性ガスを含む凝縮水が生じる場合がある。
冷却された酸性ガスを含む生成ガスは、脱酸性ガス工程
へ送られる。この脱酸性ガス工程は、酸性ガスを含む生
成ガスを酸性ガス吸収液によって吸収処理する工程と、
酸性ガスを吸収した吸収液を加熱して吸収液から酸性ガ
スを放出させ、吸収液を再生処理する工程とから構成さ
れる。この吸収液による酸性ガスの吸収工程及び酸性ガ
スを吸収した吸収液の加熱による再生工程は、いずれも
よく知られており、例えば次のような反応が含まれる。
へ送られる。この脱酸性ガス工程は、酸性ガスを含む生
成ガスを酸性ガス吸収液によって吸収処理する工程と、
酸性ガスを吸収した吸収液を加熱して吸収液から酸性ガ
スを放出させ、吸収液を再生処理する工程とから構成さ
れる。この吸収液による酸性ガスの吸収工程及び酸性ガ
スを吸収した吸収液の加熱による再生工程は、いずれも
よく知られており、例えば次のような反応が含まれる。
（１）熱炭酸カリ法
（ａ） Ｃ０２＋に２Ｃ０３＋１（２０４２ＫＨＣ！
０３（ｂ） Ｈ２Ｓ＋に２Ｃ０３＋Ｈ２０ｇＫＨＯＯ
ａ＋Ｋ１−１ｓ（２） ＭＥＡ （モノエタノールア
ミン）法（ａ） ２ ＨＯＣ２Ｈ４ＮＨ２＋ ＣＯ２
＋ Ｈ２Ｏ４（ｉ（ＯＣ２Ｈ４ＮＨ３）２００３ （１−１０ｃ２Ｈ４ＮＨ３）２００３＋ ００２＋ Ｈ
２Ｏ４２（ＨＯＯ２Ｈ４ＮＨ３）・ＨＣＯ２（ｂ）
２ＨＯＣｚＨ４ＮＨ２＋Ｈ２Ｓｊ（ＨＯＯ２Ｈ４ＮＨ３
）２８（ＨＯ０２Ｈ４，ＮＦＩ３ ）２ Ｓ ＋Ｈｚ
Ｓ １２ （ＨＯＣ２■Ｉ４ ＮＨ３）・ｆ（Ｓ脱酸性
ガス工程から得られる生成ガスは、必要に応じ、最終精
製工程で処理された後、生成ガスとして種々の目的に利
用される。
０３（ｂ） Ｈ２Ｓ＋に２Ｃ０３＋Ｈ２０ｇＫＨＯＯ
ａ＋Ｋ１−１ｓ（２） ＭＥＡ （モノエタノールア
ミン）法（ａ） ２ ＨＯＣ２Ｈ４ＮＨ２＋ ＣＯ２
＋ Ｈ２Ｏ４（ｉ（ＯＣ２Ｈ４ＮＨ３）２００３ （１−１０ｃ２Ｈ４ＮＨ３）２００３＋ ００２＋ Ｈ
２Ｏ４２（ＨＯＯ２Ｈ４ＮＨ３）・ＨＣＯ２（ｂ）
２ＨＯＣｚＨ４ＮＨ２＋Ｈ２Ｓｊ（ＨＯＯ２Ｈ４ＮＨ３
）２８（ＨＯ０２Ｈ４，ＮＦＩ３ ）２ Ｓ ＋Ｈｚ
Ｓ １２ （ＨＯＣ２■Ｉ４ ＮＨ３）・ｆ（Ｓ脱酸性
ガス工程から得られる生成ガスは、必要に応じ、最終精
製工程で処理された後、生成ガスとして種々の目的に利
用される。
脱ガス工程（ストリッピング工程）では、酸性ガスを含
む凝縮水からその酸性ガスをストリッピングすることに
より凝縮水が回収される。この場合の酸性ガスを含む凝
縮水の発生源は、ガス発生工程からの高温生成ガスの種
類やその具体的処理システム等によって異なるが、一般
的には、冷却工程又は脱酸性ガス工程あるいはその両者
の工程において生じる。この脱ガス工程からは、酸性ガ
スの除去された凝縮水が回収される。
む凝縮水からその酸性ガスをストリッピングすることに
より凝縮水が回収される。この場合の酸性ガスを含む凝
縮水の発生源は、ガス発生工程からの高温生成ガスの種
類やその具体的処理システム等によって異なるが、一般
的には、冷却工程又は脱酸性ガス工程あるいはその両者
の工程において生じる。この脱ガス工程からは、酸性ガ
スの除去された凝縮水が回収される。
第２図は、従来法における脱酸性ガス工程Ａと脱ガス工
程Ｂとの結合方式を示す説明図である。
程Ｂとの結合方式を示す説明図である。
即ち、酸性ガスを含む生成ガスは、ライン１を通って脱
酸性ガス工程Ａに送られ、また外部からの吸収液再生用
低圧蒸気がライン４及び５を通って脱酸性ガス工程ＡＫ
送られる。そして、脱酸性ガス工程Ａにおいては、前記
した酸性ガス吸収反応と吸収液の再生反応が行われ、精
製ガスはライン９から抜出され、酸性ガスはライン２０
から抜出される。この場合、吸収液の再生に必要な熱源
としては、通常、前記したライン１から供給される生成
ガスとライン４及び５を通って供給される外部低圧蒸気
が採用される。
酸性ガス工程Ａに送られ、また外部からの吸収液再生用
低圧蒸気がライン４及び５を通って脱酸性ガス工程ＡＫ
送られる。そして、脱酸性ガス工程Ａにおいては、前記
した酸性ガス吸収反応と吸収液の再生反応が行われ、精
製ガスはライン９から抜出され、酸性ガスはライン２０
から抜出される。この場合、吸収液の再生に必要な熱源
としては、通常、前記したライン１から供給される生成
ガスとライン４及び５を通って供給される外部低圧蒸気
が採用される。
次に、前記酸性ガス吸収工程と吸収液の再生工程につい
てさらに詳しく述べると、酸性ガス吸収工程は、再生さ
れた吸収液を吸収塔に循環することにより実施され、吸
収液の再生工程は、酸性ガスを吸収した吸収液を再生塔
に送り、加熱することにより実施される。未だ十分な熱
殴を保有する生成ガスは先ず再生塔の再沸器に導入され
る。また外部からの低圧水蒸気は再生塔に付設された別
の再沸器に導入されるか又は直接再生塔に導入される。
てさらに詳しく述べると、酸性ガス吸収工程は、再生さ
れた吸収液を吸収塔に循環することにより実施され、吸
収液の再生工程は、酸性ガスを吸収した吸収液を再生塔
に送り、加熱することにより実施される。未だ十分な熱
殴を保有する生成ガスは先ず再生塔の再沸器に導入され
る。また外部からの低圧水蒸気は再生塔に付設された別
の再沸器に導入されるか又は直接再生塔に導入される。
このようにして再生塔に対し、吸収液の再生に必要な熱
が加えられる。再生塔の再沸器からは凝縮水を含む生成
ガスが抜出されるが、このものは気液分離工程で処理さ
れた後、酸性ガスを含む生成ガスは吸収塔に送られ、一
方、酸性ガスを含む凝縮水は次の脱ガス工程Ｂへ送られ
る。壕だ、再生塔の塔頂においては、塔頂ガスは冷却さ
れ、凝縮液分離器で酸性ガスと凝縮液とに分離され、酸
性ガスはライン２０から抜出され、凝縮水は再生塔に返
還されるが、場合によっては、その一部は脱ガス工程Ｂ
へ送られる。吸収塔においては、酸性ガスを含む生成ガ
スと吸収液との接触により、酸性ガスの吸収が行われ、
吸収塔の塔頂からライン９を通って精製ガスが抜出され
ると共に、酸性ガスを吸収した吸収液は再生塔へ送られ
る。なお、再生塔に対する熱の供給方式は前記以外にも
種々の方式があるが、いずれにしても従来の場合は、生
成ガスの保有する熱及び外部からの低圧蒸気は再生塔の
熱源としてのみ利用されている。
が加えられる。再生塔の再沸器からは凝縮水を含む生成
ガスが抜出されるが、このものは気液分離工程で処理さ
れた後、酸性ガスを含む生成ガスは吸収塔に送られ、一
方、酸性ガスを含む凝縮水は次の脱ガス工程Ｂへ送られ
る。壕だ、再生塔の塔頂においては、塔頂ガスは冷却さ
れ、凝縮液分離器で酸性ガスと凝縮液とに分離され、酸
性ガスはライン２０から抜出され、凝縮水は再生塔に返
還されるが、場合によっては、その一部は脱ガス工程Ｂ
へ送られる。吸収塔においては、酸性ガスを含む生成ガ
スと吸収液との接触により、酸性ガスの吸収が行われ、
吸収塔の塔頂からライン９を通って精製ガスが抜出され
ると共に、酸性ガスを吸収した吸収液は再生塔へ送られ
る。なお、再生塔に対する熱の供給方式は前記以外にも
種々の方式があるが、いずれにしても従来の場合は、生
成ガスの保有する熱及び外部からの低圧蒸気は再生塔の
熱源としてのみ利用されている。
再び第２図において、脱酸性ガス工程Ａにおいて生成し
た酸性ガスを含む凝縮水はライン８を通って脱ガス工程
Ｂへ送られ、また脱酸性ガス工程Ａ以外の工程、例えば
高温生成ガスの冷却工程や精製工程で生じた酸性ガスを
含む凝縮水はライン７を通って脱ガス工程Ｂへ送られる
。この脱ガス工程は、ストリッピング塔２２から構成さ
れる。
た酸性ガスを含む凝縮水はライン８を通って脱ガス工程
Ｂへ送られ、また脱酸性ガス工程Ａ以外の工程、例えば
高温生成ガスの冷却工程や精製工程で生じた酸性ガスを
含む凝縮水はライン７を通って脱ガス工程Ｂへ送られる
。この脱ガス工程は、ストリッピング塔２２から構成さ
れる。
このストリッピング塔２２には、ライン４及びライン６
を通って外部からのスｌ−’Ｊツピング用の低圧蒸気が
送られ、ここで凝縮水に溶解する酸性ガスのストリッピ
ングが行われる。このストリッピング塔２２においては
、塔頂ガスは塔頂凝縮器２３で凝縮された後、受液槽２
４に入り、凝縮水は還流液ポンプ２５及びライン１１を
通ってス） ＩＪツピング塔に循環され、ガス成分はラ
イン１０を通って抜出される。ストリッピング塔の底部
からは、酸性ガスの脱離された凝縮水が凝縮水冷却器２
６及び凝縮水ポンプ２７を通ってライン１２から回収さ
れる。なお、ストリッピング塔に供給される低圧蒸気は
、ストリッピング塔に直接導入する代りに、ストリッピ
ング塔に付設した再沸器に供給し、ストリッピング塔を
加熱することもできる。
を通って外部からのスｌ−’Ｊツピング用の低圧蒸気が
送られ、ここで凝縮水に溶解する酸性ガスのストリッピ
ングが行われる。このストリッピング塔２２においては
、塔頂ガスは塔頂凝縮器２３で凝縮された後、受液槽２
４に入り、凝縮水は還流液ポンプ２５及びライン１１を
通ってス） ＩＪツピング塔に循環され、ガス成分はラ
イン１０を通って抜出される。ストリッピング塔の底部
からは、酸性ガスの脱離された凝縮水が凝縮水冷却器２
６及び凝縮水ポンプ２７を通ってライン１２から回収さ
れる。なお、ストリッピング塔に供給される低圧蒸気は
、ストリッピング塔に直接導入する代りに、ストリッピ
ング塔に付設した再沸器に供給し、ストリッピング塔を
加熱することもできる。
ストリッピング塔において、ライン６を通って供給され
る低圧蒸気は、その供給温度条件や回収凝縮水の規定性
状等によって異なるが、通常、ストリッピング塔に供給
される酸性ガスを含む凝縮水の１０〜２０％程度が必要
とされる。そして、この低圧蒸気の熱の大部分は、塔頂
凝縮器２３において廃熱として放出されている。
る低圧蒸気は、その供給温度条件や回収凝縮水の規定性
状等によって異なるが、通常、ストリッピング塔に供給
される酸性ガスを含む凝縮水の１０〜２０％程度が必要
とされる。そして、この低圧蒸気の熱の大部分は、塔頂
凝縮器２３において廃熱として放出されている。
前記のように、従来は、脱酸性ガス工程へと脱ガス工程
Ｂとの結合には特別の工夫はなされず、脱ガス工程Ｂに
おいては、熱の損失が生じていた。
Ｂとの結合には特別の工夫はなされず、脱ガス工程Ｂに
おいては、熱の損失が生じていた。
本発明は、このような従来法とは異なり、脱酸性ガス工
程へと脱ガス工程Ｂとの結合に特別の工夫を加えること
により、脱ガス工程Ｂで生じていた熱の損失を回避させ
ると共に、前記で示したようなストリッピング塔の頂部
に付設されていた塔頂凝縮器２３、受液槽２４及び還流
液ポンプ２５を一挙に省略させ得る方法を提供するもの
である。
程へと脱ガス工程Ｂとの結合に特別の工夫を加えること
により、脱ガス工程Ｂで生じていた熱の損失を回避させ
ると共に、前記で示したようなストリッピング塔の頂部
に付設されていた塔頂凝縮器２３、受液槽２４及び還流
液ポンプ２５を一挙に省略させ得る方法を提供するもの
である。
即ち、本発明によれば、ガス製造装置 ｔｖ カ、Ｘ
発生工程から得られる酸性ガスを含む高温生成ガスを、 （イ）該高温生成ガスを冷却し、所要温度まで冷却され
た酸性ガスを含む生成ガス及び場合によって酸性ガスを
含む凝縮水を生成する工程、（ロ）生成ガスに含まれる
酸性ガスを酸性ガス吸収液によって吸収する工程と、酸
性ガスを吸収した吸収液を加熱して吸収液から酸性ガス
を放出させ、吸収液を再生する工程とからなる脱酸性ガ
ス工程、 （ハ） 前記工程（イ）及び／又は工程（ロ）で生成さ
れた酸性ガスを含む凝縮水を加熱して酸性ガスをストリ
ッピングする脱ガス工程、 によって処理することからなり、該脱ガス工程（ハ）か
ら得られたストリッピング生成ガスを凝縮させることな
く脱酸性ガス工程（ロ）に循環させ、吸収液再生に必要
とされる熱の一部として利用すると共に、脱酸性ガス工
程（ロ）においてのみ酸性ガスを放出させることを特徴
とする酸性ガスを含む高温生成ガスの処理方法が提供さ
れる。
発生工程から得られる酸性ガスを含む高温生成ガスを、 （イ）該高温生成ガスを冷却し、所要温度まで冷却され
た酸性ガスを含む生成ガス及び場合によって酸性ガスを
含む凝縮水を生成する工程、（ロ）生成ガスに含まれる
酸性ガスを酸性ガス吸収液によって吸収する工程と、酸
性ガスを吸収した吸収液を加熱して吸収液から酸性ガス
を放出させ、吸収液を再生する工程とからなる脱酸性ガ
ス工程、 （ハ） 前記工程（イ）及び／又は工程（ロ）で生成さ
れた酸性ガスを含む凝縮水を加熱して酸性ガスをストリ
ッピングする脱ガス工程、 によって処理することからなり、該脱ガス工程（ハ）か
ら得られたストリッピング生成ガスを凝縮させることな
く脱酸性ガス工程（ロ）に循環させ、吸収液再生に必要
とされる熱の一部として利用すると共に、脱酸性ガス工
程（ロ）においてのみ酸性ガスを放出させることを特徴
とする酸性ガスを含む高温生成ガスの処理方法が提供さ
れる。
次に、本発明全第３図により説明する。第３図において
、Ａは脱酸性ガス工程を示し、その内容は従来法で採用
されている脱酸性ガス工程とほぼ同じであるが、吸収液
再生用熱の与え方においては、脱ガス工程Ｂで生じたス
トリッピング生成ガスの保有熱を用いる点で工夫がなさ
れている。Ｂは脱ガス工程を示し、ストリッピング塔２
２から構成される。このストリッピング塔２２は、本発
明の場合は、従来の場合とは異なり、塔頂凝縮器、受液
槽、還流液ボン等のストリッピング生成ガス処理装置は
省略される。ストリッピング塔２２は、通常、できるだ
け低圧で運転するのが重重しいが、本発明では、ストリ
ッピング生成ガスを脱酸性ガス工程Ａに循環する関係で
、従来法より１〜２に７／Ｃｍ２程度高い圧力で運転さ
れる。
、Ａは脱酸性ガス工程を示し、その内容は従来法で採用
されている脱酸性ガス工程とほぼ同じであるが、吸収液
再生用熱の与え方においては、脱ガス工程Ｂで生じたス
トリッピング生成ガスの保有熱を用いる点で工夫がなさ
れている。Ｂは脱ガス工程を示し、ストリッピング塔２
２から構成される。このストリッピング塔２２は、本発
明の場合は、従来の場合とは異なり、塔頂凝縮器、受液
槽、還流液ボン等のストリッピング生成ガス処理装置は
省略される。ストリッピング塔２２は、通常、できるだ
け低圧で運転するのが重重しいが、本発明では、ストリ
ッピング生成ガスを脱酸性ガス工程Ａに循環する関係で
、従来法より１〜２に７／Ｃｍ２程度高い圧力で運転さ
れる。
本発明においては、ストリッピング塔２２の塔頂から得
られるストリッピング生成ガスは、従来の方法とは異な
り、凝縮処理されずにそのま−ま脱酸性ガス工程へに循
環され、再生塔に導入される。
られるストリッピング生成ガスは、従来の方法とは異な
り、凝縮処理されずにそのま−ま脱酸性ガス工程へに循
環され、再生塔に導入される。
このストリッピング生成ガスの循環によって、従来廃熱
として放出されていたストリッピング生成ガスの保有す
る熱は有効利用され、処理系全体の熱エネルギーの使用
効率は改善される。そして、本発明の場合は、ストリッ
ピング生成ガス中に含まれる酸性ガスは、吸収液から放
出された酸性ガスと共に再生塔の頂部から抜出され、ラ
イン２゜を辿って放出される。
として放出されていたストリッピング生成ガスの保有す
る熱は有効利用され、処理系全体の熱エネルギーの使用
効率は改善される。そして、本発明の場合は、ストリッ
ピング生成ガス中に含まれる酸性ガスは、吸収液から放
出された酸性ガスと共に再生塔の頂部から抜出され、ラ
イン２゜を辿って放出される。
ス］・リッピング塔２２に供給される熱源としては、通
常、ライン４から工程Ａへ供給される外部低圧蒸気の一
部が利用され、ライン６を通ってストリッピング塔に供
給されるが、この場合、外部低圧蒸気量が不足の場合に
は、工程Ａに供給される生成ガスの保有熱の一部をスト
リッピング塔の熱源として利用することができる。即ち
、生成ガスを、再生塔の再沸器に入れる前に、低圧蒸気
発生器に導いてここでストリッピング塔に必要な低圧蒸
気を発生させ、この低圧蒸気をライン１３を通ってスト
リッピング塔に供給する。ストリッピング塔に対する低
圧蒸気の供給方式としては、低圧蒸気を直接塔内へ供給
する方式又は低圧蒸気をストリッピング塔の再沸器へ供
給する方式があり、本発明の場合は、いずれの方式も採
用される。なお、生成ガスの保有熱を利用して低圧水蒸
気を発生させる場合、蒸気発生用供給水としては、Ｈｚ
イラー供給水の他、酸性ガスを含む凝縮水を用いること
ができるが、凝縮水を用いる場合には、ストリッピング
塔に供給される凝縮水が減少されるので有利である。
常、ライン４から工程Ａへ供給される外部低圧蒸気の一
部が利用され、ライン６を通ってストリッピング塔に供
給されるが、この場合、外部低圧蒸気量が不足の場合に
は、工程Ａに供給される生成ガスの保有熱の一部をスト
リッピング塔の熱源として利用することができる。即ち
、生成ガスを、再生塔の再沸器に入れる前に、低圧蒸気
発生器に導いてここでストリッピング塔に必要な低圧蒸
気を発生させ、この低圧蒸気をライン１３を通ってスト
リッピング塔に供給する。ストリッピング塔に対する低
圧蒸気の供給方式としては、低圧蒸気を直接塔内へ供給
する方式又は低圧蒸気をストリッピング塔の再沸器へ供
給する方式があり、本発明の場合は、いずれの方式も採
用される。なお、生成ガスの保有熱を利用して低圧水蒸
気を発生させる場合、蒸気発生用供給水としては、Ｈｚ
イラー供給水の他、酸性ガスを含む凝縮水を用いること
ができるが、凝縮水を用いる場合には、ストリッピング
塔に供給される凝縮水が減少されるので有利である。
また、本発明においては、ス） ＩＪッピング塔２２を
加熱する場合、前記した低圧水蒸気をストリッピング塔
に供給するのに代えて、生成ガスを、直接ストリッピン
グ塔に付設しだ再沸器内に導入し、ストリッピング塔に
熱を与えた後、再生塔の再沸器に導入して再生塔を加熱
することもできる。
加熱する場合、前記した低圧水蒸気をストリッピング塔
に供給するのに代えて、生成ガスを、直接ストリッピン
グ塔に付設しだ再沸器内に導入し、ストリッピング塔に
熱を与えた後、再生塔の再沸器に導入して再生塔を加熱
することもできる。
本発明の方法は、従来実施されている装置に対し、本発
明の特徴に従って、幾分の装置上の変更を施して実施す
ることができるので、その実用性は極めて高い。
明の特徴に従って、幾分の装置上の変更を施して実施す
ることができるので、その実用性は極めて高い。
次に、通常のアンモニア合成ガス製造装置から得られる
高温生成ガスの処理に関して、第４図を参照しながら本
発明を説明する。ライン１から導入される生成ガスの性
状は次の通りである。
高温生成ガスの処理に関して、第４図を参照しながら本
発明を説明する。ライン１から導入される生成ガスの性
状は次の通りである。
第１表
（生成ガスの性状）
温度 ： 約２３０℃
ガス組成
ｃｏ２ １８．９ ］３．２Ｈ２’
５９．９ ４１．７Ｎ２ ２０
．４ １４．２その他 ０．８
０．６ Ｈ２０−３０，３ 生成ガスはライン１から、低圧蒸気発生器２１を通って
再生塔３９に付設された再沸器３７に導入される。低圧
蒸気発生器２１で発生する低圧蒸気（圧力３．３Ｋｑ／
ｃｍ２、温度１５０℃）はライン３を通り、ライン４か
らの外部低圧蒸気と共に、ライン６を通ってストリッピ
ング塔２２に供給される。
５９．９ ４１．７Ｎ２ ２０
．４ １４．２その他 ０．８
０．６ Ｈ２０−３０，３ 生成ガスはライン１から、低圧蒸気発生器２１を通って
再生塔３９に付設された再沸器３７に導入される。低圧
蒸気発生器２１で発生する低圧蒸気（圧力３．３Ｋｑ／
ｃｍ２、温度１５０℃）はライン３を通り、ライン４か
らの外部低圧蒸気と共に、ライン６を通ってストリッピ
ング塔２２に供給される。
再生塔３９は、その再沸器３７に導入される生成ガスと
、ストリッピング塔２２の塔頂からライン１０を通って
返還されるストリッピング生成ガスとによって加熱され
、この加熱により、吸収液の再生反応が行われる（２Ｋ
ＨＣＯ３→に２００３＋ Ｃ！０２＋ １−（２０）。
、ストリッピング塔２２の塔頂からライン１０を通って
返還されるストリッピング生成ガスとによって加熱され
、この加熱により、吸収液の再生反応が行われる（２Ｋ
ＨＣＯ３→に２００３＋ Ｃ！０２＋ １−（２０）。
この再生反応により吸収液から脱離された炭酸ガスは、
蒸気と共に再生塔の頂部からライン４２により抜出され
、塔頂凝縮器４３を通って凝縮液分離器４４に送られ、
未凝縮の炭酸ガスはライン２０から系外へ放出され、凝
縮液は還流ポンプ４５により再生塔３９に還流されるが
、その一部はライン３５及びライン３６を通って低圧蒸
気発生器２１に送られ、蒸気発生用供給水として用いら
れる。
蒸気と共に再生塔の頂部からライン４２により抜出され
、塔頂凝縮器４３を通って凝縮液分離器４４に送られ、
未凝縮の炭酸ガスはライン２０から系外へ放出され、凝
縮液は還流ポンプ４５により再生塔３９に還流されるが
、その一部はライン３５及びライン３６を通って低圧蒸
気発生器２１に送られ、蒸気発生用供給水として用いら
れる。
寸だ水バランス上余剰の凝縮水は、ライン８を通ってス
トリッピング塔２２に導ひかれ処理される。
トリッピング塔２２に導ひかれ処理される。
再生塔３９で再生された吸収液は、その塔底から抜出さ
れ、ポンプ４０及びライン４１を通り、その一部は空気
冷却器４７で冷却された後吸収塔５０の頂部へ導入され
、残部はライン４８を辿って吸収塔の上部に導入される
。また、この吸収塔５０の下部には、再生塔３９の再沸
器３７からの炭酸ガスを含む気液混合物（温度１３０℃
）が熱回収器５２を通った後凝縮液分離器３２で処理し
て得られる水素ガス、窒素ガス及び炭酸ガスを含むガス
分がライン３３を通って導入される。そしてこの吸収塔
５０においては、導入ガスと吸収剤溶液との接触により
、ガス中に含１れる炭酸ガスが吸収剤に吸収される（Ｃ
Ｏｚ＋に２Ｃ０３＋Ｈ２０→２ＫＩ（００３）。
れ、ポンプ４０及びライン４１を通り、その一部は空気
冷却器４７で冷却された後吸収塔５０の頂部へ導入され
、残部はライン４８を辿って吸収塔の上部に導入される
。また、この吸収塔５０の下部には、再生塔３９の再沸
器３７からの炭酸ガスを含む気液混合物（温度１３０℃
）が熱回収器５２を通った後凝縮液分離器３２で処理し
て得られる水素ガス、窒素ガス及び炭酸ガスを含むガス
分がライン３３を通って導入される。そしてこの吸収塔
５０においては、導入ガスと吸収剤溶液との接触により
、ガス中に含１れる炭酸ガスが吸収剤に吸収される（Ｃ
Ｏｚ＋に２Ｃ０３＋Ｈ２０→２ＫＩ（００３）。
炭酸ガスを吸収した吸収液は、吸収塔５０の底部からラ
イン４９を通って再生塔３９に導入される。
イン４９を通って再生塔３９に導入される。
吸収塔５０の頂部からは精製ガスがライン９により抜出
される。
される。
凝縮液分離器３２から得られる炭酸ガスを含む凝縮水及
び凝縮液分離器４４から得られる炭酸ガスを含む凝縮水
の１部はそれぞれライン７及びライン８を通ってスｌ−
ＩＪツピング塔２２に供給される。このストリッピング
塔２２では、凝縮７ｋからの炭酸ガスのストリッピング
が行われ、炭酸ガスと蒸気を含むストリッピング生成ガ
ス（温度１３０℃）はライン１０及びライン３８を通っ
て再生塔３９に導入れる。ストリッピング塔の底部から
は、炭酸ガスのストリッピングされた凝縮水が冷却器２
６、ポンプ２７及びライン１２を通って回収される。
び凝縮液分離器４４から得られる炭酸ガスを含む凝縮水
の１部はそれぞれライン７及びライン８を通ってスｌ−
ＩＪツピング塔２２に供給される。このストリッピング
塔２２では、凝縮７ｋからの炭酸ガスのストリッピング
が行われ、炭酸ガスと蒸気を含むストリッピング生成ガ
ス（温度１３０℃）はライン１０及びライン３８を通っ
て再生塔３９に導入れる。ストリッピング塔の底部から
は、炭酸ガスのストリッピングされた凝縮水が冷却器２
６、ポンプ２７及びライン１２を通って回収される。
前記のようにしてアンモニア合成ガス製造装置から得ら
れる凝縮水を処理する場合、ストリッピング塔２２は、
従来の場合よりも幾分高い圧力、通常、１〜４にり／ｃ
ｍ”Ｇで運転される。ストリッピング塔２２に供給され
る熱量は、ライン４及びライン３を通る蒸気の熟成と、
再沸器３７へ導入される生成ガスの保有熱量との比率を
変えることにより調節することができる。
れる凝縮水を処理する場合、ストリッピング塔２２は、
従来の場合よりも幾分高い圧力、通常、１〜４にり／ｃ
ｍ”Ｇで運転される。ストリッピング塔２２に供給され
る熱量は、ライン４及びライン３を通る蒸気の熟成と、
再沸器３７へ導入される生成ガスの保有熱量との比率を
変えることにより調節することができる。
次に、第４図に示されたアンモニア合成ガス製造装置か
ら得られる炭酸ガスを含む生成ガスの処理結果の１例を
第５図に示される従来法と比較して第２表に示す。
ら得られる炭酸ガスを含む生成ガスの処理結果の１例を
第５図に示される従来法と比較して第２表に示す。
第２表
本発明の場合、ライン４を通って外部から受は入れる低
圧蒸気量は、４０５０ Ｋ９／ ｈｒであるのに対し、
従来法の場合、１１５５０ｈ／ｈｒであり、本発明によ
り７５００ Ｋｇ、／ ｈｒの蒸気量が節約されたこと
になる。
圧蒸気量は、４０５０ Ｋ９／ ｈｒであるのに対し、
従来法の場合、１１５５０ｈ／ｈｒであり、本発明によ
り７５００ Ｋｇ、／ ｈｒの蒸気量が節約されたこと
になる。
また、装置面よりみると、本発明法におけるストリッピ
ング塔２２は、従来法における場合よりも若干高い圧力
で運転されるので、ストリッピングスチーム量も幾分多
くなるが、圧力と量の相殺効果により、ストリッピング
塔の規模は略同じである。なお、本発明法の場合のスト
リッピングスチーム計の大部分は、低圧蒸気発生器２１
で発生する蒸気が利用され、前記で示したように、ライ
ン４からの外部蒸気は少量となっている。また、本発明
の場合は、第５図において示したような従来必要とされ
ていた塔頂凝縮器２３、受液槽２４、還流液ポンプ２５
等は一切不要となり、才だストリッピング塔２２の運転
圧によっては、ポンプ２７も不要となり、ストリッピン
グ塔設備費は大幅に低減される。しかも、脱酸性ガス工
程（では実質上何らの影響を及トチさない。
ング塔２２は、従来法における場合よりも若干高い圧力
で運転されるので、ストリッピングスチーム量も幾分多
くなるが、圧力と量の相殺効果により、ストリッピング
塔の規模は略同じである。なお、本発明法の場合のスト
リッピングスチーム計の大部分は、低圧蒸気発生器２１
で発生する蒸気が利用され、前記で示したように、ライ
ン４からの外部蒸気は少量となっている。また、本発明
の場合は、第５図において示したような従来必要とされ
ていた塔頂凝縮器２３、受液槽２４、還流液ポンプ２５
等は一切不要となり、才だストリッピング塔２２の運転
圧によっては、ポンプ２７も不要となり、ストリッピン
グ塔設備費は大幅に低減される。しかも、脱酸性ガス工
程（では実質上何らの影響を及トチさない。
第１図はガス発生工程から得られる酸性ガスを含む高温
生成ガスの処理に関する一般的説明図、第２図及び第３
図は、脱酸性ガス工程と脱ガス工程との結合方式を示す
説明図であり、第２図は従来法及び第３図は本発明法に
関するものである。 第４図及び第５図は、アンモニア合成ガスを処理する場
合の工程説明図であり、第４図は本発明法、第５図は従
来法により処理する場合の工程説明図である。 １・・・生成ガスライン、３・発生低圧蒸気ライン、４
・・・外部低圧蒸気ライン、６・・・ストリッピング用
低圧蒸気ライン、７，８・・・凝縮水ライン、９・・精
製ガスライン、１０・・・ストリッピング生成ガスライ
ン、２０・・酸性ガスライン、２１・・・低圧蒸気発生
器、２２・・・ストリッピング塔、３９・・・再生塔、
５０・・・吸収塔、Ａ・・脱酸性ガス工程、Ｂ・・・脱
ガス工程。 特許出願人 千代田化工建設株式会社 代理人 弁理士 池 浦 敏 明
生成ガスの処理に関する一般的説明図、第２図及び第３
図は、脱酸性ガス工程と脱ガス工程との結合方式を示す
説明図であり、第２図は従来法及び第３図は本発明法に
関するものである。 第４図及び第５図は、アンモニア合成ガスを処理する場
合の工程説明図であり、第４図は本発明法、第５図は従
来法により処理する場合の工程説明図である。 １・・・生成ガスライン、３・発生低圧蒸気ライン、４
・・・外部低圧蒸気ライン、６・・・ストリッピング用
低圧蒸気ライン、７，８・・・凝縮水ライン、９・・精
製ガスライン、１０・・・ストリッピング生成ガスライ
ン、２０・・酸性ガスライン、２１・・・低圧蒸気発生
器、２２・・・ストリッピング塔、３９・・・再生塔、
５０・・・吸収塔、Ａ・・脱酸性ガス工程、Ｂ・・・脱
ガス工程。 特許出願人 千代田化工建設株式会社 代理人 弁理士 池 浦 敏 明
Claims (1)
- （１） ガス製造装置のガス発生工程から得られる酸
性ガスを含む高温生成ガスを、 （イ）該高温生成ガスを冷却し、所要温度まで冷却され
た酸性ガスを含む生成ガス及び場合によって酸性ガスを
含む凝縮水を生成する工程、（ロ） 生成ガスに含まれ
る酸性ガスを酸性ガス吸収液によって吸収する工程と、
酸性ガスを吸収した吸収液を加熱して吸収液から酸性ガ
スを放出させ、吸収液を再生する工程とからなる脱酸性
ガス工程、 （ハ）前記工程（イ）及び／又は工程（０）で生成され
た酸性ガスを含む凝縮水を加熱して酸性ガスをストリッ
ピングする脱ガス工程、 によって処理することからなり、該脱ガス工程（ハ）か
ら得られたストリッピング生成ガスを凝縮させることな
く脱酸性ガス工程（ロ）に循環させ、吸収液再生に必要
とされる熱の一部として利用すると共に、脱酸性ガス工
程（ロ）においてのみ酸性ガスを放出させることを特徴
とする酸性ガスを含む高温生成ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58004883A JPS59130517A (ja) | 1983-01-14 | 1983-01-14 | 酸性ガスを含む高温生成ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58004883A JPS59130517A (ja) | 1983-01-14 | 1983-01-14 | 酸性ガスを含む高温生成ガスの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59130517A true JPS59130517A (ja) | 1984-07-27 |
| JPS6159166B2 JPS6159166B2 (ja) | 1986-12-15 |
Family
ID=11596072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58004883A Granted JPS59130517A (ja) | 1983-01-14 | 1983-01-14 | 酸性ガスを含む高温生成ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59130517A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61293529A (ja) * | 1985-06-24 | 1986-12-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ベントガス処理方法 |
| CN104722176A (zh) * | 2013-12-23 | 2015-06-24 | 林德股份公司 | 气体洗涤装置的操作方法和气体洗涤装置 |
| WO2024171649A1 (ja) * | 2023-02-14 | 2024-08-22 | 株式会社神戸製鋼所 | ガス処理方法及びガス処理装置 |
-
1983
- 1983-01-14 JP JP58004883A patent/JPS59130517A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61293529A (ja) * | 1985-06-24 | 1986-12-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ベントガス処理方法 |
| CN104722176A (zh) * | 2013-12-23 | 2015-06-24 | 林德股份公司 | 气体洗涤装置的操作方法和气体洗涤装置 |
| WO2024171649A1 (ja) * | 2023-02-14 | 2024-08-22 | 株式会社神戸製鋼所 | ガス処理方法及びガス処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6159166B2 (ja) | 1986-12-15 |
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