JPS63170937U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS63170937U JPS63170937U JP6131087U JP6131087U JPS63170937U JP S63170937 U JPS63170937 U JP S63170937U JP 6131087 U JP6131087 U JP 6131087U JP 6131087 U JP6131087 U JP 6131087U JP S63170937 U JPS63170937 U JP S63170937U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction vessel
- electrode
- electrodes
- current detector
- grounded
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第1図はこの考案によるプラズマ処理装置の一
実施例を示す断面図、第2図は従来のプラズマ処
理装置を示す断面図である。 図において、1は高周波電源、2は反応容器、
3は上部電極、4は下部電極、5はウエーハ、6
はプラズマ、7は電流検出器である。尚、図中、
同一符号は同一又は相当部分を示す。
実施例を示す断面図、第2図は従来のプラズマ処
理装置を示す断面図である。 図において、1は高周波電源、2は反応容器、
3は上部電極、4は下部電極、5はウエーハ、6
はプラズマ、7は電流検出器である。尚、図中、
同一符号は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 反応容器内の高周波電源に接続された一方の電
極とこの反応容器と共に接地されている他方の電
極の2つの電極間にプラズマを発生させ、電極上
に置かれたウエーハにエツチング等を施すプラズ
マ処理装置において、上記反応容器と上記2つの
電極のうちの反応容器と共に接地された方の電極
との間に電流検出器を設け、上記反応容器と接地
された電極間とで分配される電流をそれぞれ求め
るようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6131087U JPS63170937U (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6131087U JPS63170937U (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63170937U true JPS63170937U (ja) | 1988-11-07 |
Family
ID=30894529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6131087U Pending JPS63170937U (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63170937U (ja) |
-
1987
- 1987-04-24 JP JP6131087U patent/JPS63170937U/ja active Pending