JPS63170378A - (1r)−1−置換カルバペネム−3−カルボン酸誘導体 - Google Patents
(1r)−1−置換カルバペネム−3−カルボン酸誘導体Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は(I R)i−1換カルバペネム−3−カルボ
ン酸誘導体に関し、より詳細には、カルバペネム系抗生
物質として有用な、1位にヘテロ原子置換分を導入した
新規な(1R)−1−オキシ置換カルバペネム−3−カ
ルボン酸誘導体に関する。
ン酸誘導体に関し、より詳細には、カルバペネム系抗生
物質として有用な、1位にヘテロ原子置換分を導入した
新規な(1R)−1−オキシ置換カルバペネム−3−カ
ルボン酸誘導体に関する。
(従米の技術とその問題点)
従来、種々の抗菌活性を目的として次式Aで代表される
カルバー2−ベネム−2号−カルボン酸を基本骨格とす
るカルバペネム系抗生物質が提案されており、例えば置
換基をもたない化合物(基本骨格自体)[ツヤ−ナル・
オン・アンチバイオティックス(J 、antibio
tics)35 (6)、653(1982)、JAC
8100(25)、8006(1978)等参照]、2
位に置換基を有する化合物[テトラヘドロン拳しターズ
(Tetrahedron Letters)λ」−
12013(19’78)等参照J、 6位に置換基を
有する化合物[J AC8100(25)、8004(
1978)等参照1.2位及び6位に置換基を有するチ
ェナマイシン系の化合物[特開昭53−87390号、
特開昭58−32879号等参照]等の多数の化合物が
提供されている。これら化合物はいずれもあるる程度の
抗菌活性を有しているが、基本的にはカルバペネム骨格
の1位には何の置換基をもたない化合物である。
カルバー2−ベネム−2号−カルボン酸を基本骨格とす
るカルバペネム系抗生物質が提案されており、例えば置
換基をもたない化合物(基本骨格自体)[ツヤ−ナル・
オン・アンチバイオティックス(J 、antibio
tics)35 (6)、653(1982)、JAC
8100(25)、8006(1978)等参照]、2
位に置換基を有する化合物[テトラヘドロン拳しターズ
(Tetrahedron Letters)λ」−
12013(19’78)等参照J、 6位に置換基を
有する化合物[J AC8100(25)、8004(
1978)等参照1.2位及び6位に置換基を有するチ
ェナマイシン系の化合物[特開昭53−87390号、
特開昭58−32879号等参照]等の多数の化合物が
提供されている。これら化合物はいずれもあるる程度の
抗菌活性を有しているが、基本的にはカルバペネム骨格
の1位には何の置換基をもたない化合物である。
一方、1位に置換基を有する化合物として、1位にアル
キル基、シクロアルキル基、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、シアノ基等の置換基を1〜2個有する化合物
が報告されている(特開昭55−69586号、59−
130884号、59−51286号、57−9398
1号、59−84887号公報等参照)。これらのうち
で、例えば1位にβ−配置のメチル基を有する(1R,
5S、6 S )−2−(2−N 、N−ジメチルアミ
ノ−2−イミノエチルチオ)−6−1(I R)−1−
ヒドロキシエチル1−1−メチルカルバ−2−ベネム−
3−カルボン酸は、カルバペネム系抗生物質に共通の弱
点である腎デヒドロペプチダーゼによる分解不活性化に
対する抵抗性が着しく改善された優れた抗生物質として
知られている[ヘテロサイクルズ(Heterocyc
les)、LL(1)、29(1984)参照]。
キル基、シクロアルキル基、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、シアノ基等の置換基を1〜2個有する化合物
が報告されている(特開昭55−69586号、59−
130884号、59−51286号、57−9398
1号、59−84887号公報等参照)。これらのうち
で、例えば1位にβ−配置のメチル基を有する(1R,
5S、6 S )−2−(2−N 、N−ジメチルアミ
ノ−2−イミノエチルチオ)−6−1(I R)−1−
ヒドロキシエチル1−1−メチルカルバ−2−ベネム−
3−カルボン酸は、カルバペネム系抗生物質に共通の弱
点である腎デヒドロペプチダーゼによる分解不活性化に
対する抵抗性が着しく改善された優れた抗生物質として
知られている[ヘテロサイクルズ(Heterocyc
les)、LL(1)、29(1984)参照]。
しかしながら、1位に種々の置換基かへテロ原子を介し
て置換されたカルバペネム系抗生′I#質は優れた抗菌
活性が期待されるものの、いままで積極的には検討され
ていない未開拓の分野の化合物であり、その製造方法に
ついてもこれまであまり詳細には検討されていない。
て置換されたカルバペネム系抗生′I#質は優れた抗菌
活性が期待されるものの、いままで積極的には検討され
ていない未開拓の分野の化合物であり、その製造方法に
ついてもこれまであまり詳細には検討されていない。
最近に至り、1位に種々のへテロ原子を介して結合した
置換基を有するカルバペネム系抗生物質が提案されてい
るが(特開昭60−233077号公報参照)、該公報
には非常に包括的な化合物が一般的に開示されているの
みであって、特に本発明が目的とする1位の立体的な点
については何ら廿及されていない。また、そこに開示さ
れている製造方法を検討してみると、1位置換基の導入
は置換反応によるものであり、したがってその立体化学
に関してはα−1β−の混合物が得られるのみであり、
薬理効果が優れたものであるとされるβ−配置、すなわ
ち1R−配置の化合物を立体選択的に得る手段は何ら明
記されていない。
置換基を有するカルバペネム系抗生物質が提案されてい
るが(特開昭60−233077号公報参照)、該公報
には非常に包括的な化合物が一般的に開示されているの
みであって、特に本発明が目的とする1位の立体的な点
については何ら廿及されていない。また、そこに開示さ
れている製造方法を検討してみると、1位置換基の導入
は置換反応によるものであり、したがってその立体化学
に関してはα−1β−の混合物が得られるのみであり、
薬理効果が優れたものであるとされるβ−配置、すなわ
ち1R−配置の化合物を立体選択的に得る手段は何ら明
記されていない。
(発明の目的)
本発明の目的は、強力な抗菌作用、β−2クタマーゼ阻
害作用等が期待される上述の如き従来何ら検討されてい
なかった1位がβ−配置を有する酸素原子を介して置換
されたカルバペネム系抗生gI質、ならびにこれら化合
物、すなわちカルバペネム骨格の1位がβ−配置を有す
る化合物の立体選択的な製造方法を提供することにある
。
害作用等が期待される上述の如き従来何ら検討されてい
なかった1位がβ−配置を有する酸素原子を介して置換
されたカルバペネム系抗生gI質、ならびにこれら化合
物、すなわちカルバペネム骨格の1位がβ−配置を有す
る化合物の立体選択的な製造方法を提供することにある
。
ところで本発明者らは先に、本発明が目的とするカルバ
ペネム系抗生物質の重要な合成出発化合物となる次式■ 式中、Xはへテロ原子を表わし、RbおよびHcは有機
置換残基を表わす、 でホされる化合物、すなわちアゼチノ/ン骨格の3位な
らびに4位の置換分がそれぞれ多−の立体配置を有し、
かつ3位のヒドロキシエチル基および4位の1−置換力
ルボニルメチル基の不斉炭素がそれぞれ一尽エー配置を
有する化合物を、立体選択的に製造し得る方法を確立し
特許出願を行なっている(特願昭60−269417号
)。
ペネム系抗生物質の重要な合成出発化合物となる次式■ 式中、Xはへテロ原子を表わし、RbおよびHcは有機
置換残基を表わす、 でホされる化合物、すなわちアゼチノ/ン骨格の3位な
らびに4位の置換分がそれぞれ多−の立体配置を有し、
かつ3位のヒドロキシエチル基および4位の1−置換力
ルボニルメチル基の不斉炭素がそれぞれ一尽エー配置を
有する化合物を、立体選択的に製造し得る方法を確立し
特許出願を行なっている(特願昭60−269417号
)。
今回、本発明者らは上記式■で表わされる化合物のうち
特にXが酸素原子である化合物を出発原料として選択し
、その置換基:XR”がルー配置を保持したままの所望
の1−置換カルバペネム−3−カルボン酸誘導体を得る
合成法を検討し、その結果本発明を完成するに至ったも
のである。
特にXが酸素原子である化合物を出発原料として選択し
、その置換基:XR”がルー配置を保持したままの所望
の1−置換カルバペネム−3−カルボン酸誘導体を得る
合成法を検討し、その結果本発明を完成するに至ったも
のである。
(目的を達成するための手段)
しかして本発明によれば次式I
式中、R1は低級アルキル基またはアラルキル基を表わ
し、R2は置換アルキル基または複素環式基を表わし、
R3は水素原子またはカルボキシル保護基を表わす、 で表わされる(I R)−1−置換カルバペネム−3−
カルボン酸y;導体が提供される。
し、R2は置換アルキル基または複素環式基を表わし、
R3は水素原子またはカルボキシル保護基を表わす、 で表わされる(I R)−1−置換カルバペネム−3−
カルボン酸y;導体が提供される。
また、本発明は上記式Iで示される(I R)−1−置
換カルバベネム−3−カルボン酸誘導体の高立体選択的
な製造方法を提供するものであり、その方法は次式■ υ 式中 Fj lは低級アルキル基またはアラルキル基を
表わし、R3はカルボキシル保護基を表わす、 で示される(I R)−1−iff換−2−オキソ−カ
ルバペネム−3−カルボン酸化合物を、次式 式中、Raは脱離基、好ましくはアシル基を表わし、X
はハロゲン原子を表わす、で示されるアシル化剤または
その反応性誘導体と反応させ、次式■ 式中、R1、R3およびRaは前記定義のとおりである
、 で示される化合物となし、次いで塩基の存在下に次式 式中、R2は置換アルキル基または複素環基を表わす、 で示されるメルカプト試薬と反応させ、R’がカルボキ
シル保護基の場合は更に該保護基を除去することからな
るものである。
換カルバベネム−3−カルボン酸誘導体の高立体選択的
な製造方法を提供するものであり、その方法は次式■ υ 式中 Fj lは低級アルキル基またはアラルキル基を
表わし、R3はカルボキシル保護基を表わす、 で示される(I R)−1−iff換−2−オキソ−カ
ルバペネム−3−カルボン酸化合物を、次式 式中、Raは脱離基、好ましくはアシル基を表わし、X
はハロゲン原子を表わす、で示されるアシル化剤または
その反応性誘導体と反応させ、次式■ 式中、R1、R3およびRaは前記定義のとおりである
、 で示される化合物となし、次いで塩基の存在下に次式 式中、R2は置換アルキル基または複素環基を表わす、 で示されるメルカプト試薬と反応させ、R’がカルボキ
シル保護基の場合は更に該保護基を除去することからな
るものである。
更に、本発明によれば、前記式■で示される(1R)−
1[換−2−オキンーカルバペネム−3#)ルgン酸化
合物、ならびにその製造方法も提供され、その方法は、
次式■ 式中、R1は低級アルキル基またはアラルキル基を表わ
し、R4は水酸基の保護基を表わし、R5は水素原子、
低級アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表わ
す、で表わされるアゼチジン−2−オン誘導体を、イミ
ダゾールの存在下に、次式 %式% 式中、R3はカルボキシル保護基を表わす、で示される
マグネシウムマロネート化合物と反応させ次式V 式中、R1、R3および■t’は前記定義のとおりであ
る、 で表わされる化合物となし、次いで保護基R4を覗離し
次式■ 式中、R1およびR3は前記定義のとおりである、 で表わされる化合物とし、得られる式■の化合物を塩基
の存在下にアジド化合物で処理して次式■式中、R’お
よびR3は前記定義のとおりである、 で表わされるジアゾ化合物となし、金属触媒の存在ドに
環化反応を行なうことからなるものである。
1[換−2−オキンーカルバペネム−3#)ルgン酸化
合物、ならびにその製造方法も提供され、その方法は、
次式■ 式中、R1は低級アルキル基またはアラルキル基を表わ
し、R4は水酸基の保護基を表わし、R5は水素原子、
低級アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表わ
す、で表わされるアゼチジン−2−オン誘導体を、イミ
ダゾールの存在下に、次式 %式% 式中、R3はカルボキシル保護基を表わす、で示される
マグネシウムマロネート化合物と反応させ次式V 式中、R1、R3および■t’は前記定義のとおりであ
る、 で表わされる化合物となし、次いで保護基R4を覗離し
次式■ 式中、R1およびR3は前記定義のとおりである、 で表わされる化合物とし、得られる式■の化合物を塩基
の存在下にアジド化合物で処理して次式■式中、R’お
よびR3は前記定義のとおりである、 で表わされるジアゾ化合物となし、金属触媒の存在ドに
環化反応を行なうことからなるものである。
上記の方法を、理解容易ならしめるために反応式で示せ
ば次のようにまとめられる。
ば次のようにまとめられる。
\、〜
反応式1
上記反応式中、各置換基の定義は前記のとおりである。
注:カッコ内の符号は工程の符号を示す。
上記の反応式1で示される方法の特徴は、出発化合物と
して式■で表わされる化合物にすでに望む立体配置が保
有されたものを選択し、その立体配置を保持したまま目
的とする式Iで表わされる(I R)−1−fiffi
換カルバペネム−3−カルボン酸へ誘導する点にある6 そして、これら立体配置を保持したままでの製造方法は
従来なんら検討されていなかったものであり、したがっ
て本発明は新規な式■ならびに■で表わされる化合物を
提供するものである。
して式■で表わされる化合物にすでに望む立体配置が保
有されたものを選択し、その立体配置を保持したまま目
的とする式Iで表わされる(I R)−1−fiffi
換カルバペネム−3−カルボン酸へ誘導する点にある6 そして、これら立体配置を保持したままでの製造方法は
従来なんら検討されていなかったものであり、したがっ
て本発明は新規な式■ならびに■で表わされる化合物を
提供するものである。
(作用)
本明細書において、「低級」なる語が付された基又は化
合物の炭素原子数が7個以下、好ましくは4個以ドであ
ることを意味する。
合物の炭素原子数が7個以下、好ましくは4個以ドであ
ることを意味する。
1゛低級アルキル基」は直鎖状又は分岐鎖状のいずn’
rあってもよく、好ましくは1〜6個の炭素原子を有す
ることができ、例えばメチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、インブチル、5ee−ブチ
ル、tert−ブチル、n−ペンチル、インペンチル、
n−ヘキシル、イソヘキシル基等が包含される。
rあってもよく、好ましくは1〜6個の炭素原子を有す
ることができ、例えばメチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、インブチル、5ee−ブチ
ル、tert−ブチル、n−ペンチル、インペンチル、
n−ヘキシル、イソヘキシル基等が包含される。
また「置換アルキル基」としては上記の低級アルキル基
に種々の置換基が置換されたアルキル基を意味し、その
ような置換基としては、アミノ基;メチルアミ/、エチ
ルアミノ、プロピルアミ/等のモノアルキルアミノ基;
ツメチルアミ/、ジエチルアミノ、ノイソプロとルアミ
ノ等のノアルキルアミノ基;アセチルアミノ、ピロピオ
ニルアミノ等の7シルアミノ基;ヒドロキシメチルアミ
/、ヒドロキシエチルアミ/等のヒドロキシアルキルア
ミノ等;メトキシカルボニルメチルアミノ、メトキシカ
ルボニルエチルアミノ等のモノ(アルコキシカルボニル
アルキル)アミノ基;シ(メトキシカルボニルメチル)
アミノ、ノ(メトキシカルボニルエチル)アミノ等のノ
(アルキフシカルボニルアルキル)アミノ基;アミ/エ
チルカルボニルアミノのようなアミ/アルキルカルボニ
ルアミノトキシカルボニル、エトキシカルボニル等のア
ルコキシカルボニル基:アミソノ、イミ/、グアニゾノ
、グアニゾニウム、スルファモイル、ウレイド、アミド
、メルカプト、アルキルチオ、アリルチオ等の基を上げ
ることができる。
に種々の置換基が置換されたアルキル基を意味し、その
ような置換基としては、アミノ基;メチルアミ/、エチ
ルアミノ、プロピルアミ/等のモノアルキルアミノ基;
ツメチルアミ/、ジエチルアミノ、ノイソプロとルアミ
ノ等のノアルキルアミノ基;アセチルアミノ、ピロピオ
ニルアミノ等の7シルアミノ基;ヒドロキシメチルアミ
/、ヒドロキシエチルアミ/等のヒドロキシアルキルア
ミノ等;メトキシカルボニルメチルアミノ、メトキシカ
ルボニルエチルアミノ等のモノ(アルコキシカルボニル
アルキル)アミノ基;シ(メトキシカルボニルメチル)
アミノ、ノ(メトキシカルボニルエチル)アミノ等のノ
(アルキフシカルボニルアルキル)アミノ基;アミ/エ
チルカルボニルアミノのようなアミ/アルキルカルボニ
ルアミノトキシカルボニル、エトキシカルボニル等のア
ルコキシカルボニル基:アミソノ、イミ/、グアニゾノ
、グアニゾニウム、スルファモイル、ウレイド、アミド
、メルカプト、アルキルチオ、アリルチオ等の基を上げ
ることができる。
更に置換アルキル基としては、次に説明する「複素環式
基」で置換されたアルキル基であっても良い。
基」で置換されたアルキル基であっても良い。
また「複素環式基」はへテロ原子として酸素、窒素及1
硫黄原子の少なくとも1個を含有する芳香族あるいは脂
肪族複素環式基を意味し、例えば、フリル、フルフリル
、チェニル、モルホリノ、ビベラノノ、ピリジル、ビリ
ミノル、ピロリノニル、ピペリノル、オキサシリノニル
、チアゾリジニル、チアゾリル、オキサシリル、チアジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル等を挙げること
ができ、これらのものは前記した如くメチレン鎖を介し
て結合していても良い。更にこれら複素環式基の環炭素
原子には前述した置換基があってもよい。
硫黄原子の少なくとも1個を含有する芳香族あるいは脂
肪族複素環式基を意味し、例えば、フリル、フルフリル
、チェニル、モルホリノ、ビベラノノ、ピリジル、ビリ
ミノル、ピロリノニル、ピペリノル、オキサシリノニル
、チアゾリジニル、チアゾリル、オキサシリル、チアジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル等を挙げること
ができ、これらのものは前記した如くメチレン鎖を介し
て結合していても良い。更にこれら複素環式基の環炭素
原子には前述した置換基があってもよい。
「カルボキシル保護基」としては、例えばニスチル残基
を例示することができ、かかるエステル残基には例えば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−1
iso−1SeC−1tert−ブチル、n−ヘキシル
エステル等の低級アルキルエステル残基;ベンジル、p
−ニトロベンジル、0−ニトロベンノル、p−メトキシ
ペンシル等のアラアルキルエスジン残基;アセト斗ジメ
チル、プロピオニルオキシメチル、rr、1so−、ブ
チリルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル等の低級
11!肋族アシルオキシメチル残基が挙げられる。
を例示することができ、かかるエステル残基には例えば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−1
iso−1SeC−1tert−ブチル、n−ヘキシル
エステル等の低級アルキルエステル残基;ベンジル、p
−ニトロベンジル、0−ニトロベンノル、p−メトキシ
ペンシル等のアラアルキルエスジン残基;アセト斗ジメ
チル、プロピオニルオキシメチル、rr、1so−、ブ
チリルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル等の低級
11!肋族アシルオキシメチル残基が挙げられる。
1’717−ル基」は単環式又は多環式のいずれであっ
てもよく、さらに環上に1個もしくはそれ以上の低級ア
ルキル基を有してもよく、例えば、7エ二ル、トリル、
キシリル、α−す7チル、β−す7チル、とフェニリル
基等が包含される。
てもよく、さらに環上に1個もしくはそれ以上の低級ア
ルキル基を有してもよく、例えば、7エ二ル、トリル、
キシリル、α−す7チル、β−す7チル、とフェニリル
基等が包含される。
「アラルキル基」はアルキル基が上記低級アルキル基で
あり且つアリール基が上記の意味を有する7 17−ル
置換アルキル哉であり、具体的には、ベンノル、7エネ
チル、α−メチルベンノル、フェニルプロピル、ナフチ
ルメチル&等が例示することができる。
あり且つアリール基が上記の意味を有する7 17−ル
置換アルキル哉であり、具体的には、ベンノル、7エネ
チル、α−メチルベンノル、フェニルプロピル、ナフチ
ルメチル&等が例示することができる。
さらにR4で示される1水酸基の保護基」としては、例
えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、tert−
ブチルツメチルシリル、ジフェニル−tert−ブチル
シリル等のシリル基;ベンジルオキシカルボニル基;p
−ニトロベンジルオキシカルボニル、0−ニトロベンノ
ルオキシカルボニル基;その他通常使用される水酸基の
保護基が挙げられる。
えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、tert−
ブチルツメチルシリル、ジフェニル−tert−ブチル
シリル等のシリル基;ベンジルオキシカルボニル基;p
−ニトロベンジルオキシカルボニル、0−ニトロベンノ
ルオキシカルボニル基;その他通常使用される水酸基の
保護基が挙げられる。
したがって、本発明は式lで表わされぬる(1R)−1
−ra換カルバペネム−3−カルボン酸誘導体として、
例えば上記の置換基が適宜置換された種種の化合物を提
供するものである。
−ra換カルバペネム−3−カルボン酸誘導体として、
例えば上記の置換基が適宜置換された種種の化合物を提
供するものである。
以下に本発明の式■の化合物を製造する方法を前出の反
応式1における各工程に沿ってさらに詳細に説明する。
応式1における各工程に沿ってさらに詳細に説明する。
■1と=本工程は、先に本発明者が提案した方法(待顧
昭60−269417号)により製造される弐■で示さ
れるアゼナ誘導体2−オン溝導体を、イミダゾールの存
在下式:(R300CCH2CO−)2Mgで示される
マグネシウムマロネート化合物と反応させ、式Vで示さ
れる化合物を得る工程である。
昭60−269417号)により製造される弐■で示さ
れるアゼナ誘導体2−オン溝導体を、イミダゾールの存
在下式:(R300CCH2CO−)2Mgで示される
マグネシウムマロネート化合物と反応させ、式Vで示さ
れる化合物を得る工程である。
反応は好ましくは不活性有機溶媒中で竹なわれ、例えば
エーテル、テトラヒドロ7ラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒;トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭
化水素系溶媒ニジクロルメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒;アセトニトリル等などを挙げる
ことができるが、特にアセトニトリルが好適に使用され
る。
エーテル、テトラヒドロ7ラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒;トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭
化水素系溶媒ニジクロルメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒;アセトニトリル等などを挙げる
ことができるが、特にアセトニトリルが好適に使用され
る。
反応温度は厳密に制限されるものではなく、使用する出
発原料等に応じて広範1こ変えることができるが、一般
には約0℃ないしほぼ100°C稈度、好ましくは室温
付近の比較的低温が使用される。
発原料等に応じて広範1こ変えることができるが、一般
には約0℃ないしほぼ100°C稈度、好ましくは室温
付近の比較的低温が使用される。
弐■の化合物に対してマグネシウムマロネート化合物は
ほぼ等モル量で使用することができ、反応は50時間程
度、好ましくは20時間程度で完了する。
ほぼ等モル量で使用することができ、反応は50時間程
度、好ましくは20時間程度で完了する。
なお、使用するマグネジツムマロネート化合物としては
、パラニトロベンノルマグネンウムマロネート、ベンノ
ルマグネシウムマロネート、〆チルマグネシウムマロネ
ート等を挙げることができるが、なかでもパラニトロベ
ンノルマグネシウムマロネートを用いるのが好ましい。
、パラニトロベンノルマグネンウムマロネート、ベンノ
ルマグネシウムマロネート、〆チルマグネシウムマロネ
ート等を挙げることができるが、なかでもパラニトロベ
ンノルマグネシウムマロネートを用いるのが好ましい。
工程B:木工程は、工程Aで得られた弐■の化合物にお
けるR4で示される水酸基の保護基を脱離させる工程で
ある。例えば、R4がt−ブチルジメチルシリル基のよ
うなトリオルガノシリル基である保護基の除去は式■の
化合物をメタノール、エタ/−ル、テトラヒドロフラン
、ノオキサンなどのような溶媒中で、塩酸、硫酸、酢酸
などのような酸の存在下に0〜100℃の温度で0.5
〜18時間酸性加水分解することにより実施することが
できる。(1トリオルがノシリル基」はより好ましくは
1〜6個の炭素原子を持つアルキル基、7エ二ルJiび
フェニルアルキル基から独立に選ばれる有機基で置換さ
れたシリル基を包含する6)かかる工程により、目的と
する式■で示される化合物を定量的に得ることができる
。
けるR4で示される水酸基の保護基を脱離させる工程で
ある。例えば、R4がt−ブチルジメチルシリル基のよ
うなトリオルガノシリル基である保護基の除去は式■の
化合物をメタノール、エタ/−ル、テトラヒドロフラン
、ノオキサンなどのような溶媒中で、塩酸、硫酸、酢酸
などのような酸の存在下に0〜100℃の温度で0.5
〜18時間酸性加水分解することにより実施することが
できる。(1トリオルがノシリル基」はより好ましくは
1〜6個の炭素原子を持つアルキル基、7エ二ルJiび
フェニルアルキル基から独立に選ばれる有機基で置換さ
れたシリル基を包含する6)かかる工程により、目的と
する式■で示される化合物を定量的に得ることができる
。
!J C:かくして工程Bで得られる式■で示される化
合物を、塩基の存在ドに前記工程A″Ch述べたと同様
の不活性有機溶媒中においてアンド化合物で処理し、目
的とする式■のジアゾ化合物を得る。
合物を、塩基の存在ドに前記工程A″Ch述べたと同様
の不活性有機溶媒中においてアンド化合物で処理し、目
的とする式■のジアゾ化合物を得る。
使用しうるアット化合物としては、例えばp−カルボキ
シベンゼンスルホニルアノド ルホニル7ノV,メタンスルホニルアット、ドデシルベ
ンゼンスルホニルアノドなどのアットを挙げることがで
き、塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、ジエ
チルアミンのような塩基を例示することができる。
シベンゼンスルホニルアノド ルホニル7ノV,メタンスルホニルアット、ドデシルベ
ンゼンスルホニルアノドなどのアットを挙げることがで
き、塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、ジエ
チルアミンのような塩基を例示することができる。
反応は、好ましくはトリエチルアミンの存在下にアセト
ニトリル中でp−)ルエンスルホニルアジドを加え、0
〜100℃、好ましくは室温で1〜50時間処理するこ
とにより行なうことができ、これによって高収率で目的
とする式■のジアゾ化合物を得ることができる。
ニトリル中でp−)ルエンスルホニルアジドを加え、0
〜100℃、好ましくは室温で1〜50時間処理するこ
とにより行なうことができ、これによって高収率で目的
とする式■のジアゾ化合物を得ることができる。
上玉:木工程は工程C″c得られる式■のジアゾ化合物
を環化し、式■の化合物とする上程である。
を環化し、式■の化合物とする上程である。
本工程は例えば、式■の化合物をベンゼン、トルエン、
テトラヒドロ7ラン、シクロヘキサン、酢酸エチル、ジ
クロルメタンなどの不活性溶媒、好ましくはトルエン中
で、25〜110℃の温度で1〜5時間、ビス(アセナ
ルアセトナ))Cu(n)、CuSOn、銅粉末、Rh
z(O C O C H 、)4、ロジウムオクタノー
トまたはPd(OCOCH,)4のような金属カルボキ
シレート化合物等の金属触媒の存在ドで処理することに
より実施することができる。
テトラヒドロ7ラン、シクロヘキサン、酢酸エチル、ジ
クロルメタンなどの不活性溶媒、好ましくはトルエン中
で、25〜110℃の温度で1〜5時間、ビス(アセナ
ルアセトナ))Cu(n)、CuSOn、銅粉末、Rh
z(O C O C H 、)4、ロジウムオクタノー
トまたはPd(OCOCH,)4のような金属カルボキ
シレート化合物等の金属触媒の存在ドで処理することに
より実施することができる。
一方別の方法として、該環化工程は式■の化合物をベン
ゼン、ノエチルエーテルなどのような溶媒中で0〜25
°Cの温度で0.5〜2時開パイレックスフィルター(
波長は300nmより大)を通して光照射することによ
り実施することもできる。
ゼン、ノエチルエーテルなどのような溶媒中で0〜25
°Cの温度で0.5〜2時開パイレックスフィルター(
波長は300nmより大)を通して光照射することによ
り実施することもできる。
また、得られる式■の化合物において、R3がカルボキ
シル保護基を表わす場合の脱保護晶は、次の工程と同時
に行なわれ、1り3が水素原子である化合物を得ること
ができる。
シル保護基を表わす場合の脱保護晶は、次の工程と同時
に行なわれ、1り3が水素原子である化合物を得ること
ができる。
:1岬工L:上記の工程で製造される式■で示される(
1R)−1−置換−2−オキソ−カルバペネム−3−カ
ルボン酸誘導体をアシル化剤RaXでアシル化し、次い
でアシル基Raをメルカプト基R2Sで置換して、目的
とする式Iで示される(1R)−1−置換カルバベネム
−3−カルボン酸へ導びく工程である。
1R)−1−置換−2−オキソ−カルバペネム−3−カ
ルボン酸誘導体をアシル化剤RaXでアシル化し、次い
でアシル基Raをメルカプト基R2Sで置換して、目的
とする式Iで示される(1R)−1−置換カルバベネム
−3−カルボン酸へ導びく工程である。
すなわち、アシル基Raを導入する式■の化合物から式
■の化合物への工程Eは、ll−トルエンスルホンtl
lW=水物、p−二トロフェニルスルホン酸無水6、2
t4t6−)リイソプロビルフェニルスルホン酸無水物
、メタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物、ジフェニルクロロリン酸、トルエンスルホ
ニルクロリド、p−ブロモフェニルスルホニルクロリド
などのアシル化剤RaXにより式■の化合物をアシル化
することにより実施することができる。
■の化合物への工程Eは、ll−トルエンスルホンtl
lW=水物、p−二トロフェニルスルホン酸無水6、2
t4t6−)リイソプロビルフェニルスルホン酸無水物
、メタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物、ジフェニルクロロリン酸、トルエンスルホ
ニルクロリド、p−ブロモフェニルスルホニルクロリド
などのアシル化剤RaXにより式■の化合物をアシル化
することにより実施することができる。
ここで、1(aは例えばトルエンスルホニロキシ基、p
−ニトロフェニルスルホニロキシ基、ヘンセンスルホニ
ロキン基、ジフェニルホスホリル基、及びその他の通常
の方法で導入され且つまた当該技術分野でよく知られて
いる脱離性基のような脱離性基である。具体的には、脱
離性基Haを導入するためのアシル化は、メナレンクロ
リド、アセトニトリルまたはツメチルホルムアミドのよ
うな溶媒中で、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチ
ルアミン、4−ツメチルアミ/ピリノンなどの塩基の存
在ドに、−20〜40℃の温度で0.1〜5時間反応す
ること1こより行なうことができる。
−ニトロフェニルスルホニロキシ基、ヘンセンスルホニ
ロキン基、ジフェニルホスホリル基、及びその他の通常
の方法で導入され且つまた当該技術分野でよく知られて
いる脱離性基のような脱離性基である。具体的には、脱
離性基Haを導入するためのアシル化は、メナレンクロ
リド、アセトニトリルまたはツメチルホルムアミドのよ
うな溶媒中で、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチ
ルアミン、4−ツメチルアミ/ピリノンなどの塩基の存
在ドに、−20〜40℃の温度で0.1〜5時間反応す
ること1こより行なうことができる。
式■の化合物の脱離性基R”はまたハロゲン原子である
こともできる。ハロゲン脱離性基は式■の化合物を、P
h、PCI□、Ph、PBr、、(Phi)3PBr2
、オキザリルクロリドなどのようなハロゲン化剤を用い
て、ノクロルメタン、アセトニトリル、テトラヒドロ7
ランなどのような溶媒中でジイソプロピルエチルアミン
、トリエチルアミンまたは4−ツメチルアミノピリジン
などのような塩基の存在ドに処理することにより導入す
ることができる。
こともできる。ハロゲン脱離性基は式■の化合物を、P
h、PCI□、Ph、PBr、、(Phi)3PBr2
、オキザリルクロリドなどのようなハロゲン化剤を用い
て、ノクロルメタン、アセトニトリル、テトラヒドロ7
ランなどのような溶媒中でジイソプロピルエチルアミン
、トリエチルアミンまたは4−ツメチルアミノピリジン
などのような塩基の存在ドに処理することにより導入す
ることができる。
次いで、式■の化合物から式Iの化合物の変換は例えば
、式■の化合物を、テトラヒドロ7フン、ノクロルメタ
ン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ツメチルスル
ホキシド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミド
などの溶媒中で、はぼ当量ないし過剰量のメルカプト試
薬R”SHと共に、炭酸水素ナトリウム、R酸カリウム
、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど
の塩基の存在ドに一40〜25℃で30分〜24時間処
理することにより行なわれる。
、式■の化合物を、テトラヒドロ7フン、ノクロルメタ
ン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ツメチルスル
ホキシド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミド
などの溶媒中で、はぼ当量ないし過剰量のメルカプト試
薬R”SHと共に、炭酸水素ナトリウム、R酸カリウム
、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど
の塩基の存在ドに一40〜25℃で30分〜24時間処
理することにより行なわれる。
このようなメルカプト試°薬R25Hとして、適当な保
護基を有していてもよいメルカプト試薬を用いることが
出来るが、例えば以下のものを例示することがでさる。
護基を有していてもよいメルカプト試薬を用いることが
出来るが、例えば以下のものを例示することがでさる。
Is /′−JN)Ic)I、 、R3/\−/ N
lICOCH3、Its −4V′N11/′\/′0
11 、 IIs /XV7NIICOCIICII2
CON112、かくして、式IにおいてR′3がカルボ
キシル保護基で置換された化合物を得ることができる。
lICOCH3、Its −4V′N11/′\/′0
11 、 IIs /XV7NIICOCIICII2
CON112、かくして、式IにおいてR′3がカルボ
キシル保護基で置換された化合物を得ることができる。
このカルボキシル保護基を除去し、遊離のカルボン酸を
得るのは、ソルボリシスまたは水素添加のような通常の
方法により実施することがcきる。
得るのは、ソルボリシスまたは水素添加のような通常の
方法により実施することがcきる。
例えば、脱保護基の条件は次のとおりである:典型的に
は、R3がカルボキシル保護基である場合の式■の化合
物は、pH7のモルホリ/プロパンスルホン酸−水酸化
ナトリツム緩衝液、pH7のリン酸塩Ifc衝液、リン
酸二カルラム、重炭酸ナトリウムなどを含むテトラヒド
ロ7ランー水、テトラヒドロ7ランーエタノールー水、
ジオキサン−水、ノオキサンーエタノールー水、n−ブ
タ/−ルー水などの溶媒中で、1〜4気圧の水素気圧ド
に、酸化白金、バラジツムー活性炭、水酸化パラノウム
ー活性炭などの触媒の存在ドに、0〜50°Cの温度で
0.25〜4時間処理することにより目的とする式lの
化合物を製造することができる R)がo−ニトロベン
ジル基のような基である場合、例えば光分解もまた説保
a基反応に用いることができる。
は、R3がカルボキシル保護基である場合の式■の化合
物は、pH7のモルホリ/プロパンスルホン酸−水酸化
ナトリツム緩衝液、pH7のリン酸塩Ifc衝液、リン
酸二カルラム、重炭酸ナトリウムなどを含むテトラヒド
ロ7ランー水、テトラヒドロ7ランーエタノールー水、
ジオキサン−水、ノオキサンーエタノールー水、n−ブ
タ/−ルー水などの溶媒中で、1〜4気圧の水素気圧ド
に、酸化白金、バラジツムー活性炭、水酸化パラノウム
ー活性炭などの触媒の存在ドに、0〜50°Cの温度で
0.25〜4時間処理することにより目的とする式lの
化合物を製造することができる R)がo−ニトロベン
ジル基のような基である場合、例えば光分解もまた説保
a基反応に用いることができる。
以上に述べた方法によれば、カルバペネム骨格の1位が
艮−配置のOR’置換基を立体選択的に製造することが
でき、従来の方法がラセミ体でしか!!!!遺し得なか
った点を考慮すると、檎めで優れた製造方法ということ
ができる。
艮−配置のOR’置換基を立体選択的に製造することが
でき、従来の方法がラセミ体でしか!!!!遺し得なか
った点を考慮すると、檎めで優れた製造方法ということ
ができる。
かくして製造される本発明の式Iで示される(1R)−
1−置換カルバペネム−3−7>ルボン酸誘導体は、デ
ヒドロベブチグーゼとして知られている腎酵素による攻
撃に対して安定であり、かつその抗菌作用も優れたもの
である。
1−置換カルバペネム−3−7>ルボン酸誘導体は、デ
ヒドロベブチグーゼとして知られている腎酵素による攻
撃に対して安定であり、かつその抗菌作用も優れたもの
である。
(実施例)
以ドに本発明を実施例により更に説明する。
= Lert−ブチルノメチルンリル、i” )(l−
” =テトラヒトロチラン、PN13=バラニトロベン
ノルを表わす。
” =テトラヒトロチラン、PN13=バラニトロベン
ノルを表わす。
実施例 1
スズトリ7レー)9.’77gを窒素ガス気流下無水1
’ト1)−25011に溶解し、−60−−78℃に冷
却後N−エチルピペリノン3.39m1及び化合物(1
)3.98gの無水T HF溶液111を加え、同温に
て1時間攪拌した。その後化合物(2)3,73.の無
水T HI”下溶液11o1を加え0℃にて11時間攪
拌する。反応液に0,1M92m緩衝液201を加え0
℃で5分間攪拌し、エーテル201を加えセライト濾過
した。炉液を無水N 112 S O<で乾燥し、溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
(クロロホルムニア七トン=95:5で溶出)で精製し
、黄色油状物として化合物(3)を5.38g(93%
)で得た。
’ト1)−25011に溶解し、−60−−78℃に冷
却後N−エチルピペリノン3.39m1及び化合物(1
)3.98gの無水T HF溶液111を加え、同温に
て1時間攪拌した。その後化合物(2)3,73.の無
水T HI”下溶液11o1を加え0℃にて11時間攪
拌する。反応液に0,1M92m緩衝液201を加え0
℃で5分間攪拌し、エーテル201を加えセライト濾過
した。炉液を無水N 112 S O<で乾燥し、溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
(クロロホルムニア七トン=95:5で溶出)で精製し
、黄色油状物として化合物(3)を5.38g(93%
)で得た。
NMR(δ、CDCl5):0.05(6H,S)、0
.85(9H,S)、 1.00(3H,J=7
、4l−1z)、 1 。
.85(9H,S)、 1.00(3H,J=7
、4l−1z)、 1 。
18 (3H,d、J = 6.3 Hz)、1.70
−1.93(a+、 2 H)、2 、94 4 、3
0 (5H,m)、3.37(3H,S)、5.14−
5.36(I H,m)、5.87(IH,6S)、6
.07(IH,d、J=5.1Hz)。
−1.93(a+、 2 H)、2 、94 4 、3
0 (5H,m)、3.37(3H,S)、5.14−
5.36(I H,m)、5.87(IH,6S)、6
.07(IH,d、J=5.1Hz)。
I R(neat)as−’ : 940.960.2
860.2940.2960.1760.1700゜実
施例 2 実施例1で得た化合物(3)397mgの無水アセトニ
トリル溶液10m1に、窒素〃ス気流下、イミダゾール
72.’7mgを加え、室温で3時間攪拌後、Mg(O
zCCH2COzPN B)2 477.2+mgの無
水アセトニトリル溶液10論1を加え室温で20時間攪
拌する。次いでアセトニリトルを濃縮し、反応濃縮液に
酢酸エチル1001を加え、lN−HCl、≦%NaH
CO,飽和食塩水で順次洗浄し、無水N a 2 S
04で乾燥後溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゾ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチルで溶出)にて
精製し、微黄色油状物として化合物(4)を355.9
mg(80,9%)得た。
860.2940.2960.1760.1700゜実
施例 2 実施例1で得た化合物(3)397mgの無水アセトニ
トリル溶液10m1に、窒素〃ス気流下、イミダゾール
72.’7mgを加え、室温で3時間攪拌後、Mg(O
zCCH2COzPN B)2 477.2+mgの無
水アセトニトリル溶液10論1を加え室温で20時間攪
拌する。次いでアセトニリトルを濃縮し、反応濃縮液に
酢酸エチル1001を加え、lN−HCl、≦%NaH
CO,飽和食塩水で順次洗浄し、無水N a 2 S
04で乾燥後溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゾ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチルで溶出)にて
精製し、微黄色油状物として化合物(4)を355.9
mg(80,9%)得た。
I R(neat)ca+−’:1760.1720.
1520.1350゜ N M R(δ、CDCl5):0,05(6H,S)
、0.85(9H,S)、1.11<38.d、J=6
.I H,z)、3.07−3.12(I H,m)3
.40(S、3 H)、3゜47(2H,S)、3,5
8 4.28(30Hm)、5゜28(2H,d、J
=2.0Hz)、6.07(I H,6s)、7.54
(2H,d、J=8.6Hz)、8.23(2H,d。
1520.1350゜ N M R(δ、CDCl5):0,05(6H,S)
、0.85(9H,S)、1.11<38.d、J=6
.I H,z)、3.07−3.12(I H,m)3
.40(S、3 H)、3゜47(2H,S)、3,5
8 4.28(30Hm)、5゜28(2H,d、J
=2.0Hz)、6.07(I H,6s)、7.54
(2H,d、J=8.6Hz)、8.23(2H,d。
J=8.6Hz)。
実施例 3
実施例2で得た化合物(4)446.4mgのメタ/−
ル溶液5.61111に水2 、81111と濃塩酸0
.24+++lを加え、室温にて1時間攪件した。次い
でメタ7−ルを減圧留去して得られた残留物に水10+
alを加え酢酸エチル30+lで抽出した。飽和食塩水
で洗浄し、無水N a2 S O4で乾燥後、溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチルで溶出)で精製し、微黄色油状物として化合物
(5)を356.5mg(99,4%)得た。
ル溶液5.61111に水2 、81111と濃塩酸0
.24+++lを加え、室温にて1時間攪件した。次い
でメタ7−ルを減圧留去して得られた残留物に水10+
alを加え酢酸エチル30+lで抽出した。飽和食塩水
で洗浄し、無水N a2 S O4で乾燥後、溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチルで溶出)で精製し、微黄色油状物として化合物
(5)を356.5mg(99,4%)得た。
NMR(δ、CDCL):1.31(2H,d、J=3
゜8Hz)、3.12 3.21(IH,m)、3.4
1(3H,S)、3.48(2H,S)、3.63−4
.27 (3H、m)、5.28(2H,d、J=2.
3Hz)、6.33(I H,6S)、7.53(2H
,d、J=8.6Hz)、8.24(2H=d*J =
8.682)実施例 4 実施例3で得た化合物(3)299 、Ongの無水7
セトニリトル溶Q5mlにトシルアジド1216改「お
よびトリエチルアミン0.12ω1を加え、室温で45
分間乾燥する。次いで溶媒を留去し、残渣をシリカゾル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチルで溶出)で精製
し白色粉本状固体として化合物(6)288.1mg(
’、30.296)を得た。
゜8Hz)、3.12 3.21(IH,m)、3.4
1(3H,S)、3.48(2H,S)、3.63−4
.27 (3H、m)、5.28(2H,d、J=2.
3Hz)、6.33(I H,6S)、7.53(2H
,d、J=8.6Hz)、8.24(2H=d*J =
8.682)実施例 4 実施例3で得た化合物(3)299 、Ongの無水7
セトニリトル溶Q5mlにトシルアジド1216改「お
よびトリエチルアミン0.12ω1を加え、室温で45
分間乾燥する。次いで溶媒を留去し、残渣をシリカゾル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチルで溶出)で精製
し白色粉本状固体として化合物(6)288.1mg(
’、30.296)を得た。
I R(K Br)eIa−’:2150.1 ’75
0.1720.1650゜ N M R(δ、CDC1,):1,30(3H,d、
J=6.4Hz)、3.23−3.26(I H,dd
、J=1.8.2゜3Hz)、3.41 (3H,S)
、:(、+37−3.95 <IH,dd、、J=2.
3.5.IH7,)、4.O+3−4.22(IH,+
烏)、 4 、9 3 (I H,d、J
= 5.1 ト1z) 、 5 。
0.1720.1650゜ N M R(δ、CDC1,):1,30(3H,d、
J=6.4Hz)、3.23−3.26(I H,dd
、J=1.8.2゜3Hz)、3.41 (3H,S)
、:(、+37−3.95 <IH,dd、、J=2.
3.5.IH7,)、4.O+3−4.22(IH,+
烏)、 4 、9 3 (I H,d、J
= 5.1 ト1z) 、 5 。
37(2H,S)、5.8 (1(I H,Its)、
’7.55(2H,d、J =8.9Hz)、8.27
(2H,d、J = 8.9Hz) 実施例 5 実施例4で得た化合物(6)319.5mgのトルエン
7IIl!、酢酸エチル7a+1混合溶液にロジウムア
セテ−)3.2mgを加え、80℃で1時間攪袢する。
’7.55(2H,d、J =8.9Hz)、8.27
(2H,d、J = 8.9Hz) 実施例 5 実施例4で得た化合物(6)319.5mgのトルエン
7IIl!、酢酸エチル7a+1混合溶液にロジウムア
セテ−)3.2mgを加え、80℃で1時間攪袢する。
次いで溶媒を留去し、白色固体物として化合物(7)2
64B(88,9%)を得た。
64B(88,9%)を得た。
I R(KBr)cLll−’:1780.1750.
1740.1520、 NMR(δ 、CDC1,):1.3 9(3H,d、
J=6.1Hz)、1.74(IH,6S)、3.48
(3H,S)、3.65−3.78(2H,a+)、
4.02−4.09 (IH,dd、J=2.3.4.
6Hz)、4.28−4.42(I H、論)4.7
4 (I H,S )、 5 、22 、 5
.40(2HtA B tJ = 29.8 Hz)、
7.56(2H,d、J=8.6Hz)、8.26(2
H*d−J =8.6 Hz)実施例 6 実施例5″c得た化合物(7)14+I1gの無水アセ
トニトリル溶液0.2 mlに水冷下ノフェニルリン酸
クロフィト0.009+alおよびジイソプロピルエチ
ルアミン0.008m1を加え、同温にて2時間攪拌す
る。次いで2−フルカプトピリミジン4.6mgの無水
ジメチルホルムアミド溶1i0.2mlおJ:びジイソ
プロピルエチルアミン0.07m1を加え、0℃に23
0分、その後室温にて18時間攪拌後反応液に酢酸エチ
ル30翰1を加え水および飽和食塩水で洗浄し無水N
a7 S O−で乾燥後、溶媒を留去しシリカゾルにて
精製し、化合物(8)を微黄色油状物として7.4B(
42,4%)得た。
1740.1520、 NMR(δ 、CDC1,):1.3 9(3H,d、
J=6.1Hz)、1.74(IH,6S)、3.48
(3H,S)、3.65−3.78(2H,a+)、
4.02−4.09 (IH,dd、J=2.3.4.
6Hz)、4.28−4.42(I H、論)4.7
4 (I H,S )、 5 、22 、 5
.40(2HtA B tJ = 29.8 Hz)、
7.56(2H,d、J=8.6Hz)、8.26(2
H*d−J =8.6 Hz)実施例 6 実施例5″c得た化合物(7)14+I1gの無水アセ
トニトリル溶液0.2 mlに水冷下ノフェニルリン酸
クロフィト0.009+alおよびジイソプロピルエチ
ルアミン0.008m1を加え、同温にて2時間攪拌す
る。次いで2−フルカプトピリミジン4.6mgの無水
ジメチルホルムアミド溶1i0.2mlおJ:びジイソ
プロピルエチルアミン0.07m1を加え、0℃に23
0分、その後室温にて18時間攪拌後反応液に酢酸エチ
ル30翰1を加え水および飽和食塩水で洗浄し無水N
a7 S O−で乾燥後、溶媒を留去しシリカゾルにて
精製し、化合物(8)を微黄色油状物として7.4B(
42,4%)得た。
I R(CHCl5)cLl−’ : 1 ’790.
1720、N M R(δ、CLICI3):1.39
<38.d、J =6.41(z)、1.82(IH,
bS)、3.36(3H,S)、3.55−3.66(
IH,dd、J=3.3.6,6)1z)4.30 4
.42(2Hwm)、5.27(I H,d、J=7.
3Hz>、5.28.5.52(2H,AB、J=35
.3Hz)、7.09(I H,t)、7.64(2H
,d。
1720、N M R(δ、CLICI3):1.39
<38.d、J =6.41(z)、1.82(IH,
bS)、3.36(3H,S)、3.55−3.66(
IH,dd、J=3.3.6,6)1z)4.30 4
.42(2Hwm)、5.27(I H,d、J=7.
3Hz>、5.28.5.52(2H,AB、J=35
.3Hz)、7.09(I H,t)、7.64(2H
,d。
J=8.9Hz)、8.21(2H,d、J=8.9H
z)、8.56(2H,d、J=4.9Hz)次いで上
記で得た化合物(8)52.4+urをTHF3.5m
lおよび水3.5+olに溶解し、これに酸化白金26
.2Bを加え、3気圧で1時間接触水素添加を行った。
z)、8.56(2H,d、J=4.9Hz)次いで上
記で得た化合物(8)52.4+urをTHF3.5m
lおよび水3.5+olに溶解し、これに酸化白金26
.2Bを加え、3気圧で1時間接触水素添加を行った。
埋#rl量の水素の吸収後、反応液をセライト?濾過し
、セライト層を少量のメタ/−ルお上り水で洗浄し、炉
液を集め、エーテルで洗浄する。次いで水層を凍結乾燥
し、化合物(9)を黄色粉末として28.6mg(’7
6.4%)得た。
、セライト層を少量のメタ/−ルお上り水で洗浄し、炉
液を集め、エーテルで洗浄する。次いで水層を凍結乾燥
し、化合物(9)を黄色粉末として28.6mg(’7
6.4%)得た。
I R(K Br)am”−’: 1780.170O
NMR(δac’eLone ds): 1.32
(3H+d+ J =6.3Hz)、 2.4 7
(I H,bS )、 3.32(3H。
NMR(δac’eLone ds): 1.32
(3H+d+ J =6.3Hz)、 2.4 7
(I H,bS )、 3.32(3H。
S)、3.43−3.54(IH,dd、J=3.0,
6゜3Hz)、4.19 4.41(2H,m)、5.
31(IH,d、J=7.4Hz)、7.26 (I
H,t)。8.66(2H=dw J =4 、8 H
z)実施例 7 実施例5″C得た化合物(7)150Bの無水アセトニ
トリル溶液6.0 mlに水冷t′ジフェニルリン酸ク
ロライド0.08m1およびジイソプロピルエチルアミ
ン0.07+alを加え同温にて2時間攪拌する。次い
で4−7トキシカルボニルオキサゾリンー2−イルメタ
ンチオール69a+gおよびジイソプロピルエチルアミ
ン0.07m1を加え、−35℃で2時間攪拌後、反応
液を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグリフイー(酢酸
エチルで溶出)にて精製し、化合物(10)を微黄色油
状物として93Il+g(43%)得た。
6゜3Hz)、4.19 4.41(2H,m)、5.
31(IH,d、J=7.4Hz)、7.26 (I
H,t)。8.66(2H=dw J =4 、8 H
z)実施例 7 実施例5″C得た化合物(7)150Bの無水アセトニ
トリル溶液6.0 mlに水冷t′ジフェニルリン酸ク
ロライド0.08m1およびジイソプロピルエチルアミ
ン0.07+alを加え同温にて2時間攪拌する。次い
で4−7トキシカルボニルオキサゾリンー2−イルメタ
ンチオール69a+gおよびジイソプロピルエチルアミ
ン0.07m1を加え、−35℃で2時間攪拌後、反応
液を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグリフイー(酢酸
エチルで溶出)にて精製し、化合物(10)を微黄色油
状物として93Il+g(43%)得た。
I R(neat)ea+−’:1780.174ON
MR(δ、CDCL):1.41(3H,d、J=6.
3Hz)、2.03(IH,bS)、3.52(3H,
S)、3.91(3H,S)、3,43 4.51(+
、5H)、4.98(IHwdlJ=7.4Hz)、5
.23.5.50(2H,AB、J=38.4Hz)、
7.63 (2H,d。
MR(δ、CDCL):1.41(3H,d、J=6.
3Hz)、2.03(IH,bS)、3.52(3H,
S)、3.91(3H,S)、3,43 4.51(+
、5H)、4.98(IHwdlJ=7.4Hz)、5
.23.5.50(2H,AB、J=38.4Hz)、
7.63 (2H,d。
J=8.9Hz)、8.18(IH,S)、8.21
(2H,d、J=8.9Hz) 次いで上記で得られた化合物(10) 82 lOgを
′1゛HF2.0LIlおよび水2.0mlに溶解し、
これに酸化白金24mgを加え、3気圧で1時間接触水
素添加を行った。理論量の水素の吸収後、反応液をセラ
イト濾過し、セライト層を少量のメタノール及び水で洗
浄し、炉液な集め、エーテルで洗浄する。
(2H,d、J=8.9Hz) 次いで上記で得られた化合物(10) 82 lOgを
′1゛HF2.0LIlおよび水2.0mlに溶解し、
これに酸化白金24mgを加え、3気圧で1時間接触水
素添加を行った。理論量の水素の吸収後、反応液をセラ
イト濾過し、セライト層を少量のメタノール及び水で洗
浄し、炉液な集め、エーテルで洗浄する。
次いで水層を凍結乾燥し、化合物(11)を黄色粉末と
して30mg(50%)得た。
して30mg(50%)得た。
I R(KBr)am−’:1 780、172ONM
R(δ acetone −d@): 1 、37
(3H、d、 J =6.3Hz)、 3.53(3
H,S)、3.87(3H,S)、3.31 4.4
6(5H,+s)、5.03(I H,d、J=7.4
Hz)、 8.58(I H,S)実施例 8 実施例5で得た化合物(7)189mgの無水アセトニ
トリル溶Q2mlに水冷下ノフェニルリン酸クロライド
0.11m1およびジイソプロピルエチルアミン0.1
01m1を加え同温にて1時間攪件する。
R(δ acetone −d@): 1 、37
(3H、d、 J =6.3Hz)、 3.53(3
H,S)、3.87(3H,S)、3.31 4.4
6(5H,+s)、5.03(I H,d、J=7.4
Hz)、 8.58(I H,S)実施例 8 実施例5で得た化合物(7)189mgの無水アセトニ
トリル溶Q2mlに水冷下ノフェニルリン酸クロライド
0.11m1およびジイソプロピルエチルアミン0.1
01m1を加え同温にて1時間攪件する。
次いで2 (S )−p−ニトロベンノロキシ力ルポニ
ルアミノブタンヂオール186.4mgおよびノイソプ
ロビルエチルアミン0,13a+Iを加え、−30℃で
1時間30分攪拌後、反応液を濃縮しシリカゾルカラム
クロマトグラフィー(溶出はクロロホルム:酢酸エチル
=1:2)にて精製し、化合物(12)を微黄色油状物
として250+++g(77,6%)得た。
ルアミノブタンヂオール186.4mgおよびノイソプ
ロビルエチルアミン0,13a+Iを加え、−30℃で
1時間30分攪拌後、反応液を濃縮しシリカゾルカラム
クロマトグラフィー(溶出はクロロホルム:酢酸エチル
=1:2)にて精製し、化合物(12)を微黄色油状物
として250+++g(77,6%)得た。
I R(KBr)co+−’:1 7 8 0.
1 7 0 0 、 152 ONMR(δ CDC
1,):0.96(3H,t、J=7.1Hz)。1.
4(3H+d、J=6.IHz)、1.97(IH、b
s )、3.40(3H,S)、3.17−4.40(
8H、a+)、4.80(IH,d、J=7.IHz>
、5.19(2H,S)、5.23.5.53(2H,
AB、J=40.4Hz)、7.49C2H,d、J=
8.9Hz)、7゜65 (2H,d、J = 8.9
Hz)、8.20(4H,d、J=8.9Hz) 次いで上記で得られた化合物(12) 250 mgを
THF4IIlおよび水41に溶解し、これに酸化白金
50Bを加え、3気圧で40分接触水素添加を行った。
1 7 0 0 、 152 ONMR(δ CDC
1,):0.96(3H,t、J=7.1Hz)。1.
4(3H+d、J=6.IHz)、1.97(IH、b
s )、3.40(3H,S)、3.17−4.40(
8H、a+)、4.80(IH,d、J=7.IHz>
、5.19(2H,S)、5.23.5.53(2H,
AB、J=40.4Hz)、7.49C2H,d、J=
8.9Hz)、7゜65 (2H,d、J = 8.9
Hz)、8.20(4H,d、J=8.9Hz) 次いで上記で得られた化合物(12) 250 mgを
THF4IIlおよび水41に溶解し、これに酸化白金
50Bを加え、3気圧で40分接触水素添加を行った。
理論量の水素の吸収後、反応液をセライト濾過し、セラ
イト層を少量のメタノールおよび水で洗浄しtPHを集
め、エーテルで洗浄する。次いで水増を凍結乾燥し、化
合物(13)を黄色粉末として87.5mg(86,3
%)得た。
イト層を少量のメタノールおよび水で洗浄しtPHを集
め、エーテルで洗浄する。次いで水増を凍結乾燥し、化
合物(13)を黄色粉末として87.5mg(86,3
%)得た。
I R(K Br)c+++−’:1760.1700
冥施例 9 実施例5で得た化合物(7)90mgの無水アセトニト
リル溶液1a+1に水冷下ジフェニルリン酸クロライド
0.05m1およびジイソプロピルエチルアミン0.0
5+alを加え同温にて1時間攪件する。
冥施例 9 実施例5で得た化合物(7)90mgの無水アセトニト
リル溶液1a+1に水冷下ジフェニルリン酸クロライド
0.05m1およびジイソプロピルエチルアミン0.0
5+alを加え同温にて1時間攪件する。
次いで2−p−ニトロペンノロキシカルボニルアザブタ
ンチオール77Bおよびジイソプロピルエチルアミン0
.06w+lを加え、−35°Cで2時間攪拌後、反応
液を濃縮しシリカゾルカラムクロマトグラフィー(溶出
は700ホルム:#酸エチル=1:2)にて精製し、化
合物(14)を微黄色油状物として、120a+g(8
0%)得た。
ンチオール77Bおよびジイソプロピルエチルアミン0
.06w+lを加え、−35°Cで2時間攪拌後、反応
液を濃縮しシリカゾルカラムクロマトグラフィー(溶出
は700ホルム:#酸エチル=1:2)にて精製し、化
合物(14)を微黄色油状物として、120a+g(8
0%)得た。
I R(neat)cIll−’: 1770.170
0.1510゜34O NMR(δ eDcl、ン:1.4 1(3H,d
、J=6゜IHz)、 2.0 8(I H,bS
)、 3.1 3 (3H,S )、3.45(
3ト1.S)、 2,93 4.55(8H,
a+)、4.83(IH,d、J=7.1Hz)、5.
23(2H。
0.1510゜34O NMR(δ eDcl、ン:1.4 1(3H,d
、J=6゜IHz)、 2.0 8(I H,bS
)、 3.1 3 (3H,S )、3.45(
3ト1.S)、 2,93 4.55(8H,
a+)、4.83(IH,d、J=7.1Hz)、5.
23(2H。
S)、5.24.5.03(2H,AB、J=40.4
Hz)、 7,53(2H,d、J=8.9)[z)、
’7.66(2H,d、J=8.9Hz)、 8.2
3 (4H,d、J = 8.9Hz) 次いで上記で得られた化合物<14) 120 mgを
THF2II+1および水2mlに溶解し、これに酸化
白金2411Igを加え、3気圧で1時間接触水素添加
を行った。理論量の水素の吸収後、反応液をセライト濾
過しセライ) /[を少量のメタノールおよび水で洗浄
し、炉液を集め、エーテルで洗浄した0次いで水層を凍
結乾燥し、化合物(15)を黄色粉末として38.8瀉
g(77,2%)得た。
Hz)、 7,53(2H,d、J=8.9)[z)、
’7.66(2H,d、J=8.9Hz)、 8.2
3 (4H,d、J = 8.9Hz) 次いで上記で得られた化合物<14) 120 mgを
THF2II+1および水2mlに溶解し、これに酸化
白金2411Igを加え、3気圧で1時間接触水素添加
を行った。理論量の水素の吸収後、反応液をセライト濾
過しセライ) /[を少量のメタノールおよび水で洗浄
し、炉液を集め、エーテルで洗浄した0次いで水層を凍
結乾燥し、化合物(15)を黄色粉末として38.8瀉
g(77,2%)得た。
l R(K Br)cm−’:1780.1 ’/ 5
0実施例 10 実施例5で得た化合物(7)285 ff1gの無水ア
セトントリル溶液311に水冷下ジフェニルリン酸クロ
ライド0.171111およびジインプロピルエチルア
ミン0.1501を加え同温にて40分ff144?し
た。
0実施例 10 実施例5で得た化合物(7)285 ff1gの無水ア
セトントリル溶液311に水冷下ジフェニルリン酸クロ
ライド0.171111およびジインプロピルエチルア
ミン0.1501を加え同温にて40分ff144?し
た。
次いで2−メチル1.3.4−チアジアゾールのナトリ
ウム塩154Bを加え一30℃で1時間さらに0℃で1
時間攪拌後2−メチル1.3.4−チアノアゾール77
mgを加え室温にて20時間攪拌した。
ウム塩154Bを加え一30℃で1時間さらに0℃で1
時間攪拌後2−メチル1.3.4−チアノアゾール77
mgを加え室温にて20時間攪拌した。
その後反応液を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグツフ
ィー(溶出はクロロホルム:酢酸エチル=1:1)にて
精製し、化合物(16)を微黄色油状物として50輸g
(13,6%)得た。
ィー(溶出はクロロホルム:酢酸エチル=1:1)にて
精製し、化合物(16)を微黄色油状物として50輸g
(13,6%)得た。
I R(neat)cm−’:3000、1770、1
700.151 O NMR(δ CDCl5):1.36(3H,d、J
=6゜4Hz)、2.81 (3H,S)、3.09(
3H,S)、3.44−3.55(I H,dd、J”
3.6Hz、6.6ト1z)、 4.1 6−4.
3 9(2H,m)、 4.87(IH。
700.151 O NMR(δ CDCl5):1.36(3H,d、J
=6゜4Hz)、2.81 (3H,S)、3.09(
3H,S)、3.44−3.55(I H,dd、J”
3.6Hz、6.6ト1z)、 4.1 6−4.
3 9(2H,m)、 4.87(IH。
d、J=7.6Hz)、 5.29、5.55<2H,
AB。
AB。
J=37.4Hz)、 7.7(2H,d、J=8.9
Hz)、8.23(2H,d、J=8.9Hz)次いで
上記で得られた化合物(16) 50 mgをTHF3
.4mlおよび水3.4mlに溶解し、これに酸化白金
25111gを加え、3気圧で1時間接触水素添加を行
った。埋i!Q量の水素の吸収後、反応液をセライト濾
過し、セライト層を少量のメタ7−ルおよび水で洗浄し
、炉液を集め、エーテルで洗浄した。
Hz)、8.23(2H,d、J=8.9Hz)次いで
上記で得られた化合物(16) 50 mgをTHF3
.4mlおよび水3.4mlに溶解し、これに酸化白金
25111gを加え、3気圧で1時間接触水素添加を行
った。埋i!Q量の水素の吸収後、反応液をセライト濾
過し、セライト層を少量のメタ7−ルおよび水で洗浄し
、炉液を集め、エーテルで洗浄した。
次いで水層を凍結乾燥し化合物(17)を黄色粉末とし
て30.1+ng(83,1%)得た。
て30.1+ng(83,1%)得た。
I R(K Br)cL6−’:2970.1780.
176ON M R(δ、アセトンーdt、+D20)
:1.33(3H,d。
176ON M R(δ、アセトンーdt、+D20)
:1.33(3H,d。
J=6.4Hz)、 2.82(3H,S)、 3.1
0(3H,S) 実施例 11 実施例5で得た化合物(7)140+ngの無水アセト
ニトリル溶液2輪Iに水冷トノフェニルリン酸クロライ
ド0.076m1およびジイソプロピルエチルアミン0
.064m1を加え同温にて1時間攪拌した。次いでア
セチルシステアミン52.8ωgおよびノイソプロビル
エチルアミン0.064ω1を加え一30°Cで1時間
40分攪拌後、反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出はクロロホルム:アセトン=4:
1)にて精製し、化合物(18)を淡黄色粉末状固体と
して111a+g(62,7%)得た。
0(3H,S) 実施例 11 実施例5で得た化合物(7)140+ngの無水アセト
ニトリル溶液2輪Iに水冷トノフェニルリン酸クロライ
ド0.076m1およびジイソプロピルエチルアミン0
.064m1を加え同温にて1時間攪拌した。次いでア
セチルシステアミン52.8ωgおよびノイソプロビル
エチルアミン0.064ω1を加え一30°Cで1時間
40分攪拌後、反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出はクロロホルム:アセトン=4:
1)にて精製し、化合物(18)を淡黄色粉末状固体と
して111a+g(62,7%)得た。
I R(KBr)am−’:1780.1700.16
5ON M R(δ、CDCl5):1,37(3H,
d、J=6.3Hz)、1.96(3H,S)、2.7
9〜4.36(7H1鴫)、3.42(3H,S)、4
.77(IH,d、J=7、IHz)、5.22.5.
50(21−1,AB、J=38.9Hz)、6.31
(I H,bS )、7.63 (2H,d。
5ON M R(δ、CDCl5):1,37(3H,
d、J=6.3Hz)、1.96(3H,S)、2.7
9〜4.36(7H1鴫)、3.42(3H,S)、4
.77(IH,d、J=7、IHz)、5.22.5.
50(21−1,AB、J=38.9Hz)、6.31
(I H,bS )、7.63 (2H,d。
J=8.7Hz)、8.20(2H,d、J=8.7H
z)次いで上記で得られた化合物(18,) 111
mgをTHF7.4a+1および水7.4a+Iに溶解
し、これに酸化白金55.5mgを加え、3気圧で1時
間接触水素添加を行った。理論量の水素吸収後、反応液
をセライ) I濾過し、セライト層を少量のメタノール
および水で洗浄し、炉液を集め、エーテルで洗浄した。
z)次いで上記で得られた化合物(18,) 111
mgをTHF7.4a+1および水7.4a+Iに溶解
し、これに酸化白金55.5mgを加え、3気圧で1時
間接触水素添加を行った。理論量の水素吸収後、反応液
をセライ) I濾過し、セライト層を少量のメタノール
および水で洗浄し、炉液を集め、エーテルで洗浄した。
次いで水層を凍結乾燥し化合物(19)を褐色粉末とし
て64.0mg(80,3%)得た。
て64.0mg(80,3%)得た。
I R(K Br)c+o−’:1780.1750.
1640実施例 12 実施例5で得た化合物(7)15t)mgの無水アセト
ニトリル溶液3.01に水冷ドジフェニルリン酸クロラ
イド0.083m1およびノイソプロビルエチルアミン
0.070IIllを加え同温にて1時間50分間攪拌
した。次いで1−モル7オリニルエタンチオール17.
5mg5さらに40分後29.211Ig、さらに20
分後23.3Bを加え、−35℃で3時間攪拌後反応液
を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
はクロロホルム:酢酸エチル=1:1次いでクロロホル
ムアセトン=1=1)にてM製し、化合物(20)を淡
黄色粉末状固体として68.2mg(33,9%)得た
。
1640実施例 12 実施例5で得た化合物(7)15t)mgの無水アセト
ニトリル溶液3.01に水冷ドジフェニルリン酸クロラ
イド0.083m1およびノイソプロビルエチルアミン
0.070IIllを加え同温にて1時間50分間攪拌
した。次いで1−モル7オリニルエタンチオール17.
5mg5さらに40分後29.211Ig、さらに20
分後23.3Bを加え、−35℃で3時間攪拌後反応液
を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
はクロロホルム:酢酸エチル=1:1次いでクロロホル
ムアセトン=1=1)にてM製し、化合物(20)を淡
黄色粉末状固体として68.2mg(33,9%)得た
。
I R(CHC1*)cm−’:1780.171ON
MR(δ、CDC1,):1.40(3H,d、J=6
.IHz)、2.25(I H,bS)、2.43−4
.39 (15H,m)、3.47(3H,S)、4.
59(I H,d、J=7.2Hz)、5.24.5.
り2(2H,AI=3.J=39.4Hz)、7.65
(2H,d、J=8.9Hz)、8.21(2H,dt
J=8.9Hz)次いで上記で得られた化合物(20)
68.2IIIHをTHF4.6mlおJ:(/水4.
6mlに溶解し、コレニ酸化白金34.1+Bを加え、
3気圧で1時間接触水素添加を行った。理論量の水素吸
収後、反応液をセライト濾過し、セライト層を少量のメ
タ7−ルおよび水で洗浄し、炉液を集め、エーテルて゛
洗浄した。次いで水層を凍結乾燥し、化合物(21)を
褐色粉末として43.3B(86,6%)得た。
MR(δ、CDC1,):1.40(3H,d、J=6
.IHz)、2.25(I H,bS)、2.43−4
.39 (15H,m)、3.47(3H,S)、4.
59(I H,d、J=7.2Hz)、5.24.5.
り2(2H,AI=3.J=39.4Hz)、7.65
(2H,d、J=8.9Hz)、8.21(2H,dt
J=8.9Hz)次いで上記で得られた化合物(20)
68.2IIIHをTHF4.6mlおJ:(/水4.
6mlに溶解し、コレニ酸化白金34.1+Bを加え、
3気圧で1時間接触水素添加を行った。理論量の水素吸
収後、反応液をセライト濾過し、セライト層を少量のメ
タ7−ルおよび水で洗浄し、炉液を集め、エーテルて゛
洗浄した。次いで水層を凍結乾燥し、化合物(21)を
褐色粉末として43.3B(86,6%)得た。
I R(CHCh)am″″’:1780,1760実
施例 13 実施例5で得た化合物(7H50zgの無水アセトンニ
トリル溶液3.0I111に水冷下ジフェニルリン酸ク
ロライド0.083m1およびジイソプロピルエチルア
ミン0.070m1を加え同温にて1時間攪拌した。次
いで1−(4−7ミノビララノニル)エタンチオールの
誘導体27.0mg、さらに20分後67.5mg、さ
らに20分後67.5Bおよびジイソプロピルエチルア
ミン0.014ml 0.035m1.0.035m1
を加え一35℃で3時間攪拌後反応液をa縮し、シリカ
ゾルカラムクロマトグラフィー(溶出はクロロホルム:
酢酸エチル=1:1次いでクロロホルム:メタノール=
9:1)にて精製し、化合物(22)を淡黄色粉末状固
体として218 、011g(78、5%)得た。
施例 13 実施例5で得た化合物(7H50zgの無水アセトンニ
トリル溶液3.0I111に水冷下ジフェニルリン酸ク
ロライド0.083m1およびジイソプロピルエチルア
ミン0.070m1を加え同温にて1時間攪拌した。次
いで1−(4−7ミノビララノニル)エタンチオールの
誘導体27.0mg、さらに20分後67.5mg、さ
らに20分後67.5Bおよびジイソプロピルエチルア
ミン0.014ml 0.035m1.0.035m1
を加え一35℃で3時間攪拌後反応液をa縮し、シリカ
ゾルカラムクロマトグラフィー(溶出はクロロホルム:
酢酸エチル=1:1次いでクロロホルム:メタノール=
9:1)にて精製し、化合物(22)を淡黄色粉末状固
体として218 、011g(78、5%)得た。
l R(KBr)cm−’:1780.1720.16
0ONMR(δ、CDCl5):1,39(3H,d、
J=6.3Hz)、2.52−4.39(15H,m)
、3.45(3H,S)、 4.61(IH,d、J
=7.1Hz)、 5 、2o(28,S) 、
5 、23 、 5.5 1 (211,A B、
J =39.2)1z)、5.94(IH,bS)、
7.50(2H。
0ONMR(δ、CDCl5):1,39(3H,d、
J=6.3Hz)、2.52−4.39(15H,m)
、3.45(3H,S)、 4.61(IH,d、J
=7.1Hz)、 5 、2o(28,S) 、
5 、23 、 5.5 1 (211,A B、
J =39.2)1z)、5.94(IH,bS)、
7.50(2H。
d、J=8.6Hz)、′7,65(2H,d、J=8
.6Hz)、8.20(4HtdvJ=8.6Hz)次
いで上記で得られた化合物(22) 218 agit
THF14,7mlおよび水14.7mlに溶解し、こ
れに酸化白金87.2mgを加え、3気圧で1時間接触
水素添加を行った。理論量の水素吸収後、反応液をセラ
イト濾過し、セライト層を少量のメタノールおよび水で
洗浄し、炉液を集め、エーテルで洗浄した。次いで水層
を凍結乾燥し、化合物(23)を黄色粉末として120
.2mg(100%)得た。
.6Hz)、8.20(4HtdvJ=8.6Hz)次
いで上記で得られた化合物(22) 218 agit
THF14,7mlおよび水14.7mlに溶解し、こ
れに酸化白金87.2mgを加え、3気圧で1時間接触
水素添加を行った。理論量の水素吸収後、反応液をセラ
イト濾過し、セライト層を少量のメタノールおよび水で
洗浄し、炉液を集め、エーテルで洗浄した。次いで水層
を凍結乾燥し、化合物(23)を黄色粉末として120
.2mg(100%)得た。
I R(K Br)c+o−’:1780.174ON
MR(δ、アセトンd、+D20):1.33(3H,
d。
MR(δ、アセトンd、+D20):1.33(3H,
d。
J=6.1Hz)、3.46(3H,S)実施例14
実施例5で得た化合物(7)150mgの無水アセトニ
トリル溶[3,Omlに水冷下ノフェニルリン酸クロラ
イド0.083m1お上びジイソプロピルエチルアミン
0.070m1を加え同温にて1時間攪拌した。次いで
(2S)−エトキシカルボニルピロリジン−1−イル−
カルボニルメタンチオール25.8mg1さらに20分
後51.Trag、さらに20分後77、Smgおよび
ジイソプロピルエチルアミン0.021m1を加え、−
30℃で1時間20分攪拌後反応液を濃縮し、シリカゾ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出はクロロホルム:酢
酸エチル= 1 :1 )にて精製し、化合物(24)
を淡黄色油状物として180.3mg(62,4%)得
た。
トリル溶[3,Omlに水冷下ノフェニルリン酸クロラ
イド0.083m1お上びジイソプロピルエチルアミン
0.070m1を加え同温にて1時間攪拌した。次いで
(2S)−エトキシカルボニルピロリジン−1−イル−
カルボニルメタンチオール25.8mg1さらに20分
後51.Trag、さらに20分後77、Smgおよび
ジイソプロピルエチルアミン0.021m1を加え、−
30℃で1時間20分攪拌後反応液を濃縮し、シリカゾ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出はクロロホルム:酢
酸エチル= 1 :1 )にて精製し、化合物(24)
を淡黄色油状物として180.3mg(62,4%)得
た。
I R(KBr)am−’:1780,1740,17
30゜171 O NMR(δ、CDC13):1.29 (3H−t−J
= 7.6Hz)、1.38(3H,d、J=6.1
Hz)、2゜05 2.32(2H,m)、3.3
7−4.69(12H,+*)、3.50(3H,s)
、5.01 (I H,d。
30゜171 O NMR(δ、CDC13):1.29 (3H−t−J
= 7.6Hz)、1.38(3H,d、J=6.1
Hz)、2゜05 2.32(2H,m)、3.3
7−4.69(12H,+*)、3.50(3H,s)
、5.01 (I H,d。
J=7.IHz)、5,25,5.54(2H,AB。
J=40,0Hz)、7.70(2H,d、J=8゜7
Hz)、8.21(2H,d、J=8.7Hz)次いで
上記で得られた化合物(24)180.3mgをTHF
12.2mlおよび水12.2mlに溶解し、これに酸
化白金72,1mgを加え、3気圧で1時間接触水素添
加を行った。理論量の水素吸収後、反応液をセライト濾
過し、セライト層を少量のメタノールおよび水で洗浄し
、tF液を集め、エーテルで洗浄した。次いで水層を凍
結乾燥し、化合物(23)を黄色粉末として94.4+
ag(68,4%)得た。
Hz)、8.21(2H,d、J=8.7Hz)次いで
上記で得られた化合物(24)180.3mgをTHF
12.2mlおよび水12.2mlに溶解し、これに酸
化白金72,1mgを加え、3気圧で1時間接触水素添
加を行った。理論量の水素吸収後、反応液をセライト濾
過し、セライト層を少量のメタノールおよび水で洗浄し
、tF液を集め、エーテルで洗浄した。次いで水層を凍
結乾燥し、化合物(23)を黄色粉末として94.4+
ag(68,4%)得た。
I R(KBr)cm−’:1780,1740,17
20゜実施例15 実施例5で得た化合物(7N 00mgの無水アセトニ
トリル溶?[3,0+11に水冷下ノフェニルリン酸ク
ロライド0.058m1およびジイソプロピルエチルア
ミン0.048+elを加え同温にて1時間攪拌した。
20゜実施例15 実施例5で得た化合物(7N 00mgの無水アセトニ
トリル溶?[3,0+11に水冷下ノフェニルリン酸ク
ロライド0.058m1およびジイソプロピルエチルア
ミン0.048+elを加え同温にて1時間攪拌した。
次いでシステアミンの誘導体71.11およびジイソプ
ロピルエチルアミン0,055I111を加え、−25
℃で50分攪拌後反応液を濃縮し、シリカゾルカラムク
ロマトグラフィー(溶出はクロロホルム:酢酸エチル=
1:1次いでクロロホルムアセトン= 1 :1 )に
て精製し、化合物(26)を淡黄色粉末状固体として1
21.IIIIg(78゜4%)得た。
ロピルエチルアミン0,055I111を加え、−25
℃で50分攪拌後反応液を濃縮し、シリカゾルカラムク
ロマトグラフィー(溶出はクロロホルム:酢酸エチル=
1:1次いでクロロホルムアセトン= 1 :1 )に
て精製し、化合物(26)を淡黄色粉末状固体として1
21.IIIIg(78゜4%)得た。
I R(KBr)cm−’:1780?1710i 6
1 ONMR(δ、CDC13):1,39(3H,d
、J=6.iH7,)、2.03(I H,bs)、3
.03−4.39 (7Hta+)、3.45(3H,
s)、4.67 (I H,d。
1 ONMR(δ、CDC13):1,39(3H,d
、J=6.iH7,)、2.03(I H,bs)、3
.03−4.39 (7Hta+)、3.45(3H,
s)、4.67 (I H,d。
J=7.4Hz)、5.19(2H,s)、5.23゜
5.51(2H,AB、J=39.2Hz)、7.49
(2H,d、J=8.9Hz)、7.64(2H,d。
5.51(2H,AB、J=39.2Hz)、7.49
(2H,d、J=8.9Hz)、7.64(2H,d。
J=8.9Hz)、8.20(4H,d、J=8.9H
z) 次いで上記で得られた化合物(26N21.1tagを
THF11n+Iおよび水11m1に溶解し、これに酸
化白金48.4mgを加え、3気圧で1時間接触水素添
加を行った。理i!!1tの水素吸収後、反応液をセラ
イトオ濾過し、セライト層を少量のメタノールおよび水
で洗浄し、炉液を集め、エーテルで洗浄した。次いで水
層を凍結乾燥し、化合物(27)を黄色粉末として52
.7mg(89,5%)得た。
z) 次いで上記で得られた化合物(26N21.1tagを
THF11n+Iおよび水11m1に溶解し、これに酸
化白金48.4mgを加え、3気圧で1時間接触水素添
加を行った。理i!!1tの水素吸収後、反応液をセラ
イトオ濾過し、セライト層を少量のメタノールおよび水
で洗浄し、炉液を集め、エーテルで洗浄した。次いで水
層を凍結乾燥し、化合物(27)を黄色粉末として52
.7mg(89,5%)得た。
I R(KBr)am−’:1780−176 ONM
R(δ、CD、OD):1.32(3H,d、J=6゜
1 Hz)、3.00−5.01(8H,a+)、3.
45(3H,s)。
R(δ、CD、OD):1.32(3H,d、J=6゜
1 Hz)、3.00−5.01(8H,a+)、3.
45(3H,s)。
実施例16
実施例6〜15に記載の方法に準じ、化合物(7)およ
びそれぞれ対応するメルカプト試薬を反応させ、次いで
水素添加を行い、目的とするカルバペネム化合物を得た
。
びそれぞれ対応するメルカプト試薬を反応させ、次いで
水素添加を行い、目的とするカルバペネム化合物を得た
。
それらの化合物の構造式および物理データを示せば以下
の第1表にまとめられる。
の第1表にまとめられる。
スズトリ7レー) 5.85gを窒素〃ス気流下無水’
「HF16諭1に溶解し、−60〜−78℃に冷tdl
lN−エチルピペリジン2.03m1及び化合物(40
)3,702gの無水THF溶液8mlを加え同温にて
2時間攪拌した。その後−20℃まで昇温し化合物(2
)2.232gの無水THF溶液8+alを加え、さら
にO″Cまで昇温し、同温にて2時間攪拌した。
「HF16諭1に溶解し、−60〜−78℃に冷tdl
lN−エチルピペリジン2.03m1及び化合物(40
)3,702gの無水THF溶液8mlを加え同温にて
2時間攪拌した。その後−20℃まで昇温し化合物(2
)2.232gの無水THF溶液8+alを加え、さら
にO″Cまで昇温し、同温にて2時間攪拌した。
反応終了後、反応液に10%クエン酸50m1を加え、
クロロホルム100m1で抽出し、無水N02S04で
乾燥し、溶媒を留去した。残渣をシリカデルカフムクロ
マトグラフイー(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:3で
溶出)にて精製し、黄色油状物として化合物(41)を
3.91g(90,1%)で得た。
クロロホルム100m1で抽出し、無水N02S04で
乾燥し、溶媒を留去した。残渣をシリカデルカフムクロ
マトグラフイー(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:3で
溶出)にて精製し、黄色油状物として化合物(41)を
3.91g(90,1%)で得た。
NMR(δ、CD CL)So 、 06 (6H−s
)、0.86(9H,s)、0 、98 (3H,tt
J =7.1 Hz)、1.16(3H,d、J=6.
4Hz)、1.73−1.87(2H1m)、2.90
−4.30(5H,a+)、4.63(2H,s)、4
.93−5.24(I H,a+)、4.63(2H,
l)、4.93 5.24(11(+m)、5.92
(I Hubs)、6.40(I H,d、J=5゜1
Hz)、 7.5 1(4H,d、J=8.9Hz
)8゜20 (4H*d−J =8 、9 Hz)I
R(KBr)ca+−’:1780.1750.170
5゜1695.1600 実施例18 実施例17で得た化合物(41)500mgの無水アセ
トニトリル溶液14m1に、窒素ガス気流下、イミダゾ
ール69.4mgを加え、室温で3時間攪拌後、MgC
02CCHxCOOPNB)242 Fzogの無水ア
セトニトリル溶液9.5 mlを加え室温で20時間攪
件する。次いでアセトニトリルを濃縮し、反応濃縮液に
酢酸エチル301を加え、lN−HCl15%N a
HCOs、飽和食塩水で順次洗浄し、無水Na25O,
で乾燥後溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゾルク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:3
で溶出)にて精製し、微黄色油状物として化合物(42
)を360.5mg(68,9%)得た。
)、0.86(9H,s)、0 、98 (3H,tt
J =7.1 Hz)、1.16(3H,d、J=6.
4Hz)、1.73−1.87(2H1m)、2.90
−4.30(5H,a+)、4.63(2H,s)、4
.93−5.24(I H,a+)、4.63(2H,
l)、4.93 5.24(11(+m)、5.92
(I Hubs)、6.40(I H,d、J=5゜1
Hz)、 7.5 1(4H,d、J=8.9Hz
)8゜20 (4H*d−J =8 、9 Hz)I
R(KBr)ca+−’:1780.1750.170
5゜1695.1600 実施例18 実施例17で得た化合物(41)500mgの無水アセ
トニトリル溶液14m1に、窒素ガス気流下、イミダゾ
ール69.4mgを加え、室温で3時間攪拌後、MgC
02CCHxCOOPNB)242 Fzogの無水ア
セトニトリル溶液9.5 mlを加え室温で20時間攪
件する。次いでアセトニトリルを濃縮し、反応濃縮液に
酢酸エチル301を加え、lN−HCl15%N a
HCOs、飽和食塩水で順次洗浄し、無水Na25O,
で乾燥後溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゾルク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=7:3
で溶出)にて精製し、微黄色油状物として化合物(42
)を360.5mg(68,9%)得た。
NMR(δ=CDCIz):0.05(6H1s)、0
.84(9H,J)、1.10(3H,d、J=6.I
Hz)、3.08−3.12(I H,a+)、3.7
0−4.23(6H,m)、4,53.4.81 (2
H,A B、J=37.9Hz)、5.29(2H,s
)、6.12(IH,bs)、7.53(4H,d、J
=8.9Hz)、8.22(4H,d、J=8.9Hz
)実施例19 実施例18で得た化合物(42)360.5mgのメタ
7−ル溶液11.5mlに水1.7mlと製塩W10゜
15a+lを加え、室温にて9時間攪拌した。次いでメ
タ/−ルを減圧留去して得られた残留物に水10m1を
加え酢酸エチル3011で抽出した。飽和食塩水で洗浄
し、無水Na25O,で乾燥後、溶媒を留去し、残渣を
シリカゾルクロマトグラフィー(酢酸エチル:クロロホ
ルム=1=3で溶出)にて精製し、無色固体として化合
物(43)を定量的に得た。
.84(9H,J)、1.10(3H,d、J=6.I
Hz)、3.08−3.12(I H,a+)、3.7
0−4.23(6H,m)、4,53.4.81 (2
H,A B、J=37.9Hz)、5.29(2H,s
)、6.12(IH,bs)、7.53(4H,d、J
=8.9Hz)、8.22(4H,d、J=8.9Hz
)実施例19 実施例18で得た化合物(42)360.5mgのメタ
7−ル溶液11.5mlに水1.7mlと製塩W10゜
15a+lを加え、室温にて9時間攪拌した。次いでメ
タ/−ルを減圧留去して得られた残留物に水10m1を
加え酢酸エチル3011で抽出した。飽和食塩水で洗浄
し、無水Na25O,で乾燥後、溶媒を留去し、残渣を
シリカゾルクロマトグラフィー(酢酸エチル:クロロホ
ルム=1=3で溶出)にて精製し、無色固体として化合
物(43)を定量的に得た。
実施例20
実施例19で得られた化合物(43) 296.8mg
の無水アセトニトリル溶fi2.3mlにp−ドデシル
ベンゼンスルホン酸アット249.Omgおよびトリエ
チルアミン0.09m1を加え、室温で50分攪拌する
0次いで溶媒を留去し、残渣をシリカゾルクロマトグラ
フィー(酢酸エチルで溶出)にて精製し白色粉末状固体
として化合物(44)293.7H1g(94,1%)
を得た。
の無水アセトニトリル溶fi2.3mlにp−ドデシル
ベンゼンスルホン酸アット249.Omgおよびトリエ
チルアミン0.09m1を加え、室温で50分攪拌する
0次いで溶媒を留去し、残渣をシリカゾルクロマトグラ
フィー(酢酸エチルで溶出)にて精製し白色粉末状固体
として化合物(44)293.7H1g(94,1%)
を得た。
I R(KBr)am−’:3 4 0 0,2 1
5 0,1 7 8 0゜1750.172O NMR(δ、CDCl5):1.27<3H,d、J=
6.4Hz)、2 、22 (I H9bs)、3.1
9−3.27(IH,dd、J=2.2,5.8Hz)
、3.97−4.05(I H,dd、J=2.2,4
.8Hz)、4゜08 4.25(IH,m)、4,5
9,4.74(2H,AB、J=21.9Hz)、5.
24(I H,d。
5 0,1 7 8 0゜1750.172O NMR(δ、CDCl5):1.27<3H,d、J=
6.4Hz)、2 、22 (I H9bs)、3.1
9−3.27(IH,dd、J=2.2,5.8Hz)
、3.97−4.05(I H,dd、J=2.2,4
.8Hz)、4゜08 4.25(IH,m)、4,5
9,4.74(2H,AB、J=21.9Hz)、5.
24(I H,d。
J=4.8Hz)。5 、36 (2’H、s)、6.
07(IH,bs)、7.49−8.31(8H,m)
実施例21 実施例20で得た化合物(44)100mgのトルエン
2 、5 ml、酢酸エチル2 、5 ml混合溶液に
ロジウムアセテ−)1+agを加え、80°Cで1時間
攪拌する0次いで溶媒を留去し、化合物(45)を定量
的に得た。
07(IH,bs)、7.49−8.31(8H,m)
実施例21 実施例20で得た化合物(44)100mgのトルエン
2 、5 ml、酢酸エチル2 、5 ml混合溶液に
ロジウムアセテ−)1+agを加え、80°Cで1時間
攪拌する0次いで溶媒を留去し、化合物(45)を定量
的に得た。
I R(KBr)cm−’:17 B 0,1760,
1750゜1740.152O NMR(δ、CDCl5):1.40(3H,cl、J
=f3.IHz)、1.83 (I H,bs)、3.
69−4.43(4H,m)、4.82(I H,s)
、4.63−5゜46 (4H,a+)、7.52(4
H,d、J=8.9Hz)、8.23(4H,cl、J
=8.9Hz)実施例22 実施例21で得た化合物(45)58,4a+gの無水
アセトニトリル溶液2mlに水冷下ジフェニルリン酸ク
ロライド0.025m1およびジイソプロピルエチルア
ミン0.021m1を加え、同温にて1時間攪拌する。
1750゜1740.152O NMR(δ、CDCl5):1.40(3H,cl、J
=f3.IHz)、1.83 (I H,bs)、3.
69−4.43(4H,m)、4.82(I H,s)
、4.63−5゜46 (4H,a+)、7.52(4
H,d、J=8.9Hz)、8.23(4H,cl、J
=8.9Hz)実施例22 実施例21で得た化合物(45)58,4a+gの無水
アセトニトリル溶液2mlに水冷下ジフェニルリン酸ク
ロライド0.025m1およびジイソプロピルエチルア
ミン0.021m1を加え、同温にて1時間攪拌する。
次いでシステアミンの誘導体35゜0mgおよびジイソ
プロピルエチルアミン7mlを加え一20°Cにて2時
間攪拌後、反応液を濃縮しシリカゾルクロマトグラフィ
ー(クロロホルム:酢酸エチル=1.1、次いでクロロ
ホルムニア七トン=1:1で溶出)にて精製し、化合物
(46)を微黄色油状物として5 4,Omg(6 5
.4%)得た。
プロピルエチルアミン7mlを加え一20°Cにて2時
間攪拌後、反応液を濃縮しシリカゾルクロマトグラフィ
ー(クロロホルム:酢酸エチル=1.1、次いでクロロ
ホルムニア七トン=1:1で溶出)にて精製し、化合物
(46)を微黄色油状物として5 4,Omg(6 5
.4%)得た。
NMR(δ,アセトンーd.):1.3 4(3 H,
d,J =6、1Hz)、2.5 8−4.5 6(8
H,m)、4。
d,J =6、1Hz)、2.5 8−4.5 6(8
H,m)、4。
7 5−5.6 5(6H,m)、6 、 8 4 (
I H 、bs)、7、5 1−8.2 9(1
2 H,+a)次いで上記で得られた化合物(4 6
)5 4.0mgをTHF5,Owlおよび水5.0U
alに溶解し、これに酸化白金21.6Bを加え、3気
圧で1時間接触水素添加を行った.理論量の水素吸収後
、反応液をセライト濾過し、セライト層を少量のメタノ
ールおよび水で洗浄し、tF’WLを集め、エーテルで
洗浄する。次いで水層を凍結乾燥し、化合物(47)を
黄色粉末として1 9.5mg(6 1 、3%)得た
。
I H 、bs)、7、5 1−8.2 9(1
2 H,+a)次いで上記で得られた化合物(4 6
)5 4.0mgをTHF5,Owlおよび水5.0U
alに溶解し、これに酸化白金21.6Bを加え、3気
圧で1時間接触水素添加を行った.理論量の水素吸収後
、反応液をセライト濾過し、セライト層を少量のメタノ
ールおよび水で洗浄し、tF’WLを集め、エーテルで
洗浄する。次いで水層を凍結乾燥し、化合物(47)を
黄色粉末として1 9.5mg(6 1 、3%)得た
。
I R(KBr)cm−’:1 7 8 0.1 7
4 0.1 6 1 ONMR(δ,CD30D+D2
0):1.3 4(3H,d。
4 0.1 6 1 ONMR(δ,CD30D+D2
0):1.3 4(3H,d。
J=6,IHz)、6,6 5 7.3 5(4H+
m)次に本発明の式Iで表わされるカルバペネム化合物
の抗菌活性について記す。
m)次に本発明の式Iで表わされるカルバペネム化合物
の抗菌活性について記す。
攻11【:
日本化学療法学会標準法[C hemotherapy
,vol 29、76〜79(1981)]に準じた寒
天平板希釈法にしたがった。すなわち、被検菌のMue
ller−H inton(M H )寒天液体培地3
7℃、−夜培!!液を約1 0 ’cel Is/ m
lになるようにB uffered saline
gelatin( B S G )溶液で希釈し、ミ
クロプランタ−を用い試験化合物含有MH寒天培地に約
5μ2接種し、37℃、18時間培養後、被検菌の発育
が認められない最少濃度をもってMiniIIlua+
inhibitory concentration
(M r C )とした。
,vol 29、76〜79(1981)]に準じた寒
天平板希釈法にしたがった。すなわち、被検菌のMue
ller−H inton(M H )寒天液体培地3
7℃、−夜培!!液を約1 0 ’cel Is/ m
lになるようにB uffered saline
gelatin( B S G )溶液で希釈し、ミ
クロプランタ−を用い試験化合物含有MH寒天培地に約
5μ2接種し、37℃、18時間培養後、被検菌の発育
が認められない最少濃度をもってMiniIIlua+
inhibitory concentration
(M r C )とした。
なお、使用菌株は標準菌株を用いた。
結果:
本発明の式Iで表わされるカルバペネム化合物の代表的
なもののMICを示すとfi2表にまとめられる。
なもののMICを示すとfi2表にまとめられる。
以上の各実施例ならびに抗菌活性試験より、本発明の式
Iで表わされるカルバペネム化合物は優れた抗菌作用を
有することがわかる。
Iで表わされるカルバペネム化合物は優れた抗菌作用を
有することがわかる。
したがって、これら化合物は有用な抗菌剤となり得るも
のといえる。
のといえる。
手続補正書く自発)
昭和62年3月17日
特許庁長官 黒 1) 明 雄 殿
1、事件の表示
昭和61年特許願第315445号
2、発明の名称
(1R)−1−置換カルバペネム−3−カルボン酸誘導
体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人名 称
日本レダリー株式会社 住 所 〒107 東京都港区赤坂1丁目9番15号
別紙のとおり (1)明細7Fの第七;ジ′(第3行に[ とあるを 「 と訂正する。
体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人名 称
日本レダリー株式会社 住 所 〒107 東京都港区赤坂1丁目9番15号
別紙のとおり (1)明細7Fの第七;ジ′(第3行に[ とあるを 「 と訂正する。
(2) 同@8す(第7〜8付、第9頁第12行および
第21真下よりP54行に1カルバペネム1とあるを「
カルバベナム」と訂正する。
第21真下よりP54行に1カルバペネム1とあるを「
カルバベナム」と訂正する。
(3)同第25真下より第7行に「リン酸二カルラム」
とあるを「リン酸二カリウム」と訂正する。
とあるを「リン酸二カリウム」と訂正する。
(4)同第28頁第10行、第31真第11行おより゛
第34真第1行に[6S」とあるをjbsJと訂正する
。
第34真第1行に[6S」とあるをjbsJと訂正する
。
(5) 同lX530頁第4行に165」とあるなjb
sJと訂正する。
sJと訂正する。
(6) 同第32頁末行にl)+SJとあるを1°bS
」と訂正する。
」と訂正する。
(7) 同第35真第8行に1に230分」とあるを「
にて30分」と訂正する。
にて30分」と訂正する。
(8) 同第40貞第5行に[アミノブタンヂオール」
とあるを「アミ/ブタンチオール」とJf正する。
とあるを「アミ/ブタンチオール」とJf正する。
(9) 同第420下より8行にドア 01)ホルム」
とあるを「クロロホルム」と訂正する。
とあるを「クロロホルム」と訂正する。
(10)同第43真末行に
「
とあるな
[
と訂正する。
(11)同t551頁第4行に17ミ/ビララノニルj
とあるを「アミ/ピペラジニル」と訂正する。
とあるを「アミ/ピペラジニル」と訂正する。
(12)同第58 WEのtpI1表中No、:(0の
欄の1”物理データ」の項の第1行と第2行の間にrl
R(K13r)c+a ’:1780.1740Jを加
入し、同第4竹末尾に128.As、」とあるをr2H
SABJと5丁」Eする。
欄の1”物理データ」の項の第1行と第2行の間にrl
R(K13r)c+a ’:1780.1740Jを加
入し、同第4竹末尾に128.As、」とあるをr2H
SABJと5丁」Eする。
(13)同第60頁の表1(続)中No、35の欄の物
理データの項の末行にl’NMR(δ、CK、0D)J
とあるをjNMR(δ、CD ’y OD ) Jと訂
正する。
理データの項の末行にl’NMR(δ、CK、0D)J
とあるをjNMR(δ、CD ’y OD ) Jと訂
正する。
(14)同@61@第1行に
「
」
とあるを
」
と訂正する。
(15)同第61頁@2行に
[
」
とあるを
[
」
と訂正する。
(16)同第62真下より2行に
とあるを
[
」
と訂正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R^1は低級アルキル基またはアラルキル基を表
わし、R^2は置換アルキル基または複素環式基を表わ
し、R^3は水素原子またはカルボキシル保護基を表わ
す、 で示される(1R)−1−置換カルバペネム−3−カル
ボン酸誘導体。 2、置換アルキル基(R^2)における置換基が、アミ
ノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ア
シルアミノ基、ヒドロキシアルキルアミノ基、モノ(ア
ルコキシカルボニルアルキル)アミノ基、ジ(アルコキ
シカルボニルアルキル)アミノ基、アミノアルキルカル
ボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基または複素環
式基である特許請求の範囲第1項記載の(1R)−1−
置換カルバペネム−3−カルボン酸誘導体。 3、複素環式基がO、NまたはS原子を少なくとも1個
含有する5〜6員環複素環式基である特許請求の範囲第
1項または第2項に記載の(1R)−1−置換カルバペ
ネム−3−カルボン酸誘導体。 4、R^1がメチル基である特許請求の範囲第1項ない
し第3項のいずれか1項に記載の(1R)−1−置換カ
ルバペネム−3−カルボン酸誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61315445A JPH0717644B2 (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | (1r)−1−置換カルバペネム−3−カルボン酸誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61315445A JPH0717644B2 (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | (1r)−1−置換カルバペネム−3−カルボン酸誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63170378A true JPS63170378A (ja) | 1988-07-14 |
JPH0717644B2 JPH0717644B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
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JPS62212388A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Nippon Redarii Kk | (1r)−1−置換カルバペネム−3−カルボン酸誘導体 |
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1986
- 1986-12-29 JP JP61315445A patent/JPH0717644B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
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