JPS63170257A - Ａｌ↓２Ｏ↓３−ＴｉＣ−ＳｉＣ系焼結体の製造方法 - Google Patents
Ａｌ↓２Ｏ↓３−ＴｉＣ−ＳｉＣ系焼結体の製造方法Info
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- JPS63170257A JPS63170257A JP62003061A JP306187A JPS63170257A JP S63170257 A JPS63170257 A JP S63170257A JP 62003061 A JP62003061 A JP 62003061A JP 306187 A JP306187 A JP 306187A JP S63170257 A JPS63170257 A JP S63170257A
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Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、薄膜磁気ヘッド等の基板として有用なアルミ
ナを主成分とするＡＩＯ−ＴｉＣ−９ｉＣ系焼給体の製
造方法に関する。
ナを主成分とするＡＩＯ−ＴｉＣ−９ｉＣ系焼給体の製
造方法に関する。
（従来の技術）
磁気記録分野において、磁気テープや磁気ディスクへの
記録密度の向上はめざましく、特に薄膜磁気ヘッドの実
用化によって記録密度は飛躍的に向上した。
記録密度の向上はめざましく、特に薄膜磁気ヘッドの実
用化によって記録密度は飛躍的に向上した。
Ｎ膜磁気ヘッドは非磁性体の薄い゛基板上に薄膜磁気回
路を形成したものであるが、使用する基板材料の選定は
得られる磁気ヘッドの特性及び製造コストの点等から極
めて重要な問題である。
路を形成したものであるが、使用する基板材料の選定は
得られる磁気ヘッドの特性及び製造コストの点等から極
めて重要な問題である。
現在、薄膜磁気ヘッド基板として主に用いられているの
は、非磁性フェライト又はアルミナ−炭化チタン（Ａｔ
２０３− Ｔｉｃ）焼結体である。
は、非磁性フェライト又はアルミナ−炭化チタン（Ａｔ
２０３− Ｔｉｃ）焼結体である。
しかし、非磁性フェライトは機械的強度が低し耐摩耗性
に乏しい欠点があった。これに対して、Ａ１２０３−
’１”ｉＣ！焼結体は機械的強度及び耐摩耗性には優れ
るものの、被加工性が悪いためにグイシング工程でチッ
ピングが発生しゃ丁く加工歩留が低い、及び加工速度が
小さい等の欠点があった。
に乏しい欠点があった。これに対して、Ａ１２０３−
’１”ｉＣ！焼結体は機械的強度及び耐摩耗性には優れ
るものの、被加工性が悪いためにグイシング工程でチッ
ピングが発生しゃ丁く加工歩留が低い、及び加工速度が
小さい等の欠点があった。
本発明は、か＼る従来の事情に鑑み、機械的特性に優れ
たＡ１２０３−ＴｉＯ焼結体の被加工性を改善して、薄
膜磁気ヘッド用基板等に好適な高強度のＡ／２０３−
ＴｉＣ −Ｓｉ０．１％ ｆｉ 給体を提供することヲ
［的とＴるものである。
たＡ１２０３−ＴｉＯ焼結体の被加工性を改善して、薄
膜磁気ヘッド用基板等に好適な高強度のＡ／２０３−
ＴｉＣ −Ｓｉ０．１％ ｆｉ 給体を提供することヲ
［的とＴるものである。
本発明のＡｔ Ｏ−ＴｉＣ−３ｉＣ系焼結体の製造方法
は、平均粒径２μｍ以下の炭化チタン粉末を１０〜５０
重量−と、平均粒径２μｍの炭化クイ素粉末を１〜２０
重量％と、４０重量−以上のアルミナ粉末とを混合し、
この混合粉末の成形体を非酸化性雰囲気中において１３
５０１：’〜１７５０１：ｌ’で焼結することを特徴と
する。
は、平均粒径２μｍ以下の炭化チタン粉末を１０〜５０
重量−と、平均粒径２μｍの炭化クイ素粉末を１〜２０
重量％と、４０重量−以上のアルミナ粉末とを混合し、
この混合粉末の成形体を非酸化性雰囲気中において１３
５０１：’〜１７５０１：ｌ’で焼結することを特徴と
する。
原料粉末であるアルミナ（ｈｔ２ｏ、 ）粉末、炭化チ
タン（ＴｉＣ ）粉末及び炭化ケイ素（ＳＩＣ）粉末は
ボールミル、超音波応用混合等の通常の方法により均一
に分散させることが大切である。均一分散させた混合粉
末の成形及び焼結も通常の方法によるが、ホットプレス
、真空焼結、熱間静水圧プレス等の焼結方法によるのが
好ましい。
タン（ＴｉＣ ）粉末及び炭化ケイ素（ＳＩＣ）粉末は
ボールミル、超音波応用混合等の通常の方法により均一
に分散させることが大切である。均一分散させた混合粉
末の成形及び焼結も通常の方法によるが、ホットプレス
、真空焼結、熱間静水圧プレス等の焼結方法によるのが
好ましい。
（作用〕
本発明の焼結体において、Ａｔ Ｏは骨格を構成する主
成分であって４０重量％以上が必要である。
成分であって４０重量％以上が必要である。
ＴｉＣは主たる分散相をなし、添加量が１０重量％未満
では基板強度が低く、切断抵抗が高い等被加工性が低下
し、逆に５０重量％を超えると焼結性が低下して焼結体
に欠陥が増加すると共に、強度が低下Ｔる。
では基板強度が低く、切断抵抗が高い等被加工性が低下
し、逆に５０重量％を超えると焼結性が低下して焼結体
に欠陥が増加すると共に、強度が低下Ｔる。
ＳｉＯは特に焼結体の被加工性を改善させる効果が大き
い。その理由はＳｉＣとＡｔ Ｏの熱膨張差が大きいの
で、焼結後の冷却中に焼結体にマイクロクラックが導入
されるためと考えられる。しかし、このＳｉＣの添加量
が１重量％未満では上記の被加工性の改善効果が見られ
ず、又添加量が２０重量％を超えると焼結体強度が急激
に低下する。尚、使用するＳＩＣ粉末はα型又はβ型で
も良く、またこれらの混合物であってもよい。
い。その理由はＳｉＣとＡｔ Ｏの熱膨張差が大きいの
で、焼結後の冷却中に焼結体にマイクロクラックが導入
されるためと考えられる。しかし、このＳｉＣの添加量
が１重量％未満では上記の被加工性の改善効果が見られ
ず、又添加量が２０重量％を超えると焼結体強度が急激
に低下する。尚、使用するＳＩＣ粉末はα型又はβ型で
も良く、またこれらの混合物であってもよい。
更に、ＴｉＣ粉末及びＳＩＣ粉末の平均粒度を共に２μ
ｍ以下とする理由は、平均粒度が２μｍを超えると焼結
体強度が非常に低くなると共に、基板の加工時にチッピ
ングが発生し易くなるためである。
ｍ以下とする理由は、平均粒度が２μｍを超えると焼結
体強度が非常に低くなると共に、基板の加工時にチッピ
ングが発生し易くなるためである。
尚、上記のＡｌ０１ＴＩＣ及びＳｉＯ以外にも、当分野
において公知の添加物を１０重量％以下の量で添加Ｔる
こともできる。例えば、ＡｔＯの構成長を抑制する目的
でＭｇＯやＴｉＯを添加する等の例がある。
において公知の添加物を１０重量％以下の量で添加Ｔる
こともできる。例えば、ＡｔＯの構成長を抑制する目的
でＭｇＯやＴｉＯを添加する等の例がある。
Ａｌ２Ｏ３ 粉末（平均粒径０．４μｍ）に、ＴｉＣ粉
末（平均粒径０．８μｍ）及びＳＩＣ粉末（β型、平均
粒径０．２μｍ）を下記第１表に示す割合で配合し、成
形して焼結した。
末（平均粒径０．８μｍ）及びＳＩＣ粉末（β型、平均
粒径０．２μｍ）を下記第１表に示す割合で配合し、成
形して焼結した。
第 １ 表
２’８２８１０− ＃
３７８１２１０− ＃
４６５２５１０− ＃
６’ ２５ ６５ １０ − ・？
？４．５ ２ｃ； ｏ、ｓ −ｔｐ１０６０２
５１５− ｐ １１※ ５０ ２５ ２５ − １２６４２５１０１％ＴｉＯ□〃 １３６４２５１０１％Ｙ２Ｏ３〃 １４６５２５１０− ＶＳ１７００Ｘ２ＨＩｌ’１６５
０Ｘ１１５※ ６５ ２５ １０ − ＨＰ
１３００Ｘ２１６＊７０ ３０ − −
ＨＰ１７００Ｘ２（註）サンプルム１．２．６．７．１
１．１５及び１６は比較例。焼結条件のＨＰはホットプ
レス、ＨｘＰは熱間静水圧プレス及びＶＳは真空焼結を
夫々意味する〇 製造した各焼結体から試験片を切り出し、夫々比重、曲
げ強度（噸−）及び靭性（ＭＮ７ｈｙｎ３／２）を測定
した。更に、切断刃を用いた被加工性テストにより切断
抵抗及びチッピングの発生を調べ、サンプル黒１６を基
準（１０）とする相対値で示した。
？４．５ ２ｃ； ｏ、ｓ −ｔｐ１０６０２
５１５− ｐ １１※ ５０ ２５ ２５ − １２６４２５１０１％ＴｉＯ□〃 １３６４２５１０１％Ｙ２Ｏ３〃 １４６５２５１０− ＶＳ１７００Ｘ２ＨＩｌ’１６５
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１３００Ｘ２１６＊７０ ３０ − −
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１．１５及び１６は比較例。焼結条件のＨＰはホットプ
レス、ＨｘＰは熱間静水圧プレス及びＶＳは真空焼結を
夫々意味する〇 製造した各焼結体から試験片を切り出し、夫々比重、曲
げ強度（噸−）及び靭性（ＭＮ７ｈｙｎ３／２）を測定
した。更に、切断刃を用いた被加工性テストにより切断
抵抗及びチッピングの発生を調べ、サンプル黒１６を基
準（１０）とする相対値で示した。
得られた測定結果を第２表に併せて表示した。
第２表
？１００ １０５ ６ １５ １２※
’７’ １００ １０５ ６ ８ １０１
１’ ９５ ６０ ８ １５ ８１４
Ｚｏｏ ９５ ７
２ １１５’ ８３ ４０ ８
３２ ５１６’ １００ ９０ ５
１０ １０（註）サンプルＡ １．２．６．７．１
１．１５及び１６は比較例。本発明のサンプルは機械的
特性及び被加工性共に優れていることが判る。
１’ ９５ ６０ ８ １５ ８１４
Ｚｏｏ ９５ ７
２ １１５’ ８３ ４０ ８
３２ ５１６’ １００ ９０ ５
１０ １０（註）サンプルＡ １．２．６．７．１
１．１５及び１６は比較例。本発明のサンプルは機械的
特性及び被加工性共に優れていることが判る。
本発明によれば、優れた機械的特性を有すると同時に被
加工性に優れたＡｌＯ−ＴｉＣ−８ｉＣ系焼結体を提供
Ｔることができるので、基板等への加工歩留を飛躍的に
向上させることができ、しかも加工速度も早いので加工
能率を高めることができる。
加工性に優れたＡｌＯ−ＴｉＣ−８ｉＣ系焼結体を提供
Ｔることができるので、基板等への加工歩留を飛躍的に
向上させることができ、しかも加工速度も早いので加工
能率を高めることができる。
本発明のＡ／ ０−ＴｉＣ−３ｉＯ系焼結体は、薄膜磁
気ヘッド用基板として好適であるが、その他にも例えば
サーマルプリンターヘッド等の基板、セラミックミラー
用基板、更には一般構造材等として広い用途を有するも
のである。
気ヘッド用基板として好適であるが、その他にも例えば
サーマルプリンターヘッド等の基板、セラミックミラー
用基板、更には一般構造材等として広い用途を有するも
のである。
Claims (1)
- （１）平均粒径２μｍ以下の炭化チタン粉末を１０〜５
０重量％と、平均粒径２μｍの炭化ケイ素粉末を１〜２
０重量％と、４０重量％以上のアルミナ粉末とを混合し
、この混合粉末の成形体を非酸化性雰囲気中において１
３５０℃〜１７５０℃で焼結することを特徴とするＡｌ
＿２Ｏ＿３−ＴｉＣ−ＳｉＣ系焼結体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62003061A JPS63170257A (ja) | 1987-01-09 | 1987-01-09 | Ａｌ↓２Ｏ↓３−ＴｉＣ−ＳｉＣ系焼結体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62003061A JPS63170257A (ja) | 1987-01-09 | 1987-01-09 | Ａｌ↓２Ｏ↓３−ＴｉＣ−ＳｉＣ系焼結体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63170257A true JPS63170257A (ja) | 1988-07-14 |
Family
ID=11546811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62003061A Pending JPS63170257A (ja) | 1987-01-09 | 1987-01-09 | Ａｌ↓２Ｏ↓３−ＴｉＣ−ＳｉＣ系焼結体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63170257A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7345849B2 (en) | 2004-06-30 | 2008-03-18 | Tdk Corporation | Magnetic head slider material, magnetic head slider, and method of manufacturing magnetic head slider material |
| JP2015193491A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-05 | 香川県 | 強靭性の静電気放電防止黒色セラミックスおよびその製造方法 |
-
1987
- 1987-01-09 JP JP62003061A patent/JPS63170257A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7345849B2 (en) | 2004-06-30 | 2008-03-18 | Tdk Corporation | Magnetic head slider material, magnetic head slider, and method of manufacturing magnetic head slider material |
| JP2015193491A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-05 | 香川県 | 強靭性の静電気放電防止黒色セラミックスおよびその製造方法 |
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