JPS6316924Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6316924Y2 JPS6316924Y2 JP1983114343U JP11434383U JPS6316924Y2 JP S6316924 Y2 JPS6316924 Y2 JP S6316924Y2 JP 1983114343 U JP1983114343 U JP 1983114343U JP 11434383 U JP11434383 U JP 11434383U JP S6316924 Y2 JPS6316924 Y2 JP S6316924Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- segment
- ring
- shaft
- seal
- gap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Sealing Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案はセグメントシールに関する。
セグメントシールは、円周方向に複数個に分割
されたセグメントから成るセグメントリングによ
り回転軸との間及びセグメントリングの直角の面
とフランジ等との間をシールする構成のものであ
る。
されたセグメントから成るセグメントリングによ
り回転軸との間及びセグメントリングの直角の面
とフランジ等との間をシールする構成のものであ
る。
第1図に最も単純なセグメントシールの例を示
す。図中1はシールボツクス、2は回転軸、3は
シールフランジ、4はセグメントリングである。
セグメントリング4は第2図に示すように円弧状
の複数の(図では3片)のセグメント40から構
成されており、このセグメント40をリング状に
組合せ、これを外周からバネ5の弾力により軸芯
方向に押付けて保持している。この各セグメント
40の形状には種々のものがあり、第2図にしめ
すように放射状に分割され分割面に隙間Hを設け
て回転軸に装着されるラジアルカツトリング、斜
線で分割したタンゼンシヤルカツトリング、或い
は放射状に分割されていて、分割面の隙間がなく
回転軸との間に隙間を形成するクリアランスリン
グ等が知られている。
す。図中1はシールボツクス、2は回転軸、3は
シールフランジ、4はセグメントリングである。
セグメントリング4は第2図に示すように円弧状
の複数の(図では3片)のセグメント40から構
成されており、このセグメント40をリング状に
組合せ、これを外周からバネ5の弾力により軸芯
方向に押付けて保持している。この各セグメント
40の形状には種々のものがあり、第2図にしめ
すように放射状に分割され分割面に隙間Hを設け
て回転軸に装着されるラジアルカツトリング、斜
線で分割したタンゼンシヤルカツトリング、或い
は放射状に分割されていて、分割面の隙間がなく
回転軸との間に隙間を形成するクリアランスリン
グ等が知られている。
第2図に示すラジアルカツトリングや或いはタ
ンゼンシヤルカツトリングは軸外周と接触し、摩
耗に従つて各セグメントが軸芯方向へ動くように
構成されている。一方クリアランスリングはその
内径が軸外径よりわずかに大きく形成され、軸と
の間に微少隙間を形成しているが、いずれの場合
も軸外周との間でシールを行つている。そのた
め、ラジアルカツトリングやタンゼンシヤルカツ
トリングにおいては、軸外周への均一な密着が必
要とされ、またクリアランスリングにおいては軸
との隙間を極力均一化することが重要である。特
にガスパージを行なう場合には、密着や隙間が不
均一になるとパージガス量が増大し省エネルギの
点から好ましくない。
ンゼンシヤルカツトリングは軸外周と接触し、摩
耗に従つて各セグメントが軸芯方向へ動くように
構成されている。一方クリアランスリングはその
内径が軸外径よりわずかに大きく形成され、軸と
の間に微少隙間を形成しているが、いずれの場合
も軸外周との間でシールを行つている。そのた
め、ラジアルカツトリングやタンゼンシヤルカツ
トリングにおいては、軸外周への均一な密着が必
要とされ、またクリアランスリングにおいては軸
との隙間を極力均一化することが重要である。特
にガスパージを行なう場合には、密着や隙間が不
均一になるとパージガス量が増大し省エネルギの
点から好ましくない。
しかし、セグメントリングを形成する各セグメ
ントは半径方向の剛性が高いため、その内周の曲
率と軸外周の曲率とに少しでも差があると、セグ
メントと軸との間の密着性が悪化したり、或いは
隙間が不均一になる欠点があつた。第3図にこの
状態を極大化したものをタンゼンシヤルカツトリ
ングの場合つき示す。Aはセグメント40の曲率
が軸外周の曲率より大きい場合Bは小さい場合で
あつたり、いずれの場合にも隙間Sが生じる。第
3図Aの場合はα部分、Bの場合にはβ部分で軸
2と接触摺動するが、他の部分が軸と接触し摺動
するようになるには相当長時間の運転を要し、そ
のため長時間のならし運転やなじみ運転を行つた
後でなければセグメントシールによるパージガス
量の密封性能は確保されないことになる。
ントは半径方向の剛性が高いため、その内周の曲
率と軸外周の曲率とに少しでも差があると、セグ
メントと軸との間の密着性が悪化したり、或いは
隙間が不均一になる欠点があつた。第3図にこの
状態を極大化したものをタンゼンシヤルカツトリ
ングの場合つき示す。Aはセグメント40の曲率
が軸外周の曲率より大きい場合Bは小さい場合で
あつたり、いずれの場合にも隙間Sが生じる。第
3図Aの場合はα部分、Bの場合にはβ部分で軸
2と接触摺動するが、他の部分が軸と接触し摺動
するようになるには相当長時間の運転を要し、そ
のため長時間のならし運転やなじみ運転を行つた
後でなければセグメントシールによるパージガス
量の密封性能は確保されないことになる。
このような問題を回避するために、従来ではセ
グメントの加工精度を上げてセグメント内周の曲
率を出来る限り軸外周の曲率に近似させる努力が
行われているが、そのやめに加工製作に多大の時
間と手間を要しているのが現状である。
グメントの加工精度を上げてセグメント内周の曲
率を出来る限り軸外周の曲率に近似させる努力が
行われているが、そのやめに加工製作に多大の時
間と手間を要しているのが現状である。
本考案は上記したセグメントリングと軸外周と
の間に生ずる密着性不良或いは隙間の不均一を解
決するためになされたもので、セグメントリング
として可撓性のものを採用し、該セグメントリン
グの外周から内周側へ向けて切欠きを形成したこ
とを基本的な特徴とするものである。
の間に生ずる密着性不良或いは隙間の不均一を解
決するためになされたもので、セグメントリング
として可撓性のものを採用し、該セグメントリン
グの外周から内周側へ向けて切欠きを形成したこ
とを基本的な特徴とするものである。
以下本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
第4図はガスパージを行うシールに本考案を適
用した例を示すもので、この実施例においてはシ
ールボツクス1を2室に分け、その間に封止ガス
封入口6を形成し、ここから封止ガスを封入する
構成となつている。またセグメントリング10も
大気側と機内側とに設置し、それぞれシールフラ
ンジ3,3との間に接合面7,7を形成してい
る。その他第1図と同一のものには同一の番号を
付してある。
用した例を示すもので、この実施例においてはシ
ールボツクス1を2室に分け、その間に封止ガス
封入口6を形成し、ここから封止ガスを封入する
構成となつている。またセグメントリング10も
大気側と機内側とに設置し、それぞれシールフラ
ンジ3,3との間に接合面7,7を形成してい
る。その他第1図と同一のものには同一の番号を
付してある。
このセグメントリング10は軟性体或いは弾性
体等の可撓性を有する材質を用いている。具体的
にはテフロン等の合成樹脂を挙げることができ、
これにガラス繊維やカーボンを混入させたもの等
も使用可能である。
体等の可撓性を有する材質を用いている。具体的
にはテフロン等の合成樹脂を挙げることができ、
これにガラス繊維やカーボンを混入させたもの等
も使用可能である。
このセグメントリング10の各セグメント10
0には切欠11が形成してある。この切欠11の
形状は種々のものが可能であり、例えば第5図に
示すU字状、第6図に示すV字状等の形状が可能
である。また単なる切れ目としても良いが、この
場合には軸芯方向にのみ撓むようになる。また第
7図に示すように、廻り止めピン用の透通孔8の
端部をセグメント100外周まで伸ばして、これ
を切欠11としても良い。また切欠11の深さは
深いほうが可撓性を増すが、シールフランジ3の
下端より深いと、ここから漏れを生ずるため、こ
れより浅い位置とする。
0には切欠11が形成してある。この切欠11の
形状は種々のものが可能であり、例えば第5図に
示すU字状、第6図に示すV字状等の形状が可能
である。また単なる切れ目としても良いが、この
場合には軸芯方向にのみ撓むようになる。また第
7図に示すように、廻り止めピン用の透通孔8の
端部をセグメント100外周まで伸ばして、これ
を切欠11としても良い。また切欠11の深さは
深いほうが可撓性を増すが、シールフランジ3の
下端より深いと、ここから漏れを生ずるため、こ
れより浅い位置とする。
また切欠11の数及び形成する位置は必要に応
じて決定すれば良い。
じて決定すれば良い。
なお、第5図はラジアルカツトリング、第6図
はタンゼンシヤルカツトリング、第7図はクリア
ランスリング、第8図はブリツジリングの例を示
す。
はタンゼンシヤルカツトリング、第7図はクリア
ランスリング、第8図はブリツジリングの例を示
す。
以上の構成において、セグメントリング10は
バネ5の力により切欠11において半径方向に撓
んで拡大又は緒小するため、軸2との密着性が高
くなる。またクリアランスリングの場合には軸2
との隙間の均一性が高くなる。その結果シール性
が高くなり、ガスパージを行う場合にはガス量の
削減が図れる。
バネ5の力により切欠11において半径方向に撓
んで拡大又は緒小するため、軸2との密着性が高
くなる。またクリアランスリングの場合には軸2
との隙間の均一性が高くなる。その結果シール性
が高くなり、ガスパージを行う場合にはガス量の
削減が図れる。
以上説明したように、本考案のセグメントシー
ルによれば、セグメントリングの軸への密着性或
いは隙間の均一性が高く、シール性の向上が図れ
る利点がある。
ルによれば、セグメントリングの軸への密着性或
いは隙間の均一性が高く、シール性の向上が図れ
る利点がある。
第1図乃至第3図は従来のセグメントシールの
説明図、第4図は本考案のセグメントシールの半
断面図、第5図乃至第8図はセグメントリングの
正面図である。 10……セグメントリング、11……切欠。
説明図、第4図は本考案のセグメントシールの半
断面図、第5図乃至第8図はセグメントリングの
正面図である。 10……セグメントリング、11……切欠。
Claims (1)
- セグメントリングとして可撓性材質のものを採
用し、該リングの外周から内周側へ向けて切欠き
を形成したことを特徴とするセグメントシール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11434383U JPS6023363U (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | セグメントシ−ル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11434383U JPS6023363U (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | セグメントシ−ル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6023363U JPS6023363U (ja) | 1985-02-18 |
JPS6316924Y2 true JPS6316924Y2 (ja) | 1988-05-13 |
Family
ID=30264354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11434383U Granted JPS6023363U (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | セグメントシ−ル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6023363U (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4675643B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2011-04-27 | 株式会社東芝 | ジャーナル軸受 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS545978U (ja) * | 1977-06-16 | 1979-01-16 |
-
1983
- 1983-07-25 JP JP11434383U patent/JPS6023363U/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS545978U (ja) * | 1977-06-16 | 1979-01-16 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6023363U (ja) | 1985-02-18 |
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