JPS63161527A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、非磁性支持体と磁性層間、あるいは非磁性支
持体とバックコート層間に輻射線硬化型のアンダーコー
ト層を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
持体とバックコート層間に輻射線硬化型のアンダーコー
ト層を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
(従来の技術)
磁気テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体は、ポリエ
ステルフィルム等の非磁性支持体上に磁性体の微粉とバ
インダー(結合樹脂)からなる磁性層を設け°た構造と
なっているが、近年種々の特性向上のため、非磁性支持
体と磁性層間、あるいは非磁性体とバックコート(裏塗
り)層間にアンダーコート(下塗り)層を設けることが
行なわれている。
ステルフィルム等の非磁性支持体上に磁性体の微粉とバ
インダー(結合樹脂)からなる磁性層を設け°た構造と
なっているが、近年種々の特性向上のため、非磁性支持
体と磁性層間、あるいは非磁性体とバックコート(裏塗
り)層間にアンダーコート(下塗り)層を設けることが
行なわれている。
アンダーコート層のバインダーとして輻射線硬化性樹脂
を用い、硬化手段として電子線、紫外線等の輻射線硬化
を適用したアンダーコート層は、高速硬化が可能で生産
性に優れる等、種々の工業的利点を有する。
を用い、硬化手段として電子線、紫外線等の輻射線硬化
を適用したアンダーコート層は、高速硬化が可能で生産
性に優れる等、種々の工業的利点を有する。
輻射線硬化性樹脂を用いたアンダーコート塗料としての
特徴の一つに、低粘度の創射線硬化性モノマー、オリゴ
マー類を反応性希釈剤として用いることで、所謂無溶剤
組成とする事が出来、通常の塗料の様な溶剤での希釈が
不要となる事がある。
特徴の一つに、低粘度の創射線硬化性モノマー、オリゴ
マー類を反応性希釈剤として用いることで、所謂無溶剤
組成とする事が出来、通常の塗料の様な溶剤での希釈が
不要となる事がある。
この無溶剤塗料化は、溶剤乾燥工程の省略によル省資源
、省スペース、省エネルギー化、溶剤使用に伴う環境汚
染の防止等、数々の利点をもたらす為、特に現代に適合
した技術と言うことが出来よう。
、省スペース、省エネルギー化、溶剤使用に伴う環境汚
染の防止等、数々の利点をもたらす為、特に現代に適合
した技術と言うことが出来よう。
(発明が解決しようとする問題点)
ところが無溶剤化した輻射線硬化型アンダーコート塗料
は、所望される塗膜物性の点から無闇に粘度を低下せし
める事が出来ず、溶剤を用いた従来の塗料に比較して粘
度の低下が不十分となる。
は、所望される塗膜物性の点から無闇に粘度を低下せし
める事が出来ず、溶剤を用いた従来の塗料に比較して粘
度の低下が不十分となる。
このため非磁性支持体への塗布に際して塗膜表面のレベ
リングが十分で無く、これを補なうためスムーザ−によ
る平滑化処理を行なうと、塗料粘度が高過ぎるため、か
えってアンダーコート層の平滑性低下、膜厚のむら等を
生ずる問題があった。
リングが十分で無く、これを補なうためスムーザ−によ
る平滑化処理を行なうと、塗料粘度が高過ぎるため、か
えってアンダーコート層の平滑性低下、膜厚のむら等を
生ずる問題があった。
本発明者等は、これ等諸問題の解決を目的として鋭意検
討した結果、特定の状態でスムーザ−により平滑化を行
なう磁気記録媒体の製造方法は、上記諸欠点を解消し得
たものであることを見い出し、本発明の完成に至ったも
のである。
討した結果、特定の状態でスムーザ−により平滑化を行
なう磁気記録媒体の製造方法は、上記諸欠点を解消し得
たものであることを見い出し、本発明の完成に至ったも
のである。
本発明の目的は、輻射線硬化型アンダーコート層を存す
る磁気記録媒体の製造方法において、無溶剤化したアン
ダーコート塗料を使用した場合でも、アンダーコート層
表面の平滑性が良好な、磁気記録媒体の製造方法を提供
することにある。
る磁気記録媒体の製造方法において、無溶剤化したアン
ダーコート塗料を使用した場合でも、アンダーコート層
表面の平滑性が良好な、磁気記録媒体の製造方法を提供
することにある。
[発明の構成]
(間通点を解決するための手段と作用)本発明の特徴は
、輻射線硬化型アンダーコート層を有する磁気記録媒体
の製造方法において、非磁性支持体上に無溶剤化したア
ンダーコート層を塗布した後、該層を加熱し塗膜の粘度
を下げた上で、該層をスムーザ−により平滑化する点に
あり、これによりアンダーコート塗料を無溶剤化する際
の宿命である、塗料粘度の高さとこれに伴う塗膜形成時
の困難を回避することが出来る。
、輻射線硬化型アンダーコート層を有する磁気記録媒体
の製造方法において、非磁性支持体上に無溶剤化したア
ンダーコート層を塗布した後、該層を加熱し塗膜の粘度
を下げた上で、該層をスムーザ−により平滑化する点に
あり、これによりアンダーコート塗料を無溶剤化する際
の宿命である、塗料粘度の高さとこれに伴う塗膜形成時
の困難を回避することが出来る。
即ち通常の溶剤を使用した塗料では加熱により溶剤が揮
発し、塗膜の粘度が一層高くなるのに対し、無溶剤型塗
料ではこれが生ぜず、輻射線照射による塗膜乾燥までは
未乾燥状態にあるため、始めて加熱による粘度低下が可
能となるのであり、無溶剤化による利点を生かした上で
、高品質の磁気記録媒体を生産性良く製造することが可
能となる。
発し、塗膜の粘度が一層高くなるのに対し、無溶剤型塗
料ではこれが生ぜず、輻射線照射による塗膜乾燥までは
未乾燥状態にあるため、始めて加熱による粘度低下が可
能となるのであり、無溶剤化による利点を生かした上で
、高品質の磁気記録媒体を生産性良く製造することが可
能となる。
(実施例)
本発明は、非磁性支持体と磁性層間、あるいは非磁性支
持体とバックコート層間に輻射線硬化型のアンダーコー
ト層を有する磁気記録媒体ゐ製造方法において、アンダ
ーコート層の形成が、非磁性支持体上にアンダーコート
層を塗布する工程、該層を加熱する工程、該層をスムー
ザ−により平滑化する工程、そして該層を輻射線照射に
より硬化せしめる工程から成ることを特徴とし、更にア
ンダーコート層を構成する塗料が、溶剤を全く含有しな
いか、又はバインダー合計100部(重量部、以下同じ
)に対し溶剤を20部以下の範囲で配合したものからな
ることを特徴とし、更にアンダーコート層の塗布方法が
、グラビアコート法であることを特徴とし、更にアンダ
ーコート層を構成する塗料が、バインダー合計100部
に対し光重合開始剤を1部以上20部以下の範囲で配合
したものからなり、かつ輻射線の種類が紫外線であるこ
とを特徴とするものである。
持体とバックコート層間に輻射線硬化型のアンダーコー
ト層を有する磁気記録媒体ゐ製造方法において、アンダ
ーコート層の形成が、非磁性支持体上にアンダーコート
層を塗布する工程、該層を加熱する工程、該層をスムー
ザ−により平滑化する工程、そして該層を輻射線照射に
より硬化せしめる工程から成ることを特徴とし、更にア
ンダーコート層を構成する塗料が、溶剤を全く含有しな
いか、又はバインダー合計100部(重量部、以下同じ
)に対し溶剤を20部以下の範囲で配合したものからな
ることを特徴とし、更にアンダーコート層の塗布方法が
、グラビアコート法であることを特徴とし、更にアンダ
ーコート層を構成する塗料が、バインダー合計100部
に対し光重合開始剤を1部以上20部以下の範囲で配合
したものからなり、かつ輻射線の種類が紫外線であるこ
とを特徴とするものである。
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、アンダーコート層
の平滑、化を上記せる条件で行なう他は、通常一般の磁
気記録媒体の製造方法によることが出来る。より具体的
には非磁性支持体の面上にアンダーコート層を構成する
塗料を塗布し、該層を加熱し塗膜の粘度を下げた上で、
該層をスムーザ−により平滑化した後、該層に輻射線を
照射して該層を硬化せしめて得たアンダーコート層の上
層に、磁性塗料を塗布、硬化して磁性層を形成する方法
であり、磁性塗料に代ってバックコート(裏塗り)塗料
を使用すればバックコート(裏塗り)層の形成に適用す
ることも可能である。また同一の非磁性支持体の表裏に
これを繰り返すことにより、両面にアンダーコート層/
磁性層を具備した磁気記録媒体を得ることも可能である
。
の平滑、化を上記せる条件で行なう他は、通常一般の磁
気記録媒体の製造方法によることが出来る。より具体的
には非磁性支持体の面上にアンダーコート層を構成する
塗料を塗布し、該層を加熱し塗膜の粘度を下げた上で、
該層をスムーザ−により平滑化した後、該層に輻射線を
照射して該層を硬化せしめて得たアンダーコート層の上
層に、磁性塗料を塗布、硬化して磁性層を形成する方法
であり、磁性塗料に代ってバックコート(裏塗り)塗料
を使用すればバックコート(裏塗り)層の形成に適用す
ることも可能である。また同一の非磁性支持体の表裏に
これを繰り返すことにより、両面にアンダーコート層/
磁性層を具備した磁気記録媒体を得ることも可能である
。
本発明の輻射線硬化型アンダーコート層は、輻射線硬化
性樹脂を主成分とし、輻射線硬化性モノマー、オリゴマ
ー類から成る反応性希釈剤と、必要に応じて熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂等とを加えてなるバインダー単独乃至
これに必要に応じて各種フィラー、添加剤等を適宜配合
してなる塗料を紫外線により硬化せしめたものである。
性樹脂を主成分とし、輻射線硬化性モノマー、オリゴマ
ー類から成る反応性希釈剤と、必要に応じて熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂等とを加えてなるバインダー単独乃至
これに必要に応じて各種フィラー、添加剤等を適宜配合
してなる塗料を紫外線により硬化せしめたものである。
本発明の輻射線硬化性樹脂は、公知の各種輻射線硬化性
樹脂が使用可能である。
樹脂が使用可能である。
例としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基2メ
タクリロイル基等の不飽和二重結合、エポキシ基等を有
する樹脂か挙げられるが、硬化性の点から不飽和ポリエ
ステル系、アクリレート系等のラジカル重合型、ポリエ
ン−ポリチオール系等のラジカル付加型、エポキシ樹脂
等からなるカチオン重合型等の樹脂の使用が一般的であ
り、中でも(メタ)アクリロイル基を有するアクリレー
ト系の樹脂は硬化性、硬化物の物性バランスに優れるた
め本発明の用途には最適である。
タクリロイル基等の不飽和二重結合、エポキシ基等を有
する樹脂か挙げられるが、硬化性の点から不飽和ポリエ
ステル系、アクリレート系等のラジカル重合型、ポリエ
ン−ポリチオール系等のラジカル付加型、エポキシ樹脂
等からなるカチオン重合型等の樹脂の使用が一般的であ
り、中でも(メタ)アクリロイル基を有するアクリレー
ト系の樹脂は硬化性、硬化物の物性バランスに優れるた
め本発明の用途には最適である。
このアクリレート系の樹脂は、分子内に(メタ)アクリ
ロイル基を一個以上有する樹脂で、中でも分子量が20
0以上50000以下の範囲にあるオリゴマーが好適で
ある。
ロイル基を一個以上有する樹脂で、中でも分子量が20
0以上50000以下の範囲にあるオリゴマーが好適で
ある。
例としては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ
(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレ
ート、ポリオール(メタ)アクリレート、ポリブタジェ
ン(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレー
ト、ポリアセタール(メタ)アクリレート、シリコーン
(メタ)アクリレート、ポリアミド(メタ)アクリレー
ト、複素環含有(メタ)アクリレート等があるが、この
他にも各種塗料用樹脂を変性し分子内に(メタ)アクリ
ロイル基を導入した樹脂等を用いることができ、これ等
を単独乃至混合して使用する。
(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレ
ート、ポリオール(メタ)アクリレート、ポリブタジェ
ン(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレー
ト、ポリアセタール(メタ)アクリレート、シリコーン
(メタ)アクリレート、ポリアミド(メタ)アクリレー
ト、複素環含有(メタ)アクリレート等があるが、この
他にも各種塗料用樹脂を変性し分子内に(メタ)アクリ
ロイル基を導入した樹脂等を用いることができ、これ等
を単独乃至混合して使用する。
本発明の反応性希釈剤は、公知の輻射線硬化性モノマー
、オリゴマー類が使用可能である。輻射線硬化性モノマ
ー、オリゴマー類とは上記した輻射線硬化性樹脂のうち
、比較的低分子量かつ低粘度のものを差すもので明確な
区別はないが、主として分子内に(メタ)アクリロイル
基を一個以上有するアクリレート系の樹脂で、分子量が
200以上700以下の範囲にあるモノマー、オリゴマ
ーが好適である。
、オリゴマー類が使用可能である。輻射線硬化性モノマ
ー、オリゴマー類とは上記した輻射線硬化性樹脂のうち
、比較的低分子量かつ低粘度のものを差すもので明確な
区別はないが、主として分子内に(メタ)アクリロイル
基を一個以上有するアクリレート系の樹脂で、分子量が
200以上700以下の範囲にあるモノマー、オリゴマ
ーが好適である。
例としてはブチルアクリレート、2−エチルへキシルア
クリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート。
クリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート。
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロビルアクリレート
、グリシジルアクリレート等の単官能モノマー類;1,
3−ブタンジオールジアクリレート。
、グリシジルアクリレート等の単官能モノマー類;1,
3−ブタンジオールジアクリレート。
1.4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコ−ジアクリレート、
ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコール
ジアクリレート等の三官能モノマー、オリゴマー類;ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、チクラメチロールメタンテ
トラアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアク
リレート等の多官能モノマー、オリゴマー類があり、こ
れ等を単独乃至は混合して使用する。
サンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコ−ジアクリレート、
ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコール
ジアクリレート等の三官能モノマー、オリゴマー類;ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、チクラメチロールメタンテ
トラアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアク
リレート等の多官能モノマー、オリゴマー類があり、こ
れ等を単独乃至は混合して使用する。
本発明のアンダーコート層の硬化輻射線として紫外線を
使用する場合は、公知の各種光重合開始剤を含有する必
要がある。
使用する場合は、公知の各種光重合開始剤を含有する必
要がある。
例としてはアセトフェノン、アセトフェノンジエチルケ
タール、ジアセチル、ベンジル、ベンジルジメチルケタ
ール、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、
2−ヒドロキシ−2−メチルフェニルプロパノン等のフ
ェニルケトン類:ベンゾフエノン、ビス4.4′−ジア
ルキルアミノベンゾフェノン、3.3”−ジメチル−4
−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類:ベン
ゾイン、ベンゾインアルキルエーテル等のベンゾイン類
;クロルチオキサントン、ジメチルオキサントン、ジエ
チルオキサントン等のキサントン類;その他としてアン
トラキノン類、スルフィド類。
タール、ジアセチル、ベンジル、ベンジルジメチルケタ
ール、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、
2−ヒドロキシ−2−メチルフェニルプロパノン等のフ
ェニルケトン類:ベンゾフエノン、ビス4.4′−ジア
ルキルアミノベンゾフェノン、3.3”−ジメチル−4
−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類:ベン
ゾイン、ベンゾインアルキルエーテル等のベンゾイン類
;クロルチオキサントン、ジメチルオキサントン、ジエ
チルオキサントン等のキサントン類;その他としてアン
トラキノン類、スルフィド類。
フェニルオキシム類等があり、これ等を単独乃至複数を
混合して使用する。
混合して使用する。
バインダーに対する添加量は、少ないと硬化速度が遅く
硬化不十分となり、反面多いと硬化後塗膜からのブリー
ド等種々の問題を声するため、光重合開始剤はバインダ
ー合計100部に対し1部以上20部以下の範囲とする
ことが特に好適である。
硬化不十分となり、反面多いと硬化後塗膜からのブリー
ド等種々の問題を声するため、光重合開始剤はバインダ
ー合計100部に対し1部以上20部以下の範囲とする
ことが特に好適である。
本発明のアンダーコート層の硬化を大気乃至酸素を含む
雰囲気中で行なう場合は、酸素に基因する硬化阻害を防
止するために、公知の各種硬化促進剤を含有することが
好適である。
雰囲気中で行なう場合は、酸素に基因する硬化阻害を防
止するために、公知の各種硬化促進剤を含有することが
好適である。
例としてはN、N−ジメチルエタノールアミン。
N−メチルジェタノールアミン、トリエタノールアミン
、トリプロパツールアミン等の脂肪族アミン;ビス−4
,4゛−ジアルキルアミノベンゾフェノン、N、N−ジ
メチルアミノ安息香酸アルキル等の芳香族アミン;これ
等の高分子化物であるポリアミン化合物等があり、これ
等を単独乃至複数を混合して使用する。
、トリプロパツールアミン等の脂肪族アミン;ビス−4
,4゛−ジアルキルアミノベンゾフェノン、N、N−ジ
メチルアミノ安息香酸アルキル等の芳香族アミン;これ
等の高分子化物であるポリアミン化合物等があり、これ
等を単独乃至複数を混合して使用する。
バインダーに対する添加量は、光重合開始剤と同様バイ
ンダー合計100部に対し1部以上20部以下の範囲と
することが好適である。
ンダー合計100部に対し1部以上20部以下の範囲と
することが好適である。
本発明のアンダーコート層は、各種特性の付与、例えば
帯電防止性、遮光性の向上、体質顔料として塗膜物性改
善等の目的で必要に応じ公知の各種フィラーを含有する
ことも可能である。
帯電防止性、遮光性の向上、体質顔料として塗膜物性改
善等の目的で必要に応じ公知の各種フィラーを含有する
ことも可能である。
例としてはカーボンブラック、グラファイト。
ぶつ化黒鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム。
けい酸アルミニウム、けい酸マグネシウム、硫酸バリウ
ム、シリカ、酸化亜鉛、酸化アルミニウム。
ム、シリカ、酸化亜鉛、酸化アルミニウム。
酸化インジウム、酸化クロム、酸化スズ、酸化チタン、
酸化バナジウム、窒化はう素、タルク、カオリン、クレ
ー、二硫化モリブデン、無機顔料等の無機物;ポリエチ
レンテレフタレート、ふっ素樹脂、フェノール樹脂、尿
素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、各種樹脂粉末、有機顔
料等の存機物があり、これ等を単独乃至複数を混合して
使用する。
酸化バナジウム、窒化はう素、タルク、カオリン、クレ
ー、二硫化モリブデン、無機顔料等の無機物;ポリエチ
レンテレフタレート、ふっ素樹脂、フェノール樹脂、尿
素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、各種樹脂粉末、有機顔
料等の存機物があり、これ等を単独乃至複数を混合して
使用する。
本発明のアンダーコート層を構成する塗料は、溶剤を使
用しない所謂無溶剤組成であることを原則とするが、塗
布時の粘度微調整等のため、必要に応じ公知の各種溶剤
を少量含有することも可能である。
用しない所謂無溶剤組成であることを原則とするが、塗
布時の粘度微調整等のため、必要に応じ公知の各種溶剤
を少量含有することも可能である。
例としてはn−ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭
化水素類:トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の
芳香族炭化水素類;塩化メチレン。
化水素類:トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の
芳香族炭化水素類;塩化メチレン。
1.1.1−)リクロルエタン、クロルベンゼン。
0−ジクロルベンゼ等の塩素化炭化水素類;メタノール
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール、ベンジ
ルアルコール等のアルコール類;ジメチルエーテル、メ
チルイソブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類;ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル
類;その他としてグリコールエーテル類、N−メチルピ
ロリドン、ジメチルホルムアミド、ジアセトンアルコー
ル、イソホロン等があり、これ等を単独乃至複数を混合
して使用する。
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール、ベンジ
ルアルコール等のアルコール類;ジメチルエーテル、メ
チルイソブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類;ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル
類;その他としてグリコールエーテル類、N−メチルピ
ロリドン、ジメチルホルムアミド、ジアセトンアルコー
ル、イソホロン等があり、これ等を単独乃至複数を混合
して使用する。
バインダーに対する添加量は、多過ぎると通常の塗料と
同様、溶剤の乾燥による塗膜粘度の上昇が大きくなり、
これは加熱による粘度低下を打ち消す方向に働くため、
溶剤は全く添加しないか、又はバインダー合計100部
に対し20部以下の範囲とすることが特に好適である。
同様、溶剤の乾燥による塗膜粘度の上昇が大きくなり、
これは加熱による粘度低下を打ち消す方向に働くため、
溶剤は全く添加しないか、又はバインダー合計100部
に対し20部以下の範囲とすることが特に好適である。
本発明のアンダーコート層を構成する塗料は、必要に応
じ公知の各種添加剤を含有することも可能である。
じ公知の各種添加剤を含有することも可能である。
例として潤滑剤1分散剤、レベリング剤、消泡剤、帯電
防止剤、界面活性剤、塗膜改質剤、密着向上剤、濡れ向
上剤、沈降防止剤、粘度調整剤。
防止剤、界面活性剤、塗膜改質剤、密着向上剤、濡れ向
上剤、沈降防止剤、粘度調整剤。
安定剤、防錆剤等がある。
本発明の非磁性支持体は、公知の各種磁気記録媒体用非
磁性支持体が使用可能である。
磁性支持体が使用可能である。
例としてプラスチックフィルム、紙、非磁性金属箔乃至
はこれ等のコーティング、ラミネート。
はこれ等のコーティング、ラミネート。
ラミナー加工物等があるが、中でも各種のプラスチック
フィルムは支持体として要求される物性の点で好適であ
る。
フィルムは支持体として要求される物性の点で好適であ
る。
例としては再生セルロース、エチルセルロース。
セルロースアセテートブチレート、セルロースジアセテ
ート、セルローストリアセテート等のセルロース誘導体
;ポリエチレン、ポリプロピレン。
ート、セルローストリアセテート等のセルロース誘導体
;ポリエチレン、ポリプロピレン。
ポリブチレン等のポリオレフィン:ポリ塩化ビニル;ポ
リ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール。
リ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール。
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン2゜6−ナ
フタレート等のポリエステル;ポリカーボネート;ポリ
スチレン;ボリアリレート;ポリエーテルエーテルケト
ン;ポリアミド;ポリイミド;ポリアミドイミド;ポリ
エーテルイミド;ポリパラバン酸;ポリエーテルサルフ
ォン;ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン等のフ
ッ素系等の各フィルムがあり、フィルムは延伸タイプ、
未延伸タイプのいずれも使用出来、表面処理が施されて
いでも良い。
フタレート等のポリエステル;ポリカーボネート;ポリ
スチレン;ボリアリレート;ポリエーテルエーテルケト
ン;ポリアミド;ポリイミド;ポリアミドイミド;ポリ
エーテルイミド;ポリパラバン酸;ポリエーテルサルフ
ォン;ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン等のフ
ッ素系等の各フィルムがあり、フィルムは延伸タイプ、
未延伸タイプのいずれも使用出来、表面処理が施されて
いでも良い。
本発明のアンダーコート層を構成する塗料の製造方法は
、バインダー各成分の混合物に必要に応じて各種のフィ
ラー、添加剤(光重合開始剤、硬化促進剤等)を配合し
てなるものである。
、バインダー各成分の混合物に必要に応じて各種のフィ
ラー、添加剤(光重合開始剤、硬化促進剤等)を配合し
てなるものである。
本発明のアンダーコート層を構成する塗料のフィラー分
散方法としては、公知の各種分散方法が使用可能である
。
散方法としては、公知の各種分散方法が使用可能である
。
例としては、アトライター、高速インペラー分散機、高
速衝撃ミル、高速ストーンミル、コロイドミル、混練押
出機、サンドグラインダー、ドウミル、ニーダ−、バン
バリーミル、ペブルミル。
速衝撃ミル、高速ストーンミル、コロイドミル、混練押
出機、サンドグラインダー、ドウミル、ニーダ−、バン
バリーミル、ペブルミル。
ホモジナイザー、ボールミ、ル、2本ロールミル。
3本ロールミル等がある。
本発明、のアンダーコート層の塗布方法は、公知の各種
塗布方法が使用可能である。
塗布方法が使用可能である。
例としてはカーテンコート、グラビアオフセットコート
、グラビアコート、スピンコード、スプレーコート、デ
ィップコート、(エア)ドクターコート、トランスファ
ロールコート、 (エア)ナイフコート、ブレードコー
ト、リバースロールコート等があるが、比較的高粘度の
塗料を塗布する必要があるためグラビアコート法の使用
が特に好適である。
、グラビアコート、スピンコード、スプレーコート、デ
ィップコート、(エア)ドクターコート、トランスファ
ロールコート、 (エア)ナイフコート、ブレードコー
ト、リバースロールコート等があるが、比較的高粘度の
塗料を塗布する必要があるためグラビアコート法の使用
が特に好適である。
アンダーコート層の厚さは乾燥硬化後の値で0.1μm
以上5.0μ辺以下の範囲とすることが好適である。
以上5.0μ辺以下の範囲とすることが好適である。
本発明のアンダーコート層の加熱方法は、公知の各種加
熱方法が使用可能である。
熱方法が使用可能である。
例としてはヒートロール法、熱風加熱法、赤外線加熱法
、高周波加熱法等がある。
、高周波加熱法等がある。
加熱する温度は、アンダーコート層の塗膜温度が塗布時
より上昇すれば良く、同等限定するものではないが、低
いと粘度低下が不十分となり、高いと反応性希釈剤とし
て添加した輻射線硬化型モノマー、オリゴマーの揮発、
変質が生ずるため、40’C以上120℃以下の範囲と
することが好適である。
より上昇すれば良く、同等限定するものではないが、低
いと粘度低下が不十分となり、高いと反応性希釈剤とし
て添加した輻射線硬化型モノマー、オリゴマーの揮発、
変質が生ずるため、40’C以上120℃以下の範囲と
することが好適である。
本発明のアンダーコート層のスムーザ−による平滑化方
法は、公知の各種スムーザ−による平滑化方法が使用可
能である。
法は、公知の各種スムーザ−による平滑化方法が使用可
能である。
例としてはメタルスムーザ−、ガラススムーザ−、フィ
ルムスムーザ−等がある。
ルムスムーザ−等がある。
本発明のアンダーコート層の硬化方法は、公知の各種輻
射線硬化方法が使用可能である。
射線硬化方法が使用可能である。
例としては放射線(γ線)硬化法、電子線硬化法、紫外
線硬化法等があるが、中でも運転、装置コスト、安全性
の点で紫外線硬化法が特に好適である。
線硬化法等があるが、中でも運転、装置コスト、安全性
の点で紫外線硬化法が特に好適である。
電子線硬化法を適用する際の硬化設備としては公知の各
種電子線発生装置が使用万能である。
種電子線発生装置が使用万能である。
例としてはカーテンビームタイプ、ラミナタイプ、ブロ
ードビームタイプ、ニアリアスビームタイプ、パルスタ
イプ、スキャンニングタイプ等があるが、比較的装置コ
ストが低く、加速機内部の2次X線の遮蔽が容易なカー
テンビームタイプの照射装置が好適である。また硬化時
の条件としては加速電圧150〜200KeV、全照射
量の3以上15 M r a d以下の範囲とすること
が好適である。
ードビームタイプ、ニアリアスビームタイプ、パルスタ
イプ、スキャンニングタイプ等があるが、比較的装置コ
ストが低く、加速機内部の2次X線の遮蔽が容易なカー
テンビームタイプの照射装置が好適である。また硬化時
の条件としては加速電圧150〜200KeV、全照射
量の3以上15 M r a d以下の範囲とすること
が好適である。
更に電子線による硬化を大気乃至酸素を含む雰囲気中で
行なう場合は、オゾンの発生を防止するため、電子線の
照射を不活性ガス(N2.He。
行なう場合は、オゾンの発生を防止するため、電子線の
照射を不活性ガス(N2.He。
C02)雰囲気下で行なう必要がある。
紫外線硬化法を適用する際の硬化設備としては公知の各
種紫外線発生装置が使用可能である。
種紫外線発生装置が使用可能である。
例としては低圧水銀ランプ、ケミカルランプ。
高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドラ
ンプ、アーク燈、キセノンランプ等があるが、一般には
装置のコスト、保守の容易さ等から、ランプ1c11当
たり出力が30〜200Wの高圧水銀ランプ又はメタル
ハライドランプが好適である。
ンプ、アーク燈、キセノンランプ等があるが、一般には
装置のコスト、保守の容易さ等から、ランプ1c11当
たり出力が30〜200Wの高圧水銀ランプ又はメタル
ハライドランプが好適である。
更に紫外線照射に伴う温度上昇をより低減する見地から
は、硬化に関与する波長以外はコールドミラー、熱線吸
収フィルター等でカットすると共に、被照射物を適当な
方法で冷却することが可能である。
は、硬化に関与する波長以外はコールドミラー、熱線吸
収フィルター等でカットすると共に、被照射物を適当な
方法で冷却することが可能である。
いずれの方法でも、照射方法は非磁性支持体のアンダー
コート層形成面に対し輻射線を照射し得るものであれば
良く、照射出力、照射装置の数、照射源よりの距離、角
度等は同等限定するものではない。
コート層形成面に対し輻射線を照射し得るものであれば
良く、照射出力、照射装置の数、照射源よりの距離、角
度等は同等限定するものではない。
本発明の磁性塗料の組成は、公知の各種組成が使用可能
である。
である。
磁性塗料中の磁性粉の例としては、γ−Fe2 C3,
Fe3 o、、Co含含有−Fe203.Co含有Fe
304.CrO2゜Co、Fe−Co、Co−Ni、F
e−Co−Ni、バリウムフェライト等の粉末があり、
磁性塗料中のバインダーの例としては、塩化ビニル系共
重合樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セル
ロース系樹脂、ポリビニルアセクール系樹脂、エポキシ
系樹脂等があり、また公知の各種フィラー、溶剤、添加
剤などを含有しても良い。
Fe3 o、、Co含含有−Fe203.Co含有Fe
304.CrO2゜Co、Fe−Co、Co−Ni、F
e−Co−Ni、バリウムフェライト等の粉末があり、
磁性塗料中のバインダーの例としては、塩化ビニル系共
重合樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セル
ロース系樹脂、ポリビニルアセクール系樹脂、エポキシ
系樹脂等があり、また公知の各種フィラー、溶剤、添加
剤などを含有しても良い。
以下本発明を具体的実施例により説明する。
具体的実施例:試料2,3
比較例: 試料1.4
第1表に従い作成したアンダーコート塗料A(試料1〜
3)、同B(試料4)を、30a幅の14μm厚ポリエ
ステルフィルムにグラビアコート法により25ONの幅
に塗布し、試料1〜3は第2表の条件により塗膜を熱風
加熱後、また試料4は乾燥により溶剤を除去後、メタル
スムーザ−により第2表に従い塗膜を平滑化処理を行な
い、80W/ffの高圧水銀ランプを用いて第2表の条
件で塗膜を硬化し、厚さ0.3〜0.4μ尻の各アンダ
ーコート層を得た。この上層に第1表に従い作成した磁
性塗料Cを、リバースロールコート法で塗布し、塗膜を
乾燥後、スーパーカレンダー装置により表面の平滑化処
理を行ない、40”Cで24時間硬化して厚さ5.0μ
m、o磁性層とし、1/2インチ幅にスリットして各磁
気テープを得た。
3)、同B(試料4)を、30a幅の14μm厚ポリエ
ステルフィルムにグラビアコート法により25ONの幅
に塗布し、試料1〜3は第2表の条件により塗膜を熱風
加熱後、また試料4は乾燥により溶剤を除去後、メタル
スムーザ−により第2表に従い塗膜を平滑化処理を行な
い、80W/ffの高圧水銀ランプを用いて第2表の条
件で塗膜を硬化し、厚さ0.3〜0.4μ尻の各アンダ
ーコート層を得た。この上層に第1表に従い作成した磁
性塗料Cを、リバースロールコート法で塗布し、塗膜を
乾燥後、スーパーカレンダー装置により表面の平滑化処
理を行ない、40”Cで24時間硬化して厚さ5.0μ
m、o磁性層とし、1/2インチ幅にスリットして各磁
気テープを得た。
比較例:試料5
ポリエステルフィルム上にアンダーコート層を施さない
意思外は、実施例1と同様の条件で試作を行ない、磁気
テープを得た。
意思外は、実施例1と同様の条件で試作を行ない、磁気
テープを得た。
性能試験
これ等について第2表に示す諸評価を行なった。
評価方法は以下の通りである。
アンダーコート層:平均表面粗さくRa)によの平均表
面粗さ る: (テーラーホブスン社製クリステツブ
使用) ビデオS/N: 比較例(試料4)に対する相対値 ドロップアウト; 1分間のドロップアウト数(ドロッ
プアウトカウンタ ーによる:15μsec、 − 16dB、 シバツク VH01B Z型使用’) [発明の効果] 第2表から判るように実施例のアンダーコート層は、無
溶解剤化したアンダーコート塗料を使用した場合でも、
アンダーコート層表面の平滑性が改善されており、該層
のレベリング不良に基因したドロップアウト初期値の増
加等の問題を生ずることがない。また従来の溶剤型アン
ダーコート塗料を用いた場合と同様、このアンダーコー
ト層を有する磁気テープは、5000パス走行後のドロ
ップアウトの増加が抑制されていることがわかる。
面粗さ る: (テーラーホブスン社製クリステツブ
使用) ビデオS/N: 比較例(試料4)に対する相対値 ドロップアウト; 1分間のドロップアウト数(ドロッ
プアウトカウンタ ーによる:15μsec、 − 16dB、 シバツク VH01B Z型使用’) [発明の効果] 第2表から判るように実施例のアンダーコート層は、無
溶解剤化したアンダーコート塗料を使用した場合でも、
アンダーコート層表面の平滑性が改善されており、該層
のレベリング不良に基因したドロップアウト初期値の増
加等の問題を生ずることがない。また従来の溶剤型アン
ダーコート塗料を用いた場合と同様、このアンダーコー
ト層を有する磁気テープは、5000パス走行後のドロ
ップアウトの増加が抑制されていることがわかる。
従って本発明によれば、輻射線硬化型アンダーコート層
を有する磁気記録媒体において電磁変換特性、耐久性に
優れた高品質の磁気記録媒体を、高い生産性で容易に得
ることが可能となる。
を有する磁気記録媒体において電磁変換特性、耐久性に
優れた高品質の磁気記録媒体を、高い生産性で容易に得
ることが可能となる。
Claims (4)
- (1)非磁性支持体と磁性層間、あるいは非磁性支持体
とバックコート層間に輻射線硬化型のアンダーコート層
を有する磁気記録媒体の製造方法において、アンダーコ
ート層の形成が、非磁性支持体上にアンダーコート層を
塗布する工程、該層を加熱する工程、該層をスムーザー
により平滑化する工程、そして該層を輻射線の照射によ
り硬化せしめる工程から成ることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。 - (2)アンダーコート層を構成する塗料が、溶剤を全く
含有しないか、又はバインダー合計100部(重量部、
以下同じ)に対し溶剤を20部以下の範囲で配合したも
のからなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の磁気記録媒体の製造方法。 - (3)アンダーコート層の塗布方法が、グラビアコート
法であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
磁気記録媒体の製造方法。 - (4)アンダーコート層を構成する塗料が、バインダー
合計100部に対し光重合開始剤を1部以上20部以下
の範囲で配合したものからなり、かつ輻射線の種類が紫
外線であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31151386A JPS63161527A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31151386A JPS63161527A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63161527A true JPS63161527A (ja) | 1988-07-05 |
Family
ID=18018137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31151386A Pending JPS63161527A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63161527A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0676283A (ja) * | 1992-06-30 | 1994-03-18 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP2005302181A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-12-25 JP JP31151386A patent/JPS63161527A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0676283A (ja) * | 1992-06-30 | 1994-03-18 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP2005302181A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
US7501194B2 (en) | 2004-04-14 | 2009-03-10 | Fujifilm Corporation | Magnetic recording media with non-magnetic support and radiation cured layer |
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