JPS63155125A - 液晶表示パネル用基板のトリミング方法 - Google Patents

液晶表示パネル用基板のトリミング方法

Info

Publication number
JPS63155125A
JPS63155125A JP30416086A JP30416086A JPS63155125A JP S63155125 A JPS63155125 A JP S63155125A JP 30416086 A JP30416086 A JP 30416086A JP 30416086 A JP30416086 A JP 30416086A JP S63155125 A JPS63155125 A JP S63155125A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
wiring
liquid crystal
crystal display
display panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30416086A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Takahara
博司 高原
Hitoshi Noda
均 野田
Tatsuhiko Tamura
達彦 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP30416086A priority Critical patent/JPS63155125A/ja
Publication of JPS63155125A publication Critical patent/JPS63155125A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は液晶表示パネル用基板のトリミング方法に関す
るものである。
従来の技術 近年、産業機器の小型化に伴い、従来からの表示装置で
あるCRTに代わる薄型平面表示装置が要望されている
。種々ある平面表示装置のなかで液晶を用いた表示装置
は消費電力が少なく、電池駆動が可能である点などから
携帯用機器の表示装置として注目されている。液晶表示
装置には大別して単純マトリックス方式とアクティブマ
トリックス方式がある。アクティブマトリックス方式は
コントラストなどの点から有利であるが、基板全体に数
万個以上の薄膜トランジスタを作製する必要がある。そ
のため作製薄膜トランジスタの欠陥をいかになくするか
という点が技術的課題である。
前記欠陥の個数は基板製造プロセスの改良によって減少
させることが可能であるが、欠陥を情無にすることは困
難である。従って、アクティブマトリックス方式の液晶
表示装置の量産化には、欠陥修正技術の開発が必要なも
のとなっている。その一方法としてレーザビームを用い
、欠陥部を切断するトリミング方法がある。
以下図面を参照しながら、従来の液晶表示パネル用基板
のトリミング方法の一例について説明する。第7図はア
クティブマトリックス方式の液晶表示パネル用基板の一
部拡大図である。説明に不用な部分は一部省略しである
。第7図において1は絵素透明電極、2はゲート線、3
はソース線、4は絶縁膜、5はドレイン端子である。ま
た大点線内の部分でトランジスタを構成している。第8
図は第7図においてAA’面で切断したときの断面図で
ある。第8図において6は基板である。第9図は第8図
の液晶表示パネル用基板のトリミング方法を説明するた
めの説明図である。第9図において7はレーザビーム、
8は減圧筒、9は溶断により飛散した粒子の軌跡、10
はレーザ光源である。
以上のように構成された従来の液晶表示パネル用基板の
トリミング方法について第9図を用いて説明する。まず
基板6を素子・配線形成面を上にして位置決めする。つ
ぎに減圧筒8およびレーザ光源IOを移動させ、位置決
めする。つぎにレーザ光源10からレーザビームを照射
し、レーザビームの集光点を素子あるいは配線上を移動
させ構成物質を蒸発させる。蒸発させた構成物質の粒子
は切断箇所周辺に飛び散り、切断不良の原因となるため
、減圧筒にて吸引し、基板表面に付着しないようにして
いた。(例えば、特公昭55−52091号公報)発明
が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような方法では、素子・配線形成面
が上方を向き、かつ被覆するものがないため、トリミン
グ中に素子・配線形成面に異物などゴミが付着しやすく
、かつ損傷しやすい。そのため、液晶表示パネル用基板
をトリミング中に不良品にする可能性が高い。また、ト
リミングにより飛散した構成物質が切断箇所周辺に飛び
敗り、切断不良となることを防ぐために減圧筒を設ける
必要があり、トリミング設備が複雑になり、また高価に
なる。その上、レーザ光源10の光学系、たとえば集光
レンズの表面にも前記飛散した構成物質が付着し、光学
系を損傷させるという問題点があった・ 問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明の液晶表示パネル用
基板のトリミング方法は液晶表示パネル用基板の素子あ
るいは配線形成面が下方を向くようにし、前記基板の素
子あるいは配線形成面の反対面より光ビームを照射し、
素子あるいは配線を切断するというものである。また本
明細書でいう下方とは地球の中心方向のことをいう。
作用 本発明は上記した方法によって、液晶表示パネル用基板
を素子あるいは配線形成面を下を向くようにして保持し
、光ビームを素子あるいは配線面の反対面、つまり裏面
より透明絶縁基板を透過させ、素子あるいは配線をトリ
ミングするものである。
したがって、素子あるいは配線形成面をあやまって損傷
するおそれがなく、また蒸発した構成物質が素子あるい
は配線形成面に付着しにくくすることができる。
実施例 以下本発明の一実施例の液晶表示パネル用基板のトリミ
ング方法について、図面を参照しながら説明する。第1
図は本発明の第1の実施例の液晶表示パネル用基板のト
リミング方法を説明するための説明図である。第1図に
おいて11は透明絶縁基板、12は溶断により飛散した
粒子の軌跡である。
以上のように構成し、つぎにトリミング方法について説
明する。まず、透明絶縁基板11を素子・配線形成面を
下にして位置決めする。トリミングをおこなう位置にレ
ーザビームを照射し、レーザビームは透明絶縁基板11
を透過し、その集光点は構成物を蒸発させる。蒸発した
構成物質の粒子は軌跡12で飛散する。
以上のように、あらかじめトリミングをおこなう位置を
記憶手段に記憶させておけば、レーザビームを順次切断
位置に移動させればよいから高速にトリミングすること
ができ、トリミング箇所が多数の場合は非常に有利であ
る。
以下、本発明の第2の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。
第2図は本発明の第2の実施例を説明するための説明図
であり、素子・配線形成面を下にして上方からみたとき
を示している。第2図において13は切断位置認識印で
あり、素子・配線形成面の反対面に描かれている。以上
のように構成し、つぎにトリミング方法について説明す
る。まず、透明絶縁基板11を素子・配線形成面を下に
して位置決めする。つぎに切断位置認識印13を切断位
置認識手段にて検出する。検出された切断位置認識印1
3の座標はレーザ光源10におくられ、レーザ光源10
はレーザビーム7を前記座標に照射し、切断箇所の構成
物質を蒸発させる。
以上のように本実施例では、切断座標を認識しながらト
リミングするため、あらかじめ切断座標を検出する必要
がない。したがってトリミング箇所が少数の場合有利で
ある。また欠陥箇所の個数・位置を視覚的に認識するこ
とができる。
以下、本発明の第3の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。第3図は単純マトリックス方式の液晶表示
パネル用基板の一部拡大図である。
第3図において14は信号線、15は信号線の隣接短絡
部である。第4図は本発明の第3の実施例を説明するた
めの説明図である。この場合も、第4図に示すように透
明絶縁基板11を配線面を下向きにし、配線面の反対面
からレーザビーム7を照射し、透明絶縁基板11を透過
させ隣接短絡部14の構成物を蒸発させればよい。
なお、本発明の第2の実施例は切断位置認識印としたが
、印にかぎるものではなく、たとえば線などを描いてお
き、線を認識しながら、前記線にそってトリミングをお
こなってもよい。
また、本発明の実施例ではレーザビームを用いて構成物
質を蒸発させるとしたが、なんらこれに限るものではな
く光ビームを用いたものであれば何でもよい、たとえば
キセノンランプ光を集光させた光ビームを用いてもよい
また、本発明の実施例では素子・配線が形成された基板
を位置決めし、レーザビーム7を所定切断箇所上方に移
動させるとしたが、レーザ光源10を固定しておき、素
子・配線が形成された基板を移動させて、トリミングを
おこなってもよいことは明らかである。
また、本発明の実施例では第5図に示すようにソース・
ドレイン間短絡16がおこり、トランジスタのドレイン
端子をaa’線で切断するというように表現したがこれ
に限るものではない。たとえばソース線3とゲート線5
の交点の絶縁膜4に穴があきソース線3とゲート線5が
短絡状態となった場合bb’線・cc’線で切断をおこ
なえばよい。またソース線と絵素透明電極1の間の短絡
17の場合はdd’線で切断をおこなえばよい、また上
述のような不良箇所の修正だけに限るものではなく、第
6図に示すように、トランジスタの特性を測定するため
、ドレイン端子5の引き出し短絡部18を設け、特性値
測定後、前記引き出し短絡部18をee’線で切断して
もよい。以上のことから明らかなように本発明のトリミ
ング方法は接話箇所・接話距離および接話箇所の構成物
質に左右されるものではない。
発明の効果 以上のように本発明は液晶表示パネル用基板の素子ある
いは配線形成面が下方を向くようにし、前記基板の素子
あるいは配線形成面の反対面より光ビームを照射し、素
子あるいは配線を切断するものであるから、光ビームの
方向と蒸発した構成物質の粒子の軌跡が同一方向となり
、また前記粒子は質量をもっているため、はとんど前記
粒子が素子あるいは配線面に付着するおそれがない、そ
のため減圧器が不用となり廉価なトリミングシステムを
構成することができる。またレーザの光源とは透明絶縁
基板により隔離されているため、蒸発した構成物質がレ
ーザ光源たとえば集光レンズに付着するおそれが全くな
い。また素子あるいは配線形成面の上面を透明絶縁基板
により、被覆していることとなり、前記形成面を損傷す
るおそれがない。その上、素子あるいは配線形成面の反
対面に切断位置認識印などを描く、あるいはトリミング
後、切断箇所表示のため印を描(ことができ、その効果
は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例における液晶表示パネル
用基板のトリミング方法を説明するための説明図、第2
図は本発明の第2の実施例における液晶表示パネル用基
板のトリミング方法を説明するための説明図、第3図は
単純マトリ・ツク久方式液晶表示パネル用基板の一部拡
大図、第4図は本発明の第3の実施例における液晶表示
パネル用アクティブマトリックス方式の液晶表示パネル
用基板の一部拡大図、第8図は第7図のAA’線におけ
る断面図、第9図は第8図の液晶表示パネル用基板のト
リミング方法を説明するための説明図である。 1・・・・・・絵素透明電極、2・・・・・・ゲート線
、3・・・・・・ソース線、4・・・・・・絶縁膜、5
・・・・・・ドレイン端子、6・・・・・・基板、7・
・・・・・レーザビーム、8・・・・・・減圧筒、9・
12・・・・・・溶断により飛散した粒子の軌跡、13
・・・・・・切断位置認識印、14・・・・・・信号線
、15・・・・・・隣接短絡部、16・17・・・・・
・短絡部、18・・・・・・ドレイン端子の引き出し短
絡部。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名第1図 /l−謎明蛇縛渫痰 /Z−−−悶t 二j’)4も(虻Lr:6−+−車G
亦/3− 切4aLR識印 第2図 /4−−−イ寥号縁 第3図        15−  讐相9k〉第4図 /6−−−ンース■イン刈ボR郊 17−−− ソース櫟j会→ト廊1戸月電偉亜aだh相
−審≧第5図 /l!l−−−とレイン熱子pグj3:j3しβ秀を后
?嶋 6 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 透明絶縁基板を用いた液晶表示パネル用基板にあって、
    前記基板の素子あるいは配線形成面が下方を向くように
    し、前記基板の素子あるいは配線形成面の反対面より光
    ビームを照射し、素子あるいは配線を切断することを特
    徴とする液晶表示パネル用基板のトリミング方法。
JP30416086A 1986-12-19 1986-12-19 液晶表示パネル用基板のトリミング方法 Pending JPS63155125A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30416086A JPS63155125A (ja) 1986-12-19 1986-12-19 液晶表示パネル用基板のトリミング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30416086A JPS63155125A (ja) 1986-12-19 1986-12-19 液晶表示パネル用基板のトリミング方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63155125A true JPS63155125A (ja) 1988-06-28

Family

ID=17929778

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30416086A Pending JPS63155125A (ja) 1986-12-19 1986-12-19 液晶表示パネル用基板のトリミング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63155125A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004068446A1 (ja) * 2003-01-27 2004-08-12 Toshiba Matsushita Display Technology Co., Ltd. 有機elディスプレイの製造方法
WO2019138723A1 (ja) * 2018-01-12 2019-07-18 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置及び表示装置の製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004068446A1 (ja) * 2003-01-27 2004-08-12 Toshiba Matsushita Display Technology Co., Ltd. 有機elディスプレイの製造方法
JPWO2004068446A1 (ja) * 2003-01-27 2006-05-25 東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 有機elディスプレイの製造方法
CN100401342C (zh) * 2003-01-27 2008-07-09 东芝松下显示技术有限公司 制造有机el显示器的方法
US7645631B2 (en) 2003-01-27 2010-01-12 Toshiba Matsushita Display Technology Co., Ltd. Method of manufacturing organic EL display
WO2019138723A1 (ja) * 2018-01-12 2019-07-18 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置及び表示装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20030098458A1 (en) Semiconductor device and its manufacturing method
CN100388068C (zh) 电光面板的制造方法
JPS63155125A (ja) 液晶表示パネル用基板のトリミング方法
JP2008155269A (ja) 基板の分断方法、レーザスクライブ装置及び電気光学装置の製造方法
JP4675467B2 (ja) 半導体回路の製造方法
JPH0756192A (ja) 特性専用測定トランジスタ,特性検査方法及び液晶表示パネル
JPH09113936A (ja) アクティブマトリクス表示装置及びその製造方法
CN109524574B (zh) 柔性显示面板测试样品及其制作方法、缺陷分析方法
JPH1124107A (ja) ディスプレイ及びディスプレイを備えた装置
US7144686B2 (en) Method of forming an active matrix organic light emitting display
US6943375B2 (en) Capacitor in a pixel structure
US20070166895A1 (en) Display substrate and method of manufacturing the same
JP2008044823A (ja) 基板の分断方法、電気光学装置の製造方法及びレーザスクライブ装置
JPH0746181B2 (ja) 液晶表示装置のトリミング方法
JP2000241833A (ja) マトリックス型配線基板
JPH01183628A (ja) アクティブマトリックスアレイ
JP4041326B2 (ja) 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置及びその欠陥修復方法
KR950003894A (ko) 액정 표시장치의 제조방법
JPH03127325U (ja)
JPS62232144A (ja) 液晶表示装置の修正法
JPS63240521A (ja) 液晶表示装置のトリミング方法
JPS6198324A (ja) 液晶表示装置
JPH1012892A (ja) 半導体薄膜の加工方法
JPH0155460B2 (ja)
JPS63240520A (ja) 液晶表示装置のトリミング方法