JPS63154697A - 23位置にケトン基を含有する新規なステロイド化合物及びそれらの製造法 - Google Patents
23位置にケトン基を含有する新規なステロイド化合物及びそれらの製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J9/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen substituted in position 17 beta by a chain of more than two carbon atoms, e.g. cholane, cholestane, coprostane
- C07J9/005—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen substituted in position 17 beta by a chain of more than two carbon atoms, e.g. cholane, cholestane, coprostane containing a carboxylic function directly attached or attached by a chain containing only carbon atoms to the cyclopenta[a]hydrophenanthrene skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J31/00—Normal steroids containing one or more sulfur atoms not belonging to a hetero ring
- C07J31/006—Normal steroids containing one or more sulfur atoms not belonging to a hetero ring not covered by C07J31/003
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J43/00—Normal steroids having a nitrogen-containing hetero ring spiro-condensed or not condensed with the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton
- C07J43/003—Normal steroids having a nitrogen-containing hetero ring spiro-condensed or not condensed with the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton not condensed
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、23位置にケトン基を含有する新規なステロ
イド化合物、それらの製造法、20−ケトプレグナン系
化合物の製造への使用及びその中間体に関する。
イド化合物、それらの製造法、20−ケトプレグナン系
化合物の製造への使用及びその中間体に関する。
本発明の主題は、次の一般式(I)
〔ここで、R1は水素原子又はメチル基を表わし、R2
はメチル又はエチル基を表わし、 MA、BSC及びDは1個以上の二重結合を有していて
よく、かつ、1個以上の保護されていてよいヒドロキシ
ル若しくはケトン官能基、1個以上のハロゲン原子、1
個以上のアルキル若しくはアルコキシ基(1〜4個の炭
素原子を含有する)又は1個以上のアルケニル若しくは
アルキニル基(2〜4個の炭素原子を含有する)でt1
jt換されていてよく、 Rはハロゲン原子、ヒドロキシル基、1〜6個の炭素原
子を含有するアルコキシ基、7〜15個の炭素原子を含
有するアラルコキシ基、又は基く、それぞれ水素原子、
1〜6個の炭素原子を含有するアルキル基又は7〜15
個の炭素原子を含有するアラルキル基金表わすか、成る
いはR,とR4はそれらの結合している窒素原子ととも
に複素環(これは窒素及び酸素原子から選ばれる他のへ
テロ原子を含有してもよい)を形成する)を表わすか、
成るいはRは1〜6個の炭素原子を含有するアルキルチ
オ基又は多くとも15個の炭素原子を含有するアリール
チオ若しくはアラルキルチオ基を表わす〕 の化合物にある。
はメチル又はエチル基を表わし、 MA、BSC及びDは1個以上の二重結合を有していて
よく、かつ、1個以上の保護されていてよいヒドロキシ
ル若しくはケトン官能基、1個以上のハロゲン原子、1
個以上のアルキル若しくはアルコキシ基(1〜4個の炭
素原子を含有する)又は1個以上のアルケニル若しくは
アルキニル基(2〜4個の炭素原子を含有する)でt1
jt換されていてよく、 Rはハロゲン原子、ヒドロキシル基、1〜6個の炭素原
子を含有するアルコキシ基、7〜15個の炭素原子を含
有するアラルコキシ基、又は基く、それぞれ水素原子、
1〜6個の炭素原子を含有するアルキル基又は7〜15
個の炭素原子を含有するアラルキル基金表わすか、成る
いはR,とR4はそれらの結合している窒素原子ととも
に複素環(これは窒素及び酸素原子から選ばれる他のへ
テロ原子を含有してもよい)を形成する)を表わすか、
成るいはRは1〜6個の炭素原子を含有するアルキルチ
オ基又は多くとも15個の炭素原子を含有するアリール
チオ若しくはアラルキルチオ基を表わす〕 の化合物にある。
環A、B、C及びDが1個以上の二重結合を有するとき
は、1(2)、4(5)、5(6)又は9(11)
位置の二重結合、成るいは3(4)及び5(6)又は4
(5)及び6(7)位置の共役二重結合系、成るいは1
.45位置の3個の二重結合の芳香族系、成るいは1
(2)、4 (5)、6 (7)位置の3個の二重結合
系であるのが好ましい。しかし、二重結合を含有しない
化合物が好ましくは用いられる。
は、1(2)、4(5)、5(6)又は9(11)
位置の二重結合、成るいは3(4)及び5(6)又は4
(5)及び6(7)位置の共役二重結合系、成るいは1
.45位置の3個の二重結合の芳香族系、成るいは1
(2)、4 (5)、6 (7)位置の3個の二重結合
系であるのが好ましい。しかし、二重結合を含有しない
化合物が好ましくは用いられる。
mA、B、C及びDが1個以上のヒドロキシル官能基で
置換されているときは、3.6.7.11及び/又は1
2位置の1個以上のヒドロキシル官能基であるのが好ま
しい。
置換されているときは、3.6.7.11及び/又は1
2位置の1個以上のヒドロキシル官能基であるのが好ま
しい。
mA、B、C及びDが1個以上のケトン官能基で置換さ
れているときは、3.7.11又は12位置のケトン官
能基であるのが好ましい。
れているときは、3.7.11又は12位置のケトン官
能基であるのが好ましい。
mA、B、C及びDが1個以上のハロゲン原子で置換さ
れているときは、ハロゲン原子は例えば6又は9α位置
のふつ累、塩素又は臭素原子であるのが好ましい。
れているときは、ハロゲン原子は例えば6又は9α位置
のふつ累、塩素又は臭素原子であるのが好ましい。
iA、BXC及びDが1個以上のアルキル基で置換され
ているときは、それは2.6.7、又は16α又は16
β位置のメチル又はエチル基であるのが好ましい。
ているときは、それは2.6.7、又は16α又は16
β位置のメチル又はエチル基であるのが好ましい。
fiA、B、C及びDが1個以上のアルキルオキシ基で
置換されているときは、それは3又は11β位置のメト
キク又はエトキシ基であるのが好ましい0 項五、B、C及びDが1個以上のアルケニル基で置換さ
れているときは、それは例えば11β位置のビニル又は
アリル基であるのが好ましい。
置換されているときは、それは3又は11β位置のメト
キク又はエトキシ基であるのが好ましい0 項五、B、C及びDが1個以上のアルケニル基で置換さ
れているときは、それは例えば11β位置のビニル又は
アリル基であるのが好ましい。
1ASBSC及びDが1個以上のアルキニル基で置換さ
れているときは、それは例えば11β位置のエチニル基
であるのが好ましい。
れているときは、それは例えば11β位置のエチニル基
であるのが好ましい。
ヒドロキシル基は文献で知られた通常の方法に従って保
護することができる。例えば、アセl−二ト基、環状炭
酸エステル、オルトエステル、環状亜硫酸エステル、テ
トラヒドロピラニルで形成されたエーテル、トリチル及
びベンジル基、アセチル、スクシニル又はホルミルのよ
うなアシル基があげられる。
護することができる。例えば、アセl−二ト基、環状炭
酸エステル、オルトエステル、環状亜硫酸エステル、テ
トラヒドロピラニルで形成されたエーテル、トリチル及
びベンジル基、アセチル、スクシニル又はホルミルのよ
うなアシル基があげられる。
また、ケトン基も標準的な保護基、例えばケタール、特
にエチレンケタール、チオアセタール、ヘミチオアセタ
ール、エノールエーテル、エノールアセテート、エナミ
ン、オキシムによって保護することができる。
にエチレンケタール、チオアセタール、ヘミチオアセタ
ール、エノールエーテル、エノールアセテート、エナミ
ン、オキシムによって保護することができる。
しかし、ケトン基を保護するためにはケタール基、特に
エチレンケタールが好ましい。式(I)の化合物が3位
置にケトン基を含有するときは、この基が第一に保護さ
れる。
エチレンケタールが好ましい。式(I)の化合物が3位
置にケトン基を含有するときは、この基が第一に保護さ
れる。
Rはハロゲン原子、好ましくは塩素又は臭素原子を表わ
し、またRはアルコキシ基、好ましくはメトキシ又はエ
トキシ基を表わすが、プロピルオキシ、イソプロピルオ
キシ、ブチルオキシ、81e−ブチルオキシ、t−ブチ
ルオキシ、はブチルオキシ及びヘキシルオキシ基も表わ
すことができ、さらにRはベンジルオキシ又はフェニル
エチルオキシ基を表わすことができる。
し、またRはアルコキシ基、好ましくはメトキシ又はエ
トキシ基を表わすが、プロピルオキシ、イソプロピルオ
キシ、ブチルオキシ、81e−ブチルオキシ、t−ブチ
ルオキシ、はブチルオキシ及びヘキシルオキシ基も表わ
すことができ、さらにRはベンジルオキシ又はフェニル
エチルオキシ基を表わすことができる。
基R3及びR4は、同−又は異なっていてよく、それぞ
れ水素原子又はメチル、エチル、プロピル、イソゾロビ
ル、ブチル、l!eC−ブチル、t−ブチル1ペンチル
、ヘキシル若しくはベンジル基の一つを表わし、成るい
はR3とR4はそれらが結合している窒素原子と共にモ
ルホリノ、ピペリジノ又はピpリジノ基を表わすことも
できる。また、Rはメチルチオ若しくはエチルチオ基又
は前記のアルキル若しくはアルコキシ基から誘導される
アルキルチオ基を表わすことができる。さらに、Rはフ
ェニルチオ又はベンジルチオ基を表わすこともできる。
れ水素原子又はメチル、エチル、プロピル、イソゾロビ
ル、ブチル、l!eC−ブチル、t−ブチル1ペンチル
、ヘキシル若しくはベンジル基の一つを表わし、成るい
はR3とR4はそれらが結合している窒素原子と共にモ
ルホリノ、ピペリジノ又はピpリジノ基を表わすことも
できる。また、Rはメチルチオ若しくはエチルチオ基又
は前記のアルキル若しくはアルコキシ基から誘導される
アルキルチオ基を表わすことができる。さらに、Rはフ
ェニルチオ又はベンジルチオ基を表わすこともできる。
さらに詳しくは、本発明の主題は、R1及びR2がそれ
ぞれメチル基を表わし、環A、B、C及びDが5位置に
保護されていてよいヒドロキシル官能基を有し、そして
場合によっては6.7.11及び12位置の保護されて
いてよいヒドロキシル官能基並びに7.11及び12位
置の保護されていてよいケトン官能基から選ばれる1個
又は数個の他の官能基を有していてよ<、Rがヒドロキ
シル基、多くとも4個の炭素原子全含有するアルコ又は
多くとも4個の炭素原子を含有するアルキル基を表わす
か、成るいはH/、とR14はそれらが結合シている窒
素原子と共にピペリジノ、ピロリジノ又はモルホリノ基
を形成する)會表わす前記の一般式(I)の化合物;そ
して特に、iA、BSC及びDが3位置に保護されてい
てよいヒドロキシル基を有し、そして場合によル121
2位置護されていてよいヒドロキシル官能基及び11若
しくは12位置の保護されていてよいケトン官能基から
選ばれる1個又は数個の他の官能基を有していてよく、
Rがヒドロキシル、メトキシ、エトキシ又はモルホリノ
基を表わす前記の一般式(I)の化合物にある。
ぞれメチル基を表わし、環A、B、C及びDが5位置に
保護されていてよいヒドロキシル官能基を有し、そして
場合によっては6.7.11及び12位置の保護されて
いてよいヒドロキシル官能基並びに7.11及び12位
置の保護されていてよいケトン官能基から選ばれる1個
又は数個の他の官能基を有していてよ<、Rがヒドロキ
シル基、多くとも4個の炭素原子全含有するアルコ又は
多くとも4個の炭素原子を含有するアルキル基を表わす
か、成るいはH/、とR14はそれらが結合シている窒
素原子と共にピペリジノ、ピロリジノ又はモルホリノ基
を形成する)會表わす前記の一般式(I)の化合物;そ
して特に、iA、BSC及びDが3位置に保護されてい
てよいヒドロキシル基を有し、そして場合によル121
2位置護されていてよいヒドロキシル官能基及び11若
しくは12位置の保護されていてよいケトン官能基から
選ばれる1個又は数個の他の官能基を有していてよく、
Rがヒドロキシル、メトキシ、エトキシ又はモルホリノ
基を表わす前記の一般式(I)の化合物にある。
好ましい化合物のうちでも、特に有益なグループに入る
ものは、堀り、BXC及びDが5位置に保護されていて
よいヒドロキシル基を有し、そして場合によ)6.7又
は12位置の保護式れていてよいヒドロキシル官能基及
び7.11又は12位置の保護されていてよいケトン官
能基から選ばれる18以上の他の官能基を有していてよ
い前記の一般式(I)の化合物よシなる。
ものは、堀り、BXC及びDが5位置に保護されていて
よいヒドロキシル基を有し、そして場合によ)6.7又
は12位置の保護式れていてよいヒドロキシル官能基及
び7.11又は12位置の保護されていてよいケトン官
能基から選ばれる18以上の他の官能基を有していてよ
い前記の一般式(I)の化合物よシなる。
後者のグループのうちでは、骨格として環A1B、C及
びDを含有する化合物並びに天然の又は生合成の胆汁醗
から誘導される化合物があげられる。これらの化合物は
下記の式及び表に要約することができる。
びDを含有する化合物並びに天然の又は生合成の胆汁醗
から誘導される化合物があげられる。これらの化合物は
下記の式及び表に要約することができる。
(ここで、R′はヒドロキシル、メトキシ、エトキシ又
はモルホリノ基を表わし、R@ N R?及びR12は
下記の意味 R@ R7R12 HOHα OHα HOHβ OHα HHH HHOHα HOHα H OHα HH HOHβ H OI(α OHα HOHβ
OHα H OHβ OHβ H HOHα ORα HHOHα を有する) これらの化合物におけるヒドロキシル基は、保護されて
いてよく、特に3位置のヒドロキシル基は保鵡されてい
てよい。好ましい保護基はアセチル又はホルミル基であ
る。
はモルホリノ基を表わし、R@ N R?及びR12は
下記の意味 R@ R7R12 HOHα OHα HOHβ OHα HHH HHOHα HOHα H OHα HH HOHβ H OI(α OHα HOHβ
OHα H OHβ OHβ H HOHα ORα HHOHα を有する) これらの化合物におけるヒドロキシル基は、保護されて
いてよく、特に3位置のヒドロキシル基は保鵡されてい
てよい。好ましい保護基はアセチル又はホルミル基であ
る。
1個以上のケトン基を含有する化合物のうちでは、下記
の化合物が好ましい。
の化合物が好ましい。
(ここで R/はヒドロキシル、メトキシ、エトキシ又
はモルホリフ基を表わし、3.7.11及び12位置の
置換基は下記の意味 3保護ケトン 5 0Hα 、7ケト、120Hα 5 0Hα 、11ケト 30Hα 、70Hα 、 12ケト 3 0Hα 、 7ケト 5 0Hα 、 70Hβ 、12ケト3 0H,11
ケト、120H 30H、11ケト 含有する) もちろん、この場合も、上述のようにヒドロキシル基は
保護されていてよい。同じことが、7又は12位置のケ
トン基にも当てはまる。ケトン基のための好ましい保護
基は環状又は非環状ケタールである。
はモルホリフ基を表わし、3.7.11及び12位置の
置換基は下記の意味 3保護ケトン 5 0Hα 、7ケト、120Hα 5 0Hα 、11ケト 30Hα 、70Hα 、 12ケト 3 0Hα 、 7ケト 5 0Hα 、 70Hβ 、12ケト3 0H,11
ケト、120H 30H、11ケト 含有する) もちろん、この場合も、上述のようにヒドロキシル基は
保護されていてよい。同じことが、7又は12位置のケ
トン基にも当てはまる。ケトン基のための好ましい保護
基は環状又は非環状ケタールである。
特に好ましい化合物は、実施例に記載の化合物、特に下
記の化合物でおる。
記の化合物でおる。
(3α、5β)−4−CC5−アセチルオキシ)−11
,23,24−)ジオキソフラン−24−イル3モルホ
リン (3α、5β)−11,23−ジオキソ−3−ヒドロキ
シコラン−24−# 3α−ヒドロキシ−11,23−5β−フラン−24−
酸のメチルエステル (3α、5β)−s−<アセチルオキシ)−1125−
ジオキソコラン−24−飯 また、本発明の主題は、前記の一般式(I)の化合物v
i:!1ili造する方法であって、次式(It)(こ
こで、A% BX C5DN R1及びR2は上で示し
た意味を有する) の化合物をます酸ハロケ゛ン化物形成剤で、次いで第三
塩基で、次いで塩化チオニルで処理し、最後に随意に水
、アルカノール、アルカノール、次式 (Rs及びR4は上で示した意味ヲ冶する)の第−若し
くは第二アミン、アルキルチオール、アリールチオール
又はアラルキルチオールで処理して次式(m) (ここでA、B、C,D、R,R1及び胸は上で示した
意味を有する) の化合物を得、式(m)の化合物を (a)水性酸又は酸化剤で、成るいは (b) へ四ゲン化剤で、次いで塩基性加水分解剤で、
処理し、そして随意に、Rがヒドロキシル基を表わす式
(I)の得られた化合物をアルカノール、アラルカノー
ル、次式 (ここでUS及びR4は上で示した意味を有する)の第
−若しくは第二アミン、アルキルチオール、アリールチ
オール又はアラルキルチオールで処理し、成るいはRが
ヒドロキシル基を表わす式(I)の得られた化合物を酸
7%17ゲン化物形成剤で処理することを特徴とする式
(I)の化合物の製造法にある。
,23,24−)ジオキソフラン−24−イル3モルホ
リン (3α、5β)−11,23−ジオキソ−3−ヒドロキ
シコラン−24−# 3α−ヒドロキシ−11,23−5β−フラン−24−
酸のメチルエステル (3α、5β)−s−<アセチルオキシ)−1125−
ジオキソコラン−24−飯 また、本発明の主題は、前記の一般式(I)の化合物v
i:!1ili造する方法であって、次式(It)(こ
こで、A% BX C5DN R1及びR2は上で示し
た意味を有する) の化合物をます酸ハロケ゛ン化物形成剤で、次いで第三
塩基で、次いで塩化チオニルで処理し、最後に随意に水
、アルカノール、アルカノール、次式 (Rs及びR4は上で示した意味ヲ冶する)の第−若し
くは第二アミン、アルキルチオール、アリールチオール
又はアラルキルチオールで処理して次式(m) (ここでA、B、C,D、R,R1及び胸は上で示した
意味を有する) の化合物を得、式(m)の化合物を (a)水性酸又は酸化剤で、成るいは (b) へ四ゲン化剤で、次いで塩基性加水分解剤で、
処理し、そして随意に、Rがヒドロキシル基を表わす式
(I)の得られた化合物をアルカノール、アラルカノー
ル、次式 (ここでUS及びR4は上で示した意味を有する)の第
−若しくは第二アミン、アルキルチオール、アリールチ
オール又はアラルキルチオールで処理し、成るいはRが
ヒドロキシル基を表わす式(I)の得られた化合物を酸
7%17ゲン化物形成剤で処理することを特徴とする式
(I)の化合物の製造法にある。
前記の製造法の好ましい実施方法においては、用いられ
る酸ハロゲン化物形成剤は、特に塩化チオニル、塩化オ
キサリル又は臭化オキサリルのうちから選ばれる。これ
らのうちでも塩化チオニルが好ましい形成剤である。
る酸ハロゲン化物形成剤は、特に塩化チオニル、塩化オ
キサリル又は臭化オキサリルのうちから選ばれる。これ
らのうちでも塩化チオニルが好ましい形成剤である。
好んで用いられる第三塩基は、トリエチルアミン、メチ
ルエチルピリジン、ピリジン、ジアザビシクツオクテン
、ジアザビシクロノネン、ジアザビシフ冨つンデカンの
うちから選ばれ、特にトリエチルアミン又はピリジンが
選ばれる。
ルエチルピリジン、ピリジン、ジアザビシクツオクテン
、ジアザビシクロノネン、ジアザビシフ冨つンデカンの
うちから選ばれ、特にトリエチルアミン又はピリジンが
選ばれる。
好んで用いられるアルカノール又はアラルカノールはメ
タノール、エタノール又はベンジルアルコールである。
タノール、エタノール又はベンジルアルコールである。
用いることのできる第−又は第二アミンは、メチルアミ
ン、エチルアミン、ジエチルアミン、モルホリン、ピは
リジン及びピ四リジンのうちから選ばれ、好ましくはモ
ルホリンである。もちろん、上記のものに対応するチオ
ールも用いることができる。
ン、エチルアミン、ジエチルアミン、モルホリン、ピは
リジン及びピ四リジンのうちから選ばれ、好ましくはモ
ルホリンである。もちろん、上記のものに対応するチオ
ールも用いることができる。
用いることのできるアルキルチオール、アリールチオー
ル又はアラルキルチオールは、好ましくはメタンチオー
ル、エタンチオール又はチオベンジルアルコールから選
ばれる。
ル又はアラルキルチオールは、好ましくはメタンチオー
ル、エタンチオール又はチオベンジルアルコールから選
ばれる。
弐■の化合物を式Iの化合物に変換するのに好んで用い
られる水性酸は、硫酸である。また、塩酸又は酢酸のよ
うな他の無機又は有a!4Mも用いることができる。
られる水性酸は、硫酸である。また、塩酸又は酢酸のよ
うな他の無機又は有a!4Mも用いることができる。
酸化剤を用いるときは、それは過マンガン酸カリウム、
過酸化水素、オゾン、過はう酸塩又は過硫酸塩であって
よい。
過酸化水素、オゾン、過はう酸塩又は過硫酸塩であって
よい。
一般的にいえば、式■の化合物に水性酸又は酸化剤全作
用させるとRがヒドロキシル基を表わす式(I)の化合
物が得られる。しかし、必安によシ又は所望ならば、例
えば、Rがアルコキシである式(I)の化合物を得るた
めにはメタノールのようなアルカノールを別々に又は同
時に作用させることにはモルホリンのような第−又は第
二アミンを作用させ、成るいは対応するチオールを作用
させるととによって式(I)の他の化合物を製造するこ
とができる。好ましい態様では、酸加水分解又は酸化は
、式(I)の誘導体を得ようと望むアルカ/−ル、成る
いは第−又は第二アミンの存在下で行われる。
用させるとRがヒドロキシル基を表わす式(I)の化合
物が得られる。しかし、必安によシ又は所望ならば、例
えば、Rがアルコキシである式(I)の化合物を得るた
めにはメタノールのようなアルカノールを別々に又は同
時に作用させることにはモルホリンのような第−又は第
二アミンを作用させ、成るいは対応するチオールを作用
させるととによって式(I)の他の化合物を製造するこ
とができる。好ましい態様では、酸加水分解又は酸化は
、式(I)の誘導体を得ようと望むアルカ/−ル、成る
いは第−又は第二アミンの存在下で行われる。
当然であるが、前記のリストから選ばれる醗ハロゲン化
物形成剤をRがOHである式(I)の化合物に作用させ
ることができる◇ 式(m)の化合物vi:製造するための上記の反応は、
好ましくは、水とわずかに混和し又は全く混和しない溶
練又は溶媒混合物、例えば塩化メチレン又はクロロホル
ム中で行うことができる。
物形成剤をRがOHである式(I)の化合物に作用させ
ることができる◇ 式(m)の化合物vi:製造するための上記の反応は、
好ましくは、水とわずかに混和し又は全く混和しない溶
練又は溶媒混合物、例えば塩化メチレン又はクロロホル
ム中で行うことができる。
もちろん、環A、B、C及びD中に含まれるかも知れな
い官能基を保護し又は脱保護するための標準的な反応は
、式(n)の化合物又は得られた式(I)の化合物に対
して、合成の開始時に行うことができる0例えば、環A
が3位置にアセチル又はホルミル基のよりなアシル基で
保護されたヒドロキシル基を含有する式(I)の化合物
は、謂Aが遊離のヒドロキシル基を含有する対応化合物
す得るためには標準的なけん化反応に付すことができる
。この操作は、標準的な方法に従って、例えば、メタノ
ール、塩化メチレン、水又はこれらの溶媒の混合物中で
水酸化ナトリウム、水着化カリウム又は炭酸カリウムの
ような塩基を作用させることによって行われる。
い官能基を保護し又は脱保護するための標準的な反応は
、式(n)の化合物又は得られた式(I)の化合物に対
して、合成の開始時に行うことができる0例えば、環A
が3位置にアセチル又はホルミル基のよりなアシル基で
保護されたヒドロキシル基を含有する式(I)の化合物
は、謂Aが遊離のヒドロキシル基を含有する対応化合物
す得るためには標準的なけん化反応に付すことができる
。この操作は、標準的な方法に従って、例えば、メタノ
ール、塩化メチレン、水又はこれらの溶媒の混合物中で
水酸化ナトリウム、水着化カリウム又は炭酸カリウムの
ような塩基を作用させることによって行われる。
また、逆に、例えば3位置の遊離のヒドロキシル基を保
護するためには式(I)の化合物に無水酢龜のような保
論基のkm体を作用させることができるO また、本発明の主題は、一般式(I)の化合物を次式(
VI) (ここで、A、B% C5DSR1及びR意は上で示
した意味を有する) の化合物の製造に使用するにあたシ、一般式(I)の化
合物を強酸化剤で処理して次式(IV)p。
護するためには式(I)の化合物に無水酢龜のような保
論基のkm体を作用させることができるO また、本発明の主題は、一般式(I)の化合物を次式(
VI) (ここで、A、B% C5DSR1及びR意は上で示
した意味を有する) の化合物の製造に使用するにあたシ、一般式(I)の化
合物を強酸化剤で処理して次式(IV)p。
(ここで、A、B、C,DSRl及びR2は上で示した
意味を有する) の化合物を得、式(■)の化合物音まず酸ハロゲン化物
形成剤で、次いで第三塩基で、次いで塩化チオニルで、
ハロゲン化剤で、そして最後に随意に水、アルカノール
、アルカノール、次式(Rs及びR4は上で示した意味
を有する)の第−若しくは第二アミン、アルキルチオー
ル、アリールチオール又はアラルキルチオールで処理し
て次式(V) R9 (ここで、AN B% 0% D% R% R1及びR
2は上で示した意味を有し、Halはハロゲン原子を表
わす) の化合物を得、式(■)の化合物をまず脱ハロゲン化水
素剤で次いで耐化的解裂剤で処理して式(Vl)の所期
化合物ヲ得ることを特徴とする一般式(I)の化合物を
弐■の化合物の製造に使用する方法にある。
意味を有する) の化合物を得、式(■)の化合物音まず酸ハロゲン化物
形成剤で、次いで第三塩基で、次いで塩化チオニルで、
ハロゲン化剤で、そして最後に随意に水、アルカノール
、アルカノール、次式(Rs及びR4は上で示した意味
を有する)の第−若しくは第二アミン、アルキルチオー
ル、アリールチオール又はアラルキルチオールで処理し
て次式(V) R9 (ここで、AN B% 0% D% R% R1及びR
2は上で示した意味を有し、Halはハロゲン原子を表
わす) の化合物を得、式(■)の化合物をまず脱ハロゲン化水
素剤で次いで耐化的解裂剤で処理して式(Vl)の所期
化合物ヲ得ることを特徴とする一般式(I)の化合物を
弐■の化合物の製造に使用する方法にある。
用いることのできるvA酸化剤は、ジョンズ試薬(クロ
ム酸と硫酸との水溶液)、四酢酸塩、過酸化水素、重ク
ロム酸カリウムのうちから選ばれる式(IV)の化合物
に対して用いられる酸ハロゲン化物形成剤は、前記のリ
ストのうちから選ばれ、好ましくは塩化チオニルである
0他の反応体も前記のリストのうちから選ばれる。
ム酸と硫酸との水溶液)、四酢酸塩、過酸化水素、重ク
ロム酸カリウムのうちから選ばれる式(IV)の化合物
に対して用いられる酸ハロゲン化物形成剤は、前記のリ
ストのうちから選ばれ、好ましくは塩化チオニルである
0他の反応体も前記のリストのうちから選ばれる。
用いられるへpゲン化剤は、臭素のようなハロゲン又は
塩化スル7リルのよりなへ田ゲン化剤である。
塩化スル7リルのよりなへ田ゲン化剤である。
式(V)の化合物に作用させる脱へ0ゲン化水素剤は、
好ましくは、強塩基試剤、例えばトリトンナトリウム若
しくはカリウムエチラート、カリウムt−ブチラードの
ようなアルカリ金属アルコラード、ナトリウムアミド又
はカリウムアミドである0また、メタノール若しくはエ
タノールのようなアルカノール又はグリコールジメチル
エーテル中で還流下に水酸化ナトリウム又はカリウムの
ような塩基を使用することも考えられる。さらに、アン
バーライトのような塩基性樹脂の使用も考えられる。
好ましくは、強塩基試剤、例えばトリトンナトリウム若
しくはカリウムエチラート、カリウムt−ブチラードの
ようなアルカリ金属アルコラード、ナトリウムアミド又
はカリウムアミドである0また、メタノール若しくはエ
タノールのようなアルカノール又はグリコールジメチル
エーテル中で還流下に水酸化ナトリウム又はカリウムの
ような塩基を使用することも考えられる。さらに、アン
バーライトのような塩基性樹脂の使用も考えられる。
合成の終シで式(VI)の所期化合物を得るのに用いる
ことができる酸化的解裂剤は好ましくは、酸化ルテニウ
ム又は酸化マンガンのような酸化剤及びオゾンのうちか
ら選ばれる。
ことができる酸化的解裂剤は好ましくは、酸化ルテニウ
ム又は酸化マンガンのような酸化剤及びオゾンのうちか
ら選ばれる。
本発明者が確認したところでは、式(■)の化合物に脱
ハワゲン化水素剤を作用させると次式(■θに相当する
化合物が得られ、次いでこの化合物の酸化的解裂を行っ
た衾に式(Vl)の化合物が得られる。
ハワゲン化水素剤を作用させると次式(■θに相当する
化合物が得られ、次いでこの化合物の酸化的解裂を行っ
た衾に式(Vl)の化合物が得られる。
当然であるが、式(I)の化合物を式(VI)の化合物
の製造に使用するにあたっては、環AXB、%C及びD
が含むかもしれない官能基を保護し又は脱保護するため
の標準的な反応は、式(I)の出発化合物又は合成中間
体化合物のいずれに対しても行うことができる。
の製造に使用するにあたっては、環AXB、%C及びD
が含むかもしれない官能基を保護し又は脱保護するため
の標準的な反応は、式(I)の出発化合物又は合成中間
体化合物のいずれに対しても行うことができる。
特に、弐Mの中間体化合物について行った脱へ田ゲン化
水素反応がアセチル又はホルミルのようなアシル保護基
のけん化を生じる場合においては、遊離のとド田キシル
を含む化合物は、例えば、ピリジンの存在下に無水酢酸
によって再アシル化することができる。
水素反応がアセチル又はホルミルのようなアシル保護基
のけん化を生じる場合においては、遊離のとド田キシル
を含む化合物は、例えば、ピリジンの存在下に無水酢酸
によって再アシル化することができる。
また、本発明の主題は、用いるハロゲン化物形成剤が塩
化チオニルであることを特徴とする前記の全ての方法に
ある。
化チオニルであることを特徴とする前記の全ての方法に
ある。
なお、スルフィン官能基の形成反応は、いずれにしても
、塩化チオニルの使用を伴なうので、前記したような試
剤の併用、即ち、 (a)酸ハロゲン化物形成剤、 (b)第三塩基、次いで (c)塩化チオニル の作用は、酸ハロゲン化物形成剤が塩化チオニルである
好ましい態様においては、第三塩基の存在下で式(2)
の化合物に塩化チオニルを作用させることに相当する。
、塩化チオニルの使用を伴なうので、前記したような試
剤の併用、即ち、 (a)酸ハロゲン化物形成剤、 (b)第三塩基、次いで (c)塩化チオニル の作用は、酸ハロゲン化物形成剤が塩化チオニルである
好ましい態様においては、第三塩基の存在下で式(2)
の化合物に塩化チオニルを作用させることに相当する。
さらに、本発明の主題は、新規な工業用化合物として、
特に式CI>の化合物の使用にあたって必要な工業用化
合物としての式(VI)及び(v)の化合物にある。
特に式CI>の化合物の使用にあたって必要な工業用化
合物としての式(VI)及び(v)の化合物にある。
一般式(I)の化合物の製造法の開始時で用いられる式
(2)の化合物は、胆汁酸系の天然物質の多くのもの、
又はこれら天然物質から出発して通常の方法によって製
造することができる物質の多くのものについては既知で
ある。
(2)の化合物は、胆汁酸系の天然物質の多くのもの、
又はこれら天然物質から出発して通常の方法によって製
造することができる物質の多くのものについては既知で
ある。
式(VDの化合物はプロゲステpン系の化合物である。
これらの化合物は有益な薬理学的性質を持っている。さ
らに、これらの化合物は次式のデオキシコルチゾン鎖又
は17位置のその他の鎖ヲ再構築するための原料として
用いることかできる。
らに、これらの化合物は次式のデオキシコルチゾン鎖又
は17位置のその他の鎖ヲ再構築するための原料として
用いることかできる。
下記の実施例は本発明を例示するためのものである。
−ヒドロキシコラン−24−醗
工程A:(3α、5β)−3−(アセチルオキシ)−1
1−オキソコラン−24−豪 200gの6α−ヒドロキシ−11−オキソ−5β−フ
ラン−24−酸と4ooccの無水酢酸を混合し、この
混合物を45°Cに加熱し、2!1のp−トルエンスル
ホン酸と200Cの酢酸ヲ一度に導入する。温度を5分
間で63℃に上昇させ、60℃に1時間保ち次いで55
℃とする。400 CCの蒸留水を+55°Cで約1時
間にわたシ導入し、+10℃に冷却した後、生じた沈殿
を分離し、洗浄し、減圧乾燥する。2111の所期化合
物を得た。
1−オキソコラン−24−豪 200gの6α−ヒドロキシ−11−オキソ−5β−フ
ラン−24−酸と4ooccの無水酢酸を混合し、この
混合物を45°Cに加熱し、2!1のp−トルエンスル
ホン酸と200Cの酢酸ヲ一度に導入する。温度を5分
間で63℃に上昇させ、60℃に1時間保ち次いで55
℃とする。400 CCの蒸留水を+55°Cで約1時
間にわたシ導入し、+10℃に冷却した後、生じた沈殿
を分離し、洗浄し、減圧乾燥する。2111の所期化合
物を得た。
mp−225℃。純度は約99%。
得られた化合物の1061f塩化メチレンに溶解し、シ
リカで濾過し、塩化メチレンと酢酸エチルとの混合物(
9/1)で溶離し、105.9’の精製化合物を得たo
mp x 225℃。
リカで濾過し、塩化メチレンと酢酸エチルとの混合物(
9/1)で溶離し、105.9’の精製化合物を得たo
mp x 225℃。
IRスペクトル(クロロホルム)、cIK−10HM
172o(ep) C1705(maw) COアセテ−) 125[ HICHsのHQ、62 21CHsのHO,88−(L95 19CHjのH12 ACOのH2,05 3H4,72 COOHの H8,1 工程B:(5α、5β)−4−(5−(アセチルオキシ
)−11,2424−)ジオキソフラン−24−イル3
モルホリン 不活性雰囲気下に68gの(5α、5β)−3−(アセ
チルオキシ)−11−オキソコラン−24−酸、250
CCの塩化メチレン及びQ、35CCのN、N−ジメチ
ルホルムアミドを混合し、塩化メチレンの還流下に約1
5分間で12.8 CCの塩化チオニルを加える。45
分間還流し、次いで減圧蒸留によって濃縮乾燥する。結
晶した塩酸塩に250CCの塩化メチレンを加え、−1
5℃で12.8 CCの塩化チオニル+m人する。次い
で445Ceのトリエチルアミンと4 +L 5 CC
の塩化メチレンとの混合物を一25℃で約1時間30分
にわたシ加え、得られた懸濁液全30分間かきまぜる。
172o(ep) C1705(maw) COアセテ−) 125[ HICHsのHQ、62 21CHsのHO,88−(L95 19CHjのH12 ACOのH2,05 3H4,72 COOHの H8,1 工程B:(5α、5β)−4−(5−(アセチルオキシ
)−11,2424−)ジオキソフラン−24−イル3
モルホリン 不活性雰囲気下に68gの(5α、5β)−3−(アセ
チルオキシ)−11−オキソコラン−24−酸、250
CCの塩化メチレン及びQ、35CCのN、N−ジメチ
ルホルムアミドを混合し、塩化メチレンの還流下に約1
5分間で12.8 CCの塩化チオニルを加える。45
分間還流し、次いで減圧蒸留によって濃縮乾燥する。結
晶した塩酸塩に250CCの塩化メチレンを加え、−1
5℃で12.8 CCの塩化チオニル+m人する。次い
で445Ceのトリエチルアミンと4 +L 5 CC
の塩化メチレンとの混合物を一25℃で約1時間30分
にわたシ加え、得られた懸濁液全30分間かきまぜる。
温度を一25℃に保ちながら、55゜5 CCのモルホ
リンと50CCの塩化メチレンとの混合物全約50分間
で加え、30分間かきまぜる。次いで温度を0℃に上昇
させながら3soccの水を約10分間で加える。
リンと50CCの塩化メチレンとの混合物全約50分間
で加え、30分間かきまぜる。次いで温度を0℃に上昇
させながら3soccの水を約10分間で加える。
4、7 CCの酢酸を加え、+2℃〜+5℃で49.6
9の過マンガン酸カリウムを約1時間30分で加え、こ
の混合物’1240ccの水で希釈し、+2〜+5℃で
1時間かきまぜ続ける。+5℃〜+10℃で431の重
亜硫酸ナトリウムを約30分間で加えると同時に、12
CCの濃硫酸’t150ccの冷水に溶解してなる溶液
を加える。デカンテーシヨンした後、環化メチレン相を
水洗し、乾燥し、59の硫酸マグネシウム、次いで60
9のアルミニウムCBT1’を加え、20℃で約1時間
30分良くかきまぜる。周囲温度でさらに1時間かきま
ぜ、次いで濾過した後、P液を減圧蒸留によシ濃縮乾固
する。残留物にaoccの酢酸エチル1加え、次いで減
圧蒸留によシ残留塩化メチレン全追出し、その残留物に
100CCのエタノールを加える。これを約40℃でか
きまぜることによシ溶解し、次いでこの溶液を0℃に冷
却し、結晶化を開始させる016時間放置した後、57
6gの所期化合物を単離した。mp=122−125℃ 母液を濃縮乾固し、85.5%の所期化合物を含む22
11の残留物を得た。
9の過マンガン酸カリウムを約1時間30分で加え、こ
の混合物’1240ccの水で希釈し、+2〜+5℃で
1時間かきまぜ続ける。+5℃〜+10℃で431の重
亜硫酸ナトリウムを約30分間で加えると同時に、12
CCの濃硫酸’t150ccの冷水に溶解してなる溶液
を加える。デカンテーシヨンした後、環化メチレン相を
水洗し、乾燥し、59の硫酸マグネシウム、次いで60
9のアルミニウムCBT1’を加え、20℃で約1時間
30分良くかきまぜる。周囲温度でさらに1時間かきま
ぜ、次いで濾過した後、P液を減圧蒸留によシ濃縮乾固
する。残留物にaoccの酢酸エチル1加え、次いで減
圧蒸留によシ残留塩化メチレン全追出し、その残留物に
100CCのエタノールを加える。これを約40℃でか
きまぜることによシ溶解し、次いでこの溶液を0℃に冷
却し、結晶化を開始させる016時間放置した後、57
6gの所期化合物を単離した。mp=122−125℃ 母液を濃縮乾固し、85.5%の所期化合物を含む22
11の残留物を得た。
IRスペクトル(クロロホルム)、α−1NMRスペク
トル(CDCIg )、ppm18CHsのHα67
′ 21CH3のH119−1゜ 19CH3のH117 ACOのH2,0 5H4,7 モルホリンのH五4−五8 工程C:(5α、5β)−11,25−ジオキソ−3−
ヒドロキシコラン−24−醗 不活性雰囲気下に、15gの上記工程で得た化合物、5
%の水を含むS CCのメタノール及び0.75%のパ
ステル状水酸化ナトリウムを混合し、周囲温度で24時
間放置する。溶液は澄明となる。次いで2N塩酸水溶液
を−Iが酸性を示すまで添加し、次いで酢酸エチルで抽
出する。抽出物を乾燥し、減圧蒸留により濃縮乾固し、
0.4pの所期化合物を得た。
トル(CDCIg )、ppm18CHsのHα67
′ 21CH3のH119−1゜ 19CH3のH117 ACOのH2,0 5H4,7 モルホリンのH五4−五8 工程C:(5α、5β)−11,25−ジオキソ−3−
ヒドロキシコラン−24−醗 不活性雰囲気下に、15gの上記工程で得た化合物、5
%の水を含むS CCのメタノール及び0.75%のパ
ステル状水酸化ナトリウムを混合し、周囲温度で24時
間放置する。溶液は澄明となる。次いで2N塩酸水溶液
を−Iが酸性を示すまで添加し、次いで酢酸エチルで抽
出する。抽出物を乾燥し、減圧蒸留により濃縮乾固し、
0.4pの所期化合物を得た。
IRスペクトル(クロロホルム)、cR−13位OH5
605 3個の酸形 3410 ssla(単蓋体) C−O領域 1781.1750(sp)、17
00.1710.1703 一ヒドロキシフランー24−酸 工程A : 3α−ホルミルオキシ−11−オキソ−2
3−スルフィニル−5β−フラン−24−酸83.7.
Pの3α−ホルミルオキシ−11−オキソ−5β−フラ
ン−24−階、840CCの塩化メチレン及び168C
Cのピリジンを混合し、次いで+10℃に冷却する03
2ccの塩化チオニルを5分間で導入し、次いで温度を
+20℃に戻す0全体を20℃で1時間かきまぜ、84
CCの0℃の水を約5分間で一人し、全体を20°Cで
15分間かきまぜる。反応混合物を冷塩酸水溶液中に注
ぎ、かきまぜ、デカンテーションし、塩化メチレンで抽
出する。抽出物を活性炭で処理し、減圧下に蒸留乾固し
、クロロホルム、インプロパツール及ヒ酢酸の混合物(
a s/14/1 )で溶離することによって911L
5p粗製の所期化合物を得た(理論93g)。Rf−α
45゜ 分析: CziHas Os 5(464,60)計算
=C%64.82 H%7.81 8%6.90実測
: 64.8 7.7 7:0UVス
はクトル(エタノール) Max 、 282nm B’l ml 57
gm6400即ち、77%のスルフィン0 工程B:5α−ヒドロキシ−1123−ジオキソ−5β
−フラン−24−醗 不活性雰囲気下に、工程Aで得た2Iの粗製の3α−ホ
ルミルオキシ−11−オキソ−23−スルフィニル−5
β−フラン−24−酸、200Cのメタノール及びα4
CCの濃硫In混合し、2時間加熱還流し、次いで氷
水混合物中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水
洗し、乾燥し、減圧蒸留によシ濃縮乾固する。残留物を
シリカでクロマトグラフィーし、塩化メチレンと酢酸エ
チルとの混合物(9/1 )で溶離し、Q、64Iiの
所期化合物を得た。これを塩化メチレンとイソプロピル
ニーチルとの混合物よシ結晶化し、精製された所期化合
物を得た□mp=約75°C,Rf−I152(溶離剤
:塩化メチレンと酢酸エチルとの混合物(ss/15)
)。
605 3個の酸形 3410 ssla(単蓋体) C−O領域 1781.1750(sp)、17
00.1710.1703 一ヒドロキシフランー24−酸 工程A : 3α−ホルミルオキシ−11−オキソ−2
3−スルフィニル−5β−フラン−24−酸83.7.
Pの3α−ホルミルオキシ−11−オキソ−5β−フラ
ン−24−階、840CCの塩化メチレン及び168C
Cのピリジンを混合し、次いで+10℃に冷却する03
2ccの塩化チオニルを5分間で導入し、次いで温度を
+20℃に戻す0全体を20℃で1時間かきまぜ、84
CCの0℃の水を約5分間で一人し、全体を20°Cで
15分間かきまぜる。反応混合物を冷塩酸水溶液中に注
ぎ、かきまぜ、デカンテーションし、塩化メチレンで抽
出する。抽出物を活性炭で処理し、減圧下に蒸留乾固し
、クロロホルム、インプロパツール及ヒ酢酸の混合物(
a s/14/1 )で溶離することによって911L
5p粗製の所期化合物を得た(理論93g)。Rf−α
45゜ 分析: CziHas Os 5(464,60)計算
=C%64.82 H%7.81 8%6.90実測
: 64.8 7.7 7:0UVス
はクトル(エタノール) Max 、 282nm B’l ml 57
gm6400即ち、77%のスルフィン0 工程B:5α−ヒドロキシ−1123−ジオキソ−5β
−フラン−24−醗 不活性雰囲気下に、工程Aで得た2Iの粗製の3α−ホ
ルミルオキシ−11−オキソ−23−スルフィニル−5
β−フラン−24−酸、200Cのメタノール及びα4
CCの濃硫In混合し、2時間加熱還流し、次いで氷
水混合物中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水
洗し、乾燥し、減圧蒸留によシ濃縮乾固する。残留物を
シリカでクロマトグラフィーし、塩化メチレンと酢酸エ
チルとの混合物(9/1 )で溶離し、Q、64Iiの
所期化合物を得た。これを塩化メチレンとイソプロピル
ニーチルとの混合物よシ結晶化し、精製された所期化合
物を得た□mp=約75°C,Rf−I152(溶離剤
:塩化メチレンと酢酸エチルとの混合物(ss/15)
)。
ホルメートの不存在
OH,非共役ケトン及び広いエステル吸収帯の存在
NMRスペクトル(CDCIj)、ppm18M・のH
α67 20MeのB CL?−1 159M・のH114 Hs5.67 COOCHsのH5,9 工程C:(3α、5β)−11,23−ジオキソ−3−
ヒドロキシコラン−24−酸 不活性雰囲気下にα5gの上記工程で得た化合物、5C
Cのメタノール、t3CCの水及び35■のパステル状
水酸化ナトリウムを混合し、20℃で20時間かきまぜ
る。次いで反応混合物を1N塩酸と水との混合物中に注
ぎ、生じた沈殿を分離し、水洗し、塩化メチレンに溶解
し、乾燥し、減圧蒸留によシ濃縮乾固し、(143,p
の所期化合物を得た0 他の H 工程A:3α−ホルミルオキシ−11−オキソ−22、
25−ジブ!ムー5β−フランー24−酸不活性雰IM
気下に20.9Ji’の3α−ホルミルオキシ−11−
オキソ−5β−コラン−24−酸を200CCの塩化メ
チレンと52CCのピリジンに溶解して5°Cに冷却し
た溶液に80Cの塩化チオニルを5分間で4人するとと
もに温度を20℃に上昇させる。全体を20℃で1時間
かきまぜ、10℃に冷却し、8CCの臭1gを約5分間
で導入する020℃で1時間かきまぜ、反応混合物を氷
水混合物中に注ぎ、デカンテーションし、塩化メチレン
で抽出し、抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで
少量のアルミニウムと共に活性炭で処理し、減圧下に蒸
留乾幽する。残留物に40CCのぎ酸を加え、沸点で5
分間加熱し、ぎ酸全減圧蒸留によ)除去する。次いで4
0CCのイソプロピルエーテルを加えて冷却する。分離
し、イソプロピルエーテルで洗い、冷却した後、246
Jの所期化合物を得た。mp−248℃oRf−0,4
(りaロホルムーイソプ田パノール−酢酸85/14/
1)。
α67 20MeのB CL?−1 159M・のH114 Hs5.67 COOCHsのH5,9 工程C:(3α、5β)−11,23−ジオキソ−3−
ヒドロキシコラン−24−酸 不活性雰囲気下にα5gの上記工程で得た化合物、5C
Cのメタノール、t3CCの水及び35■のパステル状
水酸化ナトリウムを混合し、20℃で20時間かきまぜ
る。次いで反応混合物を1N塩酸と水との混合物中に注
ぎ、生じた沈殿を分離し、水洗し、塩化メチレンに溶解
し、乾燥し、減圧蒸留によシ濃縮乾固し、(143,p
の所期化合物を得た0 他の H 工程A:3α−ホルミルオキシ−11−オキソ−22、
25−ジブ!ムー5β−フランー24−酸不活性雰IM
気下に20.9Ji’の3α−ホルミルオキシ−11−
オキソ−5β−コラン−24−酸を200CCの塩化メ
チレンと52CCのピリジンに溶解して5°Cに冷却し
た溶液に80Cの塩化チオニルを5分間で4人するとと
もに温度を20℃に上昇させる。全体を20℃で1時間
かきまぜ、10℃に冷却し、8CCの臭1gを約5分間
で導入する020℃で1時間かきまぜ、反応混合物を氷
水混合物中に注ぎ、デカンテーションし、塩化メチレン
で抽出し、抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで
少量のアルミニウムと共に活性炭で処理し、減圧下に蒸
留乾幽する。残留物に40CCのぎ酸を加え、沸点で5
分間加熱し、ぎ酸全減圧蒸留によ)除去する。次いで4
0CCのイソプロピルエーテルを加えて冷却する。分離
し、イソプロピルエーテルで洗い、冷却した後、246
Jの所期化合物を得た。mp−248℃oRf−0,4
(りaロホルムーイソプ田パノール−酢酸85/14/
1)。
分析: Cx*Hsi Os Brg : 5715B
計算二〇%52.09 H%6.5 Br%2
173実測j 52.0 6゜3
2Z4工程B:5α−ヒドロキシ−1125−ジ
オキソ−5β−コラン−24−酸 不活性雰囲気下に446!jの上記工程人で得た化合物
と9500Cの1N水酸化ナトリウムを混合し、得られ
た懸濁′g、を100℃で4時間加熱する。
計算二〇%52.09 H%6.5 Br%2
173実測j 52.0 6゜3
2Z4工程B:5α−ヒドロキシ−1125−ジ
オキソ−5β−コラン−24−酸 不活性雰囲気下に446!jの上記工程人で得た化合物
と9500Cの1N水酸化ナトリウムを混合し、得られ
た懸濁′g、を100℃で4時間加熱する。
冷却した後、氷を加え、次いで1ooccの塩酸を加え
、次いで濃縮し、酢酸エチルで抽出する。抽出物を乾燥
し、少量のアルミニウムと共に活性炭で処理し、次いで
汗過し、p’i’i減圧蒸留によシm縮乾固する。残留
物に塩化メチレンを加え、結晶化を行う。2&4Iiの
所期化合物を単離した。
、次いで濃縮し、酢酸エチルで抽出する。抽出物を乾燥
し、少量のアルミニウムと共に活性炭で処理し、次いで
汗過し、p’i’i減圧蒸留によシm縮乾固する。残留
物に塩化メチレンを加え、結晶化を行う。2&4Iiの
所期化合物を単離した。
mp寓約155℃み
この化合物をシリカでり冑マドグラフィーし、りpドホ
ルム、イソプ四パノール及び酢酸の混合物(80/1
a5/l 5 )で溶離する0主要画分を濃縮し、酢酸
エチルを加え、水洗し、乾燥し、減圧蒸留によシ乾固し
た後、アセトンと石油エーテル(bp−60〜80℃)
との混合物よシ結晶化する。M製された所期化合物を得
た。mp −130℃、Rf−(L35(溶離剤:クロ
レホルム、イソプルパノール及び酢酸の混合物y 8/
20/2 )。
ルム、イソプ四パノール及び酢酸の混合物(80/1
a5/l 5 )で溶離する0主要画分を濃縮し、酢酸
エチルを加え、水洗し、乾燥し、減圧蒸留によシ乾固し
た後、アセトンと石油エーテル(bp−60〜80℃)
との混合物よシ結晶化する。M製された所期化合物を得
た。mp −130℃、Rf−(L35(溶離剤:クロ
レホルム、イソプルパノール及び酢酸の混合物y 8/
20/2 )。
IRスイクトル(り四ロホルム)
0H,11−ケト及び−C−COOHの存在18Meの
Ha6g 20MeのHα9−10 19M@のH118 易動性のH4,4 不活性雰囲気下に141■の(3α、5β)−1t23
−ジオキソ−5−とドルキシフラン−24−酸、a、s
ccの無水酢酸及び3Wvのp−)ルエンスルホン酸を
混合し、20℃で2時間かきまぜ、次いで2CCの水を
加え、さらに15分間かきまぜる。酢酸エチルで抽出し
た後、抽出物を水洗し、乾燥し、減圧蒸留によりm縮乾
固する。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、塩化
メチレン、イソプpノぞノール及び酢酸の混合物(87
−12,5−O,S)で溶離し、8ON9の所期化合物
t−得た。
Ha6g 20MeのHα9−10 19M@のH118 易動性のH4,4 不活性雰囲気下に141■の(3α、5β)−1t23
−ジオキソ−5−とドルキシフラン−24−酸、a、s
ccの無水酢酸及び3Wvのp−)ルエンスルホン酸を
混合し、20℃で2時間かきまぜ、次いで2CCの水を
加え、さらに15分間かきまぜる。酢酸エチルで抽出し
た後、抽出物を水洗し、乾燥し、減圧蒸留によりm縮乾
固する。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、塩化
メチレン、イソプpノぞノール及び酢酸の混合物(87
−12,5−O,S)で溶離し、8ON9の所期化合物
t−得た。
闘
0H酸 5420
>c−o t””
11ケト 1723
工程A:(3α、5β)−3−アセチルオキシ−11−
オキソ−24−ノルコラン−23−醜不活性雰囲気下に
893■の(3α、5β)−3−アセチルオキシ−11
23−ジオキソコラン−24−儀と6CCの酢酸を混合
し、+15°Cでt s ccのジョーンズ酸化剤溶液
(267gのCrO3,250CCのH2S 04
及び水で1000CCにすることによって調製)を約2
0分間で尋人し、+15℃で5分間かきまぜる。反応混
合物を冷水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。抽出物
をα1Mチオ硫酸ナトリウム水溶液で洗い、次いで水洗
し、乾燥し、減圧蒸留によって濃縮乾固する。残留物を
シリカでクロマトグラフィーし、塩化メチレンとアセト
ンとの混合物(9/1 ”)で溶離し、680■の所期
化合物を得た。mp−110〜120℃。
オキソ−24−ノルコラン−23−醜不活性雰囲気下に
893■の(3α、5β)−3−アセチルオキシ−11
23−ジオキソコラン−24−儀と6CCの酢酸を混合
し、+15°Cでt s ccのジョーンズ酸化剤溶液
(267gのCrO3,250CCのH2S 04
及び水で1000CCにすることによって調製)を約2
0分間で尋人し、+15℃で5分間かきまぜる。反応混
合物を冷水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。抽出物
をα1Mチオ硫酸ナトリウム水溶液で洗い、次いで水洗
し、乾燥し、減圧蒸留によって濃縮乾固する。残留物を
シリカでクロマトグラフィーし、塩化メチレンとアセト
ンとの混合物(9/1 ”)で溶離し、680■の所期
化合物を得た。mp−110〜120℃。
IRスペクトル(クロルホルム)
アセテート、11−オキソ及び酸の存在NMRスはクト
ル(CDCI! )、ppm18MeのHQ、66 21MeのHα97−102 19M@の)(118 ACOのH2,0 山 468 工程B:4−(5α、5β)−(3−(アセチルオキシ
)−22,22−ジブリム−11−オキソ−24−フル
コラン−23−イル3七ルホリンネ活性雰囲気下に4.
11の上記工程で得られた化合物、41CCの塩化メチ
レン及び(S、35CCのピリジンを混合し、0〜+5
°Cで157ccの塩化チオニルを加え、次いで匝ちに
16CCの臭素を加え、20℃で1時間かきまぜる。0
〜−5℃でa s ccのモルホリンを約15分間で加
え、1時間かきまぜるとともに温度’(z20’cに戻
す。反応混合物を4000Cの2N冷塩酸溶液中に注ぎ
、り算ロホルムで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥し、
減圧蒸留によシ濃縮乾固する。残留物C6,59’)f
cシリカでクロマトグラフィーし、シクロヘキサンと酢
酸エチルとの混合物(8/2 ”)で溶離し、2.07
5gの所期化合物を得た。
ル(CDCI! )、ppm18MeのHQ、66 21MeのHα97−102 19M@の)(118 ACOのH2,0 山 468 工程B:4−(5α、5β)−(3−(アセチルオキシ
)−22,22−ジブリム−11−オキソ−24−フル
コラン−23−イル3七ルホリンネ活性雰囲気下に4.
11の上記工程で得られた化合物、41CCの塩化メチ
レン及び(S、35CCのピリジンを混合し、0〜+5
°Cで157ccの塩化チオニルを加え、次いで匝ちに
16CCの臭素を加え、20℃で1時間かきまぜる。0
〜−5℃でa s ccのモルホリンを約15分間で加
え、1時間かきまぜるとともに温度’(z20’cに戻
す。反応混合物を4000Cの2N冷塩酸溶液中に注ぎ
、り算ロホルムで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥し、
減圧蒸留によシ濃縮乾固する。残留物C6,59’)f
cシリカでクロマトグラフィーし、シクロヘキサンと酢
酸エチルとの混合物(8/2 ”)で溶離し、2.07
5gの所期化合物を得た。
OAC1724
C−O複合吸収 1267−1251−12551
1−オキソ 1704 アミド 1645 18M@のHα74 19M5のH116 21MeのOH134−142 ACOのH18 モルホリンのH5,76 H34,7 分析: CzsH4sBr2NO1,−645,48計
算=C%56..96 H%6.71 N%2.1
7Br%24.76実測、: 53.9 6
.7 2.1 24.6エ程C:5α−
アセトキシ−1t20−ジオキソ−5β−ゾンダナン 1 脱臭化水素 不活性雰囲気下に25011jの上記工程で得た化合物
、2.5CCのメタノール及び2.5 CCのトリトン
B(即ち、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム)の
40%水溶液を混合し、1時間加熱還流する。冷却した
後、反応混合物を冷水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出す
る。抽出物を水洗し、乾燥し、減圧蒸留によシ濃縮乾固
し、1201vの所期化合物を得た。これはそのまま次
の反応に用いる。
1−オキソ 1704 アミド 1645 18M@のHα74 19M5のH116 21MeのOH134−142 ACOのH18 モルホリンのH5,76 H34,7 分析: CzsH4sBr2NO1,−645,48計
算=C%56..96 H%6.71 N%2.1
7Br%24.76実測、: 53.9 6
.7 2.1 24.6エ程C:5α−
アセトキシ−1t20−ジオキソ−5β−ゾンダナン 1 脱臭化水素 不活性雰囲気下に25011jの上記工程で得た化合物
、2.5CCのメタノール及び2.5 CCのトリトン
B(即ち、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム)の
40%水溶液を混合し、1時間加熱還流する。冷却した
後、反応混合物を冷水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出す
る。抽出物を水洗し、乾燥し、減圧蒸留によシ濃縮乾固
し、1201vの所期化合物を得た。これはそのまま次
の反応に用いる。
不活性雰囲気下に、上で得た化合物、12ccのピリジ
ン及び148CCの無水酢酸を混合し、20時間放置す
る。次いで全体を冷水中に注ぎ、30分後に塩化メチレ
ンで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥し、減圧蒸留によ
シ濃縮乾固し、170■の所期化合物を得た0これはそ
のまま次の反応に用いる。
ン及び148CCの無水酢酸を混合し、20時間放置す
る。次いで全体を冷水中に注ぎ、30分後に塩化メチレ
ンで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥し、減圧蒸留によ
シ濃縮乾固し、170■の所期化合物を得た0これはそ
のまま次の反応に用いる。
不活性雰囲気下に、上で得た化合物、2.5CCの1.
2−ジクロ!エタン及びI CCの酢酸を混合し、−5
°Cでオゾン化酸素の流れを15分間通じる。
2−ジクロ!エタン及びI CCの酢酸を混合し、−5
°Cでオゾン化酸素の流れを15分間通じる。
窒素を吹き込んで過剰のオゾンを除き、次いで反応混合
物を過剰の重炭酸ナトリウム水溶液中にゆつくシと注ぐ
。塩化メチレンで抽出し、抽出物を水洗し、乾燥し、減
圧蒸留によシ濃縮乾固し、115■の所期化合物、3α
−アセトキシ−11゜20−ジオキソ−5β−プレグナ
ンを得た。
物を過剰の重炭酸ナトリウム水溶液中にゆつくシと注ぐ
。塩化メチレンで抽出し、抽出物を水洗し、乾燥し、減
圧蒸留によシ濃縮乾固し、115■の所期化合物、3α
−アセトキシ−11゜20−ジオキソ−5β−プレグナ
ンを得た。
粗生成物をシリカでクロマトグラフィーし、シクロヘキ
サンと酢酸エチルとの混合物(8/2 )で溶離し、1
6■の所期の精製化合物を得た。その赤外線スペクトル
は真正の試料のものと一致した。
サンと酢酸エチルとの混合物(8/2 )で溶離し、1
6■の所期の精製化合物を得た。その赤外線スペクトル
は真正の試料のものと一致した。
1 臭素化
不活性雰囲気下に、例5の工程Aで得られたi2gの(
3α、5β)−3−アセチルオキシ−11−オキソ−2
4−ノルコラン−23−酸(純度85%)、32ccの
塩化メチレン及び6. I OCのピリジンを混合し、
−5℃で12ccの塩化チオニル金約10分間で滴下し
、次いで一10℃で(L6ccの臭素を約10分間で添
加する。20°Cで2時間30分かきまぜた後、8cc
のジエチルアミンを一5℃で約20分間で導入する。こ
れを20℃で1時間かきまぜ、次いで反応混合物を2N
冷塩酸水溶液中に注ぎ、15分間かきまぜる。塩化メチ
レンで抽出し、抽出物を水洗し、乾燥し、活性炭で処理
し、減圧蒸留によシ乾固させ、5.11iの所期の粗臭
素化物を得た。これはそのまま次の反応に用いる。
3α、5β)−3−アセチルオキシ−11−オキソ−2
4−ノルコラン−23−酸(純度85%)、32ccの
塩化メチレン及び6. I OCのピリジンを混合し、
−5℃で12ccの塩化チオニル金約10分間で滴下し
、次いで一10℃で(L6ccの臭素を約10分間で添
加する。20°Cで2時間30分かきまぜた後、8cc
のジエチルアミンを一5℃で約20分間で導入する。こ
れを20℃で1時間かきまぜ、次いで反応混合物を2N
冷塩酸水溶液中に注ぎ、15分間かきまぜる。塩化メチ
レンで抽出し、抽出物を水洗し、乾燥し、活性炭で処理
し、減圧蒸留によシ乾固させ、5.11iの所期の粗臭
素化物を得た。これはそのまま次の反応に用いる。
2、トリトンBによる処理(脱臭化水素)不活性雰囲気
下にt5Iの上で得た粗臭素化物、15ccのメタノー
ル及び12CCのトリトンB(水酸化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム)40%水溶液を混合し、1時間30分
加熱還流し、次いで冷却し、水中に注ぎ、塩化メチレン
で抽出する。
下にt5Iの上で得た粗臭素化物、15ccのメタノー
ル及び12CCのトリトンB(水酸化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム)40%水溶液を混合し、1時間30分
加熱還流し、次いで冷却し、水中に注ぎ、塩化メチレン
で抽出する。
抽出物を塩化ナトリウム飽和水で、[15M、9ん酸モ
ノナトリウム水溶液で、次いで塩化ナトリウム飽和水で
洗い、乾燥し、減圧蒸留によシ濃縮乾固し、8379の
粗製の所期化合物″を得た。これはそのまま次の反応に
用いる。
ノナトリウム水溶液で、次いで塩化ナトリウム飽和水で
洗い、乾燥し、減圧蒸留によシ濃縮乾固し、8379の
粗製の所期化合物″を得た。これはそのまま次の反応に
用いる。
五 アセチル化
不活性雰囲気下に、上で得た化合物、3CCのピリジン
及びtsccの無水酢酸を混合し、20℃で20時間か
きまぜる。数CCの水を加え、1時間かきまぜた後、反
応混合物を塩化ナトリウム飽和水中に注ぎ、塩化メチレ
ンで抽出する。抽出物を塩化ナトリウム飽和水で洗い、
乾燥し、減圧蒸留によシ乾固し、954■の粗製の所期
アセチル化物を得た。この化合物は次の工程にそのまま
用いる。
及びtsccの無水酢酸を混合し、20℃で20時間か
きまぜる。数CCの水を加え、1時間かきまぜた後、反
応混合物を塩化ナトリウム飽和水中に注ぎ、塩化メチレ
ンで抽出する。抽出物を塩化ナトリウム飽和水で洗い、
乾燥し、減圧蒸留によシ乾固し、954■の粗製の所期
アセチル化物を得た。この化合物は次の工程にそのまま
用いる。
4、 オゾン化
上記工程3で得た954■の粗アセチル化物、15CC
の塩化メチレン及びa CCの酢酸を混合し、0℃でオ
ゾン化酸素の流れを1時間通じる。その後、反応混合物
を水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。抽出物を塩化
ナトリウム飽和水で洗い、乾燥し、減圧蒸留によシ濃縮
乾固し、992■の粗オゾン化物を得た。この粗オゾン
化物をシリカでクロマトグラフィーし、シクロヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(75/25 )で溶離し、1
06■の所期の6α−アセトキシ−11,20−?)オ
キソ−5β−プレグナンを得たO IRスペクトル(りpロホルム) IRスペクトルは3α−アセトキシ−11,20−ジオ
キソ−5β−プレグナンの真正試料のスペクトルと一致
した。
の塩化メチレン及びa CCの酢酸を混合し、0℃でオ
ゾン化酸素の流れを1時間通じる。その後、反応混合物
を水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。抽出物を塩化
ナトリウム飽和水で洗い、乾燥し、減圧蒸留によシ濃縮
乾固し、992■の粗オゾン化物を得た。この粗オゾン
化物をシリカでクロマトグラフィーし、シクロヘキサン
と酢酸エチルとの混合物(75/25 )で溶離し、1
06■の所期の6α−アセトキシ−11,20−?)オ
キソ−5β−プレグナンを得たO IRスペクトル(りpロホルム) IRスペクトルは3α−アセトキシ−11,20−ジオ
キソ−5β−プレグナンの真正試料のスペクトルと一致
した。
Claims (8)
- (1)次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔ここで、R_1は水素原子又はメチル基を表わし、R
_2はメチル又はエチル基を表わし、 環A、B、C及びDは1個以上の二重結合を有していて
よく、かつ、1個以上の保護されていてよいヒドロキシ
ル若しくはケトン官能基、1個以上のハロゲン原子、1
個以上のアルキル若しくはアルコキシ基(1〜4個の炭
素原子を含有する)又は1個以上のアルケニル若しくは
アルキニル基(2〜4個の炭素原子を含有する)で置換
されていてよく、 Rはハロゲン原子、ヒドロキシル基、1〜6個の炭素原
子を含有するアルコキシ基、7〜15個の炭素原子を含
有するアラルコキシ基、又は基▲数式、化学式、表等が
あります▼(R_3及びR_4は同一又は異なつていて
よく、それぞれ水素原子、1〜6個の炭素原子を含有す
るアルキル基又は7〜15個の炭素原子を含有するアラ
ルキル基を表わすか、或るいはR_3とR_4はそれら
の結合している窒素原子とともに複素環(これは窒素及
び酸素原子から選ばれる他のヘテロ原子を含有してもよ
い)を形成する)を表わすか、或るいはRは1〜6個の
炭素原子を含有するアルキルチオ基又は多くとも15個
の炭素原子を含有するアリールチオ若しくはアラルキル
チオ基を表わす〕 の化合物(ただし、Rがメトキシ基を表し、R_1及び
R_2のそれぞれがメチル基を表わし、環Aが3β−ア
セトキシ官能基を含みかつ環Bが5(6)位置に二重結
合を含む化合物は除く)。 - (2)R_1及びR_2がそれぞれメチル基を表わし、
環A、B、C及びDが3位置に保護されていてよいヒド
ロキシル官能基を有し、そして場合によつては6、7、
11及び12位置の保護されていてよいヒドロキシル官
能基並びに7、11及び12位置の保護されていてよい
ケトン官能基から選ばれる1個又は数個の他の官能基を
有していてよく、Rがヒドロキシル基、多くとも4個の
炭素原子を含有するアルコキシ基又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼(R′_3及びR′
_4は水素原子又は多くとも4個の炭素原子を含有する
アルキル基を表わすか、或るいはR′_3とR′_4は
それらが結合している窒素原子と共にピペリジノ、ピロ
リジノ又はモルホリノ基を形成する)を表わす特許請求
の範囲第1項記載の一般式( I )の化合物。 - (3)環A、B、C及びDが3位置に保護されていてよ
いヒドロキシル基を有し、そして場合によつては12位
置の保護されていてよいヒドロキシル官能基及び11若
しくは12位置の保護されていてよいケトン官能基から
選ばれる1個又は数個の他の官能基を有していてよく、
Rがヒドロキシル、メトキシ、エトキシ又はモルホリノ
基を表わす特許請求の範囲第1又は2項記載の一般式(
I )の化合物。 - (4)下記の化合物 (3α,5β)−4−〔(3−アセチルオキシ)−11
,23,24−トリオキソコラン−24−イル〕モルホ
リン (3a,5β)−11,23−ジオキソ−3−ヒドロキ
シコラン−24−酸 3α−ヒドロキシ−11,23−5β−コラン−24−
酸のメチルエステル (3α,5β)−3−(アセチルオキシ)−11,23
−ジオキソコラン−24−酸 に相当する特許請求の範囲第1項記載の一般式( I )
の化合物。 - (5)特許請求の範囲第1項記載の一般式( I )の化
合物を製造する方法であつて、次式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (ここで、A、B、C、D、R_1及びR_2は特許請
求の範囲第1項記載の意味を有する) の化合物をまず酸ハロゲン化物形成剤で、次いで第三塩
基で、次いで塩化チオニルで処理し、最後に随意に水、
アルカノール、アラルカノール、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (R_3及びR_4は特許請求の範囲第1項記載の意味
を有する) の第一若しくは第二アミン、アルキルチオール、アリー
ルチオール又はアラルキルチオールで処理して次式(I
II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (ここでA、B、C、D、R、R_1及びR_2は上で
示した意味を有する) の化合物を得、式(III)の化合物を (a)水性酸又は酸化剤で、或るいは (b)ハロゲン化剤で、次いで塩基性加水分解剤で、処
理し、そして随意に、Rがヒドロキシル基を表わす式(
I )の得られた化合物をアルカノール、アラルカノー
ル、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでR_3及びR_4は特許請求の範囲第1項記載
の意味を有する。) の第一若しくは第二アミン、アルキルチオール、アリー
ルチオール又はアラルキルチオールで処理し、或るいは
Rがヒドロキシル基を表わす式( I )の得られた化合
物を酸ハロゲン化物形成剤で処理することを特徴とする
式( I )の化合物の製造法。 - (6)一般式( I )の化合物を次式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (ここで、A、B、C、D、R_1及びR_2は特許請
求の範囲第1項記載の意味を有する) の化合物の製造に使用するにあたり、一般式( I )の
化合物を強酸化剤で処理して次式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (ここで、A、B、C、D、R_1及びR_2は特許請
求の範囲第1項記載の意味を有する) の化合物を得、式(IV)の化合物をまず酸ハロゲン化物
形成剤で、次いで第三塩基で、次いで塩化チオニルで、
ハロゲン化剤で、そして最後に随意に水、アルカノール
、アラルカノール、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (R_3及びR_4は特許請求の範囲第1項記載の意味
を有する) の第一若しくは第二アミン、アルキルチオール、アリー
ルチオール又はアラルキルチオールで処理して次式(V
) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (ここで、A、B、C、D、R、R_1及びR_2は特
許請求の範囲第1項記載の意味を有し、Halはハロゲ
ン原子を表わす) の化合物を得、式(V)の化合物をまず脱ハロゲン化水
素剤で、次いで酸化的解裂剤で処理して式(VI)の所期
化合物を得ることを特徴とする一般式( I )の化合物
を式(VI)の化合物の製造に使用する方法。 - (7)酸ハロゲン化物形成剤が塩化チオニルであること
を特徴とする特許請求の範囲第5又は6項記載の方法。 - (8)新規工業用化合物としての特許請求の範囲第6項
記載の式(V)の化合物。
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