JPS63150252A - 4,4’−ビス〔3−(4−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ジフエニルエ−テルおよびその製造方法 - Google Patents

4,4’−ビス〔3−(4−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ジフエニルエ−テルおよびその製造方法

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JPS63150252A JP61297641A JP29764186A JPS63150252A JP S63150252 A JPS63150252 A JP S63150252A JP 61297641 A JP61297641 A JP 61297641A JP 29764186 A JP29764186 A JP 29764186A JP S63150252 A JPS63150252 A JP S63150252A
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、4,4′−ビス(3−(4−アミノフェノキ
シ)ベンゾイルクジフェニルエーテルおよびその製造方
法に関する。
更に詳しくは、3−(4−ニトロフェノキシ)安息香酸
クロリドとジフェニルエーテルをルイル酸触媒の存在下
に縮合して4,4°−ビス(3−(4−ニトロフェノキ
シ)ベンゾイルクジフェニルエーテルとし、ついでこれ
を還元して得られる4、41−ビス(3−(4−アミノ
フェノキシ)ベンゾイルクジフェニルエーテルに関する
本発明の4.4′−ビス(3−(4−アミノフェノキシ
)ベンゾイルクジフェニルエーテルは、かって製造され
た例がなく、その用途も知られていない。
しかしながら、その構造上、耐熱性高分子のモノマー、
特にポリアミド、ポリイミドおよびポリアミノビスマレ
イド樹脂等の基幹原料として有用である。
〔従来技術〕
従来、テトラカルボン酸二無水物とジアミンの反応によ
り得られるポリイミドは種々の優れた物性、特に耐熱性
が良好なことが知られ、今後更に耐熱性が要求される分
野に広く利用されることが期待されている。
しかしながら、従来公知のポリイミド樹脂は、優れた耐
熱性を有するものは加工性に乏しく、また加工性の向上
を目的として開発されたものは逆に耐熱性、耐溶剤性に
劣る等の種々の問題点を有している。例えば式(DI) (DI) で表わされる様な基本骨格からなるポリイミド(デュポ
ン社製;商品名Kapton、 Vespel)は明瞭
なガラス転移温度を有せず、耐熱性は優れたポリイミド
であるが、成形材料として用いる場合に加工が難しく、
焼結成形などの手法を用いて加工しなければならない。
また式(IV) で表わされる様な基本骨格を有するポリエーテルイミド
(ゼネラル・エレクトリック社製;商品名ULTEM 
)は加工性に優れた樹脂であるが、ガラス転移温度が2
17°Cと低く、またメチレンクロリドなどのハロゲン
化炭化水素に可溶で、耐熱性、耐溶剤性の面からは満足
のゆく樹脂ではない。
一方、式(V) (V) で表わされる様な基本骨格を有するポリエーテルエーテ
ルケトン(IC,1社製;商品名 ピクトレックス)は
、ガラス転移温度143°C1融点334”C1熱変形
温度152°Cと、従来のポリイミドに比べて熱的性質
の面で劣っている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の課題は、ポリイミド樹脂が本来有する優れた耐
熱性に加え、優れた加工性および耐熱接着性を有する多
目的用途に使用可能なポリイミド樹脂の原料となる新規
な化合物、すなわち、芳香族エーテルジアミンを提供す
ることである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、上記のような課題達成のため種々のジア
ミンを合成し、それらを原料としポリイミド樹脂を製造
し、その性能の評価を行ってきた。その結果、式(I) @2 で表わされる4、4゛−ビス(3−(4−アミノフェノ
キシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテルを初めて製造し
、この化合物がテトラカルボン酸二無水物との重合体に
おいて優れた耐熱性、加工性、接着性を有し、この新規
な芳香族エーテルジアミンが耐熱性樹脂原料として好ま
しいものであることを見出した。
即ち、本発明は、新規な芳香族エーテルジアミンである
4、4“−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾ
イル〕ジフェニルエーテルおよびその製造方法に関する
本発明の化合物を製造するのに用いられる方法は、3−
(4−ニトロフェノキシ)安息香酸クロリドとジフェニ
ルエーテルの縮合反応(以下、第1段の反応という)と
、還元反応(以下、第2段の反応という)の2種の反応
より成る。
第1段の反応で使用される原料の3−(4−ニトロフェ
ノキシ)安息香酸クロリドは、m−ヒドロキシ安息香酸
とp−クロロニトロベンゼンを縮合し、続いてクロル化
することにより容易に製造できる。
原料の使用量は、特に限定的はないが、通常、3−(4
−ニトロフェノキシ)安息香酸クロリドをジフェニルエ
ーテルに対して2〜3倍モルであるように使用する。
この反応で使用する触媒は、通常のFr1edel−C
ra f ts反応に用いられるルイス酸触媒をいずれ
も使用できる。
通常、使用される触媒として、無水塩化アルミニウム、
無水塩化第二鉄、無水硫酸第二鉄、三弗化ホウ素等のル
イス酸があげられる。
これらの触媒の使用量は、3−(4−ニトロフェノキシ
)安息香酸クロリドに対して無水塩化アルミニウムの場
合は1〜2モル必要であり、無水塩化第二鉄、無水硫酸
第二鉄、三弗化ホウ素等はo、oos〜0.1モル、好
ましくは0.01〜0.05モルである。
反応は、溶媒がなくても良いが、好ましくは溶媒を使用
する。溶媒としては、特に限定はないが、反応に不活性
なジクロロメタン、クロロホルム、1.2−ジクロロエ
タン、1,1.2−トリクロロエタン、1.1,2.2
−テトラクロロエチレンなどの脂肪族ハロゲン化炭化水
素の他、二硫化炭素、ニトロベンゼンが使用される。
反応温度は特に限定はないが、通常O〜200°Cの範
囲である。
反応の終点は、塩化水素ガスの発生量を定量するか、ま
たは薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフ
ィー等の手段により確認できる。
反応終了後、反応液を水に排出した後、必要に応じて溶
媒を留去すると、4,4゛−ビス(3−(4−ニトロフ
ェノキシ)ベンゾイルフジフェニルエーテルの粗製品が
得られ、通常は、そのまま第2段の反応に使用する。
第2段の還元反応は特に制限はなく、通常ニトロ基をア
ミノ基に還元する方法(例えば、新実験化学講座、15
巻、酸化と還元〔■〕、丸善(1977))を適用でき
るが、工業的には接触還元が好ましい。
接触還元の例をあげれば、ニッケル、パラジウム、白金
等の金属触媒や担持触媒またはニッケルや銅などのラネ
ー触媒等の還元触媒を原料の4,4”−ビス(3−(4
−ニトロフェノキシ)ベンゾイルフジフェニルエーテル
に対して、金属として0.01〜10重量%、したがっ
て、金属の状態で使用する場合は2〜8重量%、担体に
担持させた場合では0.1〜5重量%の範囲で用いられ
る。
反応溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限
定はなく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロ
ピルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール
、プロピレングリコール等のグリコール類、ジエチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキ
シエタノール等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル
等のエステル類、およびN、N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド等が使用できる。
溶媒の使用量は、原料を懸濁させるか、あるいは完全に
溶解させるに足る量で十分であり、特に限定はないが、
通常、原料に対して0.5〜10重景倍重量分である。
反応温度は、特に限定はない。一般的には20〜200
°Cの範囲、特に20〜100°Cが好ましい。また、
反応圧力は、通常、常圧〜50Kg/cfll−G程度
である。
反応は、通常、原料を溶媒に溶解もしくは懸濁させた状
態で触媒を加え、ついで撹拌下に所定の温度で水素を導
入して還元反応を行う。反応の終点は水素吸収量によっ
ても、あるいは薄層クロマトグラフィーや高速液体クロ
マトグラフィーなどによっても決定できる。
反応終了後、反応液を濾過して触媒を除去した後、冷却
すると、目的とする芳香族エーテルジアミンの結晶が得
られる。
以上の方法により本発明の新規の芳香族エーテルジアミ
ンを得ることができる。
〔作用および効果〕
本発明の新規な芳香族エーテルジアミンである4、4′
−ヒス(3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイルフジ
フェニルエーテルは、3−(4−ニトロフェノキシ)安
息香酸クロリドとジフェニルエーテルとの縮合、還元反
応により工業的に容易に製造できる。
この本発明の芳香族エーテルジアミンは一種以上のテト
ラカルボン酸二無水物と重合させてポリアミド酸、更に
これを環化脱水してポリイミドを得ることができる。
本発明の芳香族エーテルジアミンを原料とするポリイミ
ド樹脂は、式(V)で表わされるポリエーテルエーテル
ケトンの構造にイミド結合を導入した構造に類似してお
り、ポリエーテルエーテルケトンに比べて耐熱性の面で
大きな向上がみられ、しかも成形加工性に優れていると
いう特徴を有する。
即ち、本発明の化合物を基幹原料とするポリイミド樹脂
は、従来のポリイミドと同様な耐熱性を有していながら
、熱可塑性であるため加工性および耐熱接着性に優れて
おり、その中のあるものは、高耐熱性の溶融成形可能な
ポリイミドである。
さらにまたある種のテトラカルボン酸二無水物から得ら
れるポリイミドフィルムはほとんど無色であるという優
れた特徴を持っている。
従ってこれらのポリイミドは宇宙・航空機用基材、電気
電子部品用基材として、さらには耐熱性接着剤として極
めて有用なポリイミドである。
すなわち、本発明の化合物は、今後更に耐熱性が要求さ
れる分野の樹脂原料として広く利用されうるちのである
〔実施例〕
以下に、本発明を実施例および参考例により具体的に説
明する。
実施例−1 撹拌機、還流冷却管、温度計を備えた2I!、フラスコ
中に、3−ニトロフェノキシベンゾイルクロリド309
g (1,11モル)、ジフェニルエーテル85.5g
(0,502モル) 、1.2−ジクロロエタンII!
、を装入する。
温度が40°Cを越えないようにして撹拌下に無水塩化
アルミニウム198g(1,49モル)を1.5時間で
分割添加する。55〜60°Cで更に11時間撹拌後、
冷却して、水2j2中に排出する。
分離する有機層を5χNaOH水溶液で洗浄した後、溶
媒を減圧留去すると、式(n)の粗ジニトロ化合物が黄
褐色オイルとして得られる。収量312g(収率95χ
) この粗ジニトロ化合物の一部を、シリカゲル(和光純薬
(C−100))を用いカラムクロマトグラフィーで分
離して、精ジニトロ化合物を黄色オイルとして得た。
I R(neat、 cln−’):1650(カルボ
ニル基)1340 にトロ基) 1230(エーテル結合) この粗ジニトロ化合物を2−メトキシエタノール1.5
 j2に溶解し、還流冷却管、温度計、撹拌機を備えた
、接触還元用フラスコに装入し、5χPd/CI6.5
gを加える。
激しく撹拌しながら、30〜35°Cで水素を導入する
と水素の吸収は7.5時間で止まる。得られた結晶を熱
濾過してPd/Cを除去し、冷却すると淡黄色結晶が析
出する。
濾過、洗浄後、乾燥して目的とする芳香族ジアミンを淡
黄色結晶として得た。
収量253g(収率85χ) このようにして得られた粗結晶を更に2−メトキシエタ
ノールより再結晶して純品を得た。
淡黄色鱗片結晶、mp 169.5〜171.5°C(
corr)元素分析 HN 計算値(χ)   77.01 4.76 4.73実
測値(χ)   ?6.86 4.59 4.65IR
(KBr disk、cm−’) : 3380(アミ
ノ基)1630(カルボニル基) 1220(エーテル結合) MS (FD法) : 592(M” ”)、296(
M” /2)参考例−1 かきまぜ機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器
に4.4゛−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾイル〕ジフェニルエーテル23.71g(0,04モ
ル)とN、N−ジメチルアセトアミド75゜5gを装入
し、室温で窒素雰囲気下にピロメリット酸二無水物8.
C’ 、(0,0396モル)を溶液温度の上昇に注意
しながら分割投入し24時間かきまぜた。
ここに得られたポリアミド酸の対数粘度は1.45a/
gであった(測定温度35°C,N、N−ジメチルアセ
トアミド溶液、濃度0.5g/a、以下同様)、このポ
リアミド酸の一部をとり、ガラス板上にキャストした後
、100°C,200°C,300°Cで各1時間加熱
し、淡褐色透明で厚さ40μのポリアミドイルムを得た
。このポリイミドフィルムのガラス転移温度は230°
C(TMA針人法人法定、以下同様)空気中での5%重
重量減湿温は545°C(DTA−TGで測定、以下同
様)融点は387°C(TMA針人法人法定、以下同様
)であった。またこのポリイミドフィルムの引張強さは
14.2Kg/mm2、引張り伸び率は13.3χであ
った(測定方法はともにASTM D−882に拠る以
下同様)。
参考例−2 かきまぜ機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器
に4,4°−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾイルフジフェニルエーテル23.71g(0,04モ
ル)とN、N−ジメチルアセトアミド74゜9gを装入
し、室温で窒素雰囲気下にピロメリット酸二無水物8.
38g(0,0384モル)を溶液温度の上昇に注意し
ながら分割投入し24時間かきまぜた。
得られたポリアミド酸の対数粘度は0.69dl/gで
あった。この得られたポリイミド酸溶液にN、N−ジメ
チルアセトアミド214gを装入し、かきまぜ゛ながら
窒素雰囲気下に、室温で12.25g(0,12モル)
の無水酢酸および10.15g(0,15モル)のトリ
エチルアミンを滴下し24時間かきまぜた。
この溶液を水II!、に排出し、析出物を濾別しメタノ
ールで洗浄し150°Cで8時間減圧乾燥して29gの
淡黄色のポリイミド粉末を得た(収率96.7χ)。
この粉末のDSC測定によるガラス転移温度は227°
C15%熱分解温度は540°Cであった。ここに得ら
れたポリイミド粉の赤外吸収スペクトルによれば、イミ
ドの特性吸収帯である1780cm−’付近と1720
cm−’付近、およびエーテル結合の特性吸収帯である
1240cm−’付近の吸収が顕著に認められた。
また、本実施例で得られた粉末を用いてフローテスター
(島津製作所製、CFT−500)で溶融粘度の測定を
行った。オリフィスは直径0.1印、長さ1cm、荷重
は100Kgである。
その結果、390°Cで5.2X10’ poise 
、  400°Cで8.2 XIO’ poise 、
  410°Cで1.2X10’poise。
420°Cで8.5X103poise、  430″
Cで6.7X10″poiseであった。各温度で得ら
れたストランドは褐色の透明で弾性に冨むものであった
参考例−3 かきまぜ機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器
に4,4゛−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾイルフジフェニルエーテル23.71g(0,04モ
ル)とN、N−ジメチルアセトアミド85゜1gを装入
し室温で窒素雰囲気下に3.3’ 、4.4’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物12.76g(0,
0396モル)を溶液温度の上昇に注意しながら分割投
入し24時間かきまぜた。ここに得られたポリアミド酸
の対数粘度は1.37d11./gであった。このポリ
アミド酸の一部をとり、ガラス板上にキャストした後、
100°C1200°C,300℃で各1時間加熱し淡
褐色透明で厚さ40μのポリイミドフィルムを得た。こ
のポリイミドフィルムのガラス転移温度は200°C1
空気中での5%重重量減湿温は531°Cであった。ま
たこのポリイミドフィルムの引張強さは12.4Kg/
mm” 、引張り伸び率は7.5%であった。さらにこ
のポリイミドフィルムを130°Cに予備加熱した冷間
圧延鋼板(JIS G3141,5PCC/SD。
25mm X 100mmm X 1 、6mm)間に
挿入し320°C150Kg/dで5分間加圧圧着させ
た。このものの室温での引張せん断接着強さは303K
g/cJであり、これをさらに240°Cの高温下で測
定したところ173Kg/cfflであった(測定方法
はJIS−に6848およびに−6850に拠る)。
また、本実施例で得られたポリアミド酸溶液を冷間圧延
鋼板に塗布し、100°Cで1時間、220°Cで1時
間乾燥加熱した後、他の冷間圧延鋼板を重ねて320°
C50Kg/cnで5分間加圧して圧着した。
塗布した接着剤の厚みは35μであった。このものの引
張せん断接着強度は室温で310Kg/c+flであり
、これを更に240°Cの高温下で測定したところ17
9Kg/ caであった。
更に上記ポリアミド酸溶液を電解銅箔上にキャストした
後、100℃、200°C1300°Cで各々1時間加
熱して、フレキシブル銅張回路基板を得た。
コーテイング膜の膜厚は約35μであった。この銅張回
路基板の銅箔引き剥し強さは90” ビール強度試験で
2.2Kg/cmであった。また300″Cで60秒は
んだ浴に浸漬しても膨れなどは全く生じなかった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表わされる4,4′−ビス〔3−(4−アミノフェノ
    キシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテル 2)3−(4−ニトロフェノキシ)安息香酸クロリドと
    ジフェニルエーテルをルイス酸触媒下に縮合して、式(
    II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で表わされるジニトロ化合物とし、ついで、これを還元
    することを特徴とする式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表わされる4,4′−ビス〔3−(4−アミノフェノ
    キシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテルの製造方法
JP61297641A 1986-12-16 1986-12-16 4,4’−ビス〔3−(4−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ジフエニルエ−テルおよびその製造方法 Expired - Fee Related JPH0737427B2 (ja)

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