JPS63150252A - 4,4’−ビス〔3−(4−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ジフエニルエ−テルおよびその製造方法 - Google Patents
4,4’−ビス〔3−(4−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ジフエニルエ−テルおよびその製造方法Info
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- JPS63150252A JPS63150252A JP61297641A JP29764186A JPS63150252A JP S63150252 A JPS63150252 A JP S63150252A JP 61297641 A JP61297641 A JP 61297641A JP 29764186 A JP29764186 A JP 29764186A JP S63150252 A JPS63150252 A JP S63150252A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、4,4′−ビス(3−(4−アミノフェノキ
シ)ベンゾイルクジフェニルエーテルおよびその製造方
法に関する。
シ)ベンゾイルクジフェニルエーテルおよびその製造方
法に関する。
更に詳しくは、3−(4−ニトロフェノキシ)安息香酸
クロリドとジフェニルエーテルをルイル酸触媒の存在下
に縮合して4,4°−ビス(3−(4−ニトロフェノキ
シ)ベンゾイルクジフェニルエーテルとし、ついでこれ
を還元して得られる4、41−ビス(3−(4−アミノ
フェノキシ)ベンゾイルクジフェニルエーテルに関する
。
クロリドとジフェニルエーテルをルイル酸触媒の存在下
に縮合して4,4°−ビス(3−(4−ニトロフェノキ
シ)ベンゾイルクジフェニルエーテルとし、ついでこれ
を還元して得られる4、41−ビス(3−(4−アミノ
フェノキシ)ベンゾイルクジフェニルエーテルに関する
。
本発明の4.4′−ビス(3−(4−アミノフェノキシ
)ベンゾイルクジフェニルエーテルは、かって製造され
た例がなく、その用途も知られていない。
)ベンゾイルクジフェニルエーテルは、かって製造され
た例がなく、その用途も知られていない。
しかしながら、その構造上、耐熱性高分子のモノマー、
特にポリアミド、ポリイミドおよびポリアミノビスマレ
イド樹脂等の基幹原料として有用である。
特にポリアミド、ポリイミドおよびポリアミノビスマレ
イド樹脂等の基幹原料として有用である。
従来、テトラカルボン酸二無水物とジアミンの反応によ
り得られるポリイミドは種々の優れた物性、特に耐熱性
が良好なことが知られ、今後更に耐熱性が要求される分
野に広く利用されることが期待されている。
り得られるポリイミドは種々の優れた物性、特に耐熱性
が良好なことが知られ、今後更に耐熱性が要求される分
野に広く利用されることが期待されている。
しかしながら、従来公知のポリイミド樹脂は、優れた耐
熱性を有するものは加工性に乏しく、また加工性の向上
を目的として開発されたものは逆に耐熱性、耐溶剤性に
劣る等の種々の問題点を有している。例えば式(DI) (DI) で表わされる様な基本骨格からなるポリイミド(デュポ
ン社製;商品名Kapton、 Vespel)は明瞭
なガラス転移温度を有せず、耐熱性は優れたポリイミド
であるが、成形材料として用いる場合に加工が難しく、
焼結成形などの手法を用いて加工しなければならない。
熱性を有するものは加工性に乏しく、また加工性の向上
を目的として開発されたものは逆に耐熱性、耐溶剤性に
劣る等の種々の問題点を有している。例えば式(DI) (DI) で表わされる様な基本骨格からなるポリイミド(デュポ
ン社製;商品名Kapton、 Vespel)は明瞭
なガラス転移温度を有せず、耐熱性は優れたポリイミド
であるが、成形材料として用いる場合に加工が難しく、
焼結成形などの手法を用いて加工しなければならない。
また式(IV)
で表わされる様な基本骨格を有するポリエーテルイミド
(ゼネラル・エレクトリック社製;商品名ULTEM
)は加工性に優れた樹脂であるが、ガラス転移温度が2
17°Cと低く、またメチレンクロリドなどのハロゲン
化炭化水素に可溶で、耐熱性、耐溶剤性の面からは満足
のゆく樹脂ではない。
(ゼネラル・エレクトリック社製;商品名ULTEM
)は加工性に優れた樹脂であるが、ガラス転移温度が2
17°Cと低く、またメチレンクロリドなどのハロゲン
化炭化水素に可溶で、耐熱性、耐溶剤性の面からは満足
のゆく樹脂ではない。
一方、式(V)
(V)
で表わされる様な基本骨格を有するポリエーテルエーテ
ルケトン(IC,1社製;商品名 ピクトレックス)は
、ガラス転移温度143°C1融点334”C1熱変形
温度152°Cと、従来のポリイミドに比べて熱的性質
の面で劣っている。
ルケトン(IC,1社製;商品名 ピクトレックス)は
、ガラス転移温度143°C1融点334”C1熱変形
温度152°Cと、従来のポリイミドに比べて熱的性質
の面で劣っている。
本発明の課題は、ポリイミド樹脂が本来有する優れた耐
熱性に加え、優れた加工性および耐熱接着性を有する多
目的用途に使用可能なポリイミド樹脂の原料となる新規
な化合物、すなわち、芳香族エーテルジアミンを提供す
ることである。
熱性に加え、優れた加工性および耐熱接着性を有する多
目的用途に使用可能なポリイミド樹脂の原料となる新規
な化合物、すなわち、芳香族エーテルジアミンを提供す
ることである。
本発明者らは、上記のような課題達成のため種々のジア
ミンを合成し、それらを原料としポリイミド樹脂を製造
し、その性能の評価を行ってきた。その結果、式(I) @2 で表わされる4、4゛−ビス(3−(4−アミノフェノ
キシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテルを初めて製造し
、この化合物がテトラカルボン酸二無水物との重合体に
おいて優れた耐熱性、加工性、接着性を有し、この新規
な芳香族エーテルジアミンが耐熱性樹脂原料として好ま
しいものであることを見出した。
ミンを合成し、それらを原料としポリイミド樹脂を製造
し、その性能の評価を行ってきた。その結果、式(I) @2 で表わされる4、4゛−ビス(3−(4−アミノフェノ
キシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテルを初めて製造し
、この化合物がテトラカルボン酸二無水物との重合体に
おいて優れた耐熱性、加工性、接着性を有し、この新規
な芳香族エーテルジアミンが耐熱性樹脂原料として好ま
しいものであることを見出した。
即ち、本発明は、新規な芳香族エーテルジアミンである
4、4“−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾ
イル〕ジフェニルエーテルおよびその製造方法に関する
。
4、4“−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾ
イル〕ジフェニルエーテルおよびその製造方法に関する
。
本発明の化合物を製造するのに用いられる方法は、3−
(4−ニトロフェノキシ)安息香酸クロリドとジフェニ
ルエーテルの縮合反応(以下、第1段の反応という)と
、還元反応(以下、第2段の反応という)の2種の反応
より成る。
(4−ニトロフェノキシ)安息香酸クロリドとジフェニ
ルエーテルの縮合反応(以下、第1段の反応という)と
、還元反応(以下、第2段の反応という)の2種の反応
より成る。
第1段の反応で使用される原料の3−(4−ニトロフェ
ノキシ)安息香酸クロリドは、m−ヒドロキシ安息香酸
とp−クロロニトロベンゼンを縮合し、続いてクロル化
することにより容易に製造できる。
ノキシ)安息香酸クロリドは、m−ヒドロキシ安息香酸
とp−クロロニトロベンゼンを縮合し、続いてクロル化
することにより容易に製造できる。
原料の使用量は、特に限定的はないが、通常、3−(4
−ニトロフェノキシ)安息香酸クロリドをジフェニルエ
ーテルに対して2〜3倍モルであるように使用する。
−ニトロフェノキシ)安息香酸クロリドをジフェニルエ
ーテルに対して2〜3倍モルであるように使用する。
この反応で使用する触媒は、通常のFr1edel−C
ra f ts反応に用いられるルイス酸触媒をいずれ
も使用できる。
ra f ts反応に用いられるルイス酸触媒をいずれ
も使用できる。
通常、使用される触媒として、無水塩化アルミニウム、
無水塩化第二鉄、無水硫酸第二鉄、三弗化ホウ素等のル
イス酸があげられる。
無水塩化第二鉄、無水硫酸第二鉄、三弗化ホウ素等のル
イス酸があげられる。
これらの触媒の使用量は、3−(4−ニトロフェノキシ
)安息香酸クロリドに対して無水塩化アルミニウムの場
合は1〜2モル必要であり、無水塩化第二鉄、無水硫酸
第二鉄、三弗化ホウ素等はo、oos〜0.1モル、好
ましくは0.01〜0.05モルである。
)安息香酸クロリドに対して無水塩化アルミニウムの場
合は1〜2モル必要であり、無水塩化第二鉄、無水硫酸
第二鉄、三弗化ホウ素等はo、oos〜0.1モル、好
ましくは0.01〜0.05モルである。
反応は、溶媒がなくても良いが、好ましくは溶媒を使用
する。溶媒としては、特に限定はないが、反応に不活性
なジクロロメタン、クロロホルム、1.2−ジクロロエ
タン、1,1.2−トリクロロエタン、1.1,2.2
−テトラクロロエチレンなどの脂肪族ハロゲン化炭化水
素の他、二硫化炭素、ニトロベンゼンが使用される。
する。溶媒としては、特に限定はないが、反応に不活性
なジクロロメタン、クロロホルム、1.2−ジクロロエ
タン、1,1.2−トリクロロエタン、1.1,2.2
−テトラクロロエチレンなどの脂肪族ハロゲン化炭化水
素の他、二硫化炭素、ニトロベンゼンが使用される。
反応温度は特に限定はないが、通常O〜200°Cの範
囲である。
囲である。
反応の終点は、塩化水素ガスの発生量を定量するか、ま
たは薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフ
ィー等の手段により確認できる。
たは薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフ
ィー等の手段により確認できる。
反応終了後、反応液を水に排出した後、必要に応じて溶
媒を留去すると、4,4゛−ビス(3−(4−ニトロフ
ェノキシ)ベンゾイルフジフェニルエーテルの粗製品が
得られ、通常は、そのまま第2段の反応に使用する。
媒を留去すると、4,4゛−ビス(3−(4−ニトロフ
ェノキシ)ベンゾイルフジフェニルエーテルの粗製品が
得られ、通常は、そのまま第2段の反応に使用する。
第2段の還元反応は特に制限はなく、通常ニトロ基をア
ミノ基に還元する方法(例えば、新実験化学講座、15
巻、酸化と還元〔■〕、丸善(1977))を適用でき
るが、工業的には接触還元が好ましい。
ミノ基に還元する方法(例えば、新実験化学講座、15
巻、酸化と還元〔■〕、丸善(1977))を適用でき
るが、工業的には接触還元が好ましい。
接触還元の例をあげれば、ニッケル、パラジウム、白金
等の金属触媒や担持触媒またはニッケルや銅などのラネ
ー触媒等の還元触媒を原料の4,4”−ビス(3−(4
−ニトロフェノキシ)ベンゾイルフジフェニルエーテル
に対して、金属として0.01〜10重量%、したがっ
て、金属の状態で使用する場合は2〜8重量%、担体に
担持させた場合では0.1〜5重量%の範囲で用いられ
る。
等の金属触媒や担持触媒またはニッケルや銅などのラネ
ー触媒等の還元触媒を原料の4,4”−ビス(3−(4
−ニトロフェノキシ)ベンゾイルフジフェニルエーテル
に対して、金属として0.01〜10重量%、したがっ
て、金属の状態で使用する場合は2〜8重量%、担体に
担持させた場合では0.1〜5重量%の範囲で用いられ
る。
反応溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限
定はなく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロ
ピルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール
、プロピレングリコール等のグリコール類、ジエチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキ
シエタノール等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル
等のエステル類、およびN、N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド等が使用できる。
定はなく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロ
ピルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール
、プロピレングリコール等のグリコール類、ジエチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキ
シエタノール等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル
等のエステル類、およびN、N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド等が使用できる。
溶媒の使用量は、原料を懸濁させるか、あるいは完全に
溶解させるに足る量で十分であり、特に限定はないが、
通常、原料に対して0.5〜10重景倍重量分である。
溶解させるに足る量で十分であり、特に限定はないが、
通常、原料に対して0.5〜10重景倍重量分である。
反応温度は、特に限定はない。一般的には20〜200
°Cの範囲、特に20〜100°Cが好ましい。また、
反応圧力は、通常、常圧〜50Kg/cfll−G程度
である。
°Cの範囲、特に20〜100°Cが好ましい。また、
反応圧力は、通常、常圧〜50Kg/cfll−G程度
である。
反応は、通常、原料を溶媒に溶解もしくは懸濁させた状
態で触媒を加え、ついで撹拌下に所定の温度で水素を導
入して還元反応を行う。反応の終点は水素吸収量によっ
ても、あるいは薄層クロマトグラフィーや高速液体クロ
マトグラフィーなどによっても決定できる。
態で触媒を加え、ついで撹拌下に所定の温度で水素を導
入して還元反応を行う。反応の終点は水素吸収量によっ
ても、あるいは薄層クロマトグラフィーや高速液体クロ
マトグラフィーなどによっても決定できる。
反応終了後、反応液を濾過して触媒を除去した後、冷却
すると、目的とする芳香族エーテルジアミンの結晶が得
られる。
すると、目的とする芳香族エーテルジアミンの結晶が得
られる。
以上の方法により本発明の新規の芳香族エーテルジアミ
ンを得ることができる。
ンを得ることができる。
本発明の新規な芳香族エーテルジアミンである4、4′
−ヒス(3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイルフジ
フェニルエーテルは、3−(4−ニトロフェノキシ)安
息香酸クロリドとジフェニルエーテルとの縮合、還元反
応により工業的に容易に製造できる。
−ヒス(3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイルフジ
フェニルエーテルは、3−(4−ニトロフェノキシ)安
息香酸クロリドとジフェニルエーテルとの縮合、還元反
応により工業的に容易に製造できる。
この本発明の芳香族エーテルジアミンは一種以上のテト
ラカルボン酸二無水物と重合させてポリアミド酸、更に
これを環化脱水してポリイミドを得ることができる。
ラカルボン酸二無水物と重合させてポリアミド酸、更に
これを環化脱水してポリイミドを得ることができる。
本発明の芳香族エーテルジアミンを原料とするポリイミ
ド樹脂は、式(V)で表わされるポリエーテルエーテル
ケトンの構造にイミド結合を導入した構造に類似してお
り、ポリエーテルエーテルケトンに比べて耐熱性の面で
大きな向上がみられ、しかも成形加工性に優れていると
いう特徴を有する。
ド樹脂は、式(V)で表わされるポリエーテルエーテル
ケトンの構造にイミド結合を導入した構造に類似してお
り、ポリエーテルエーテルケトンに比べて耐熱性の面で
大きな向上がみられ、しかも成形加工性に優れていると
いう特徴を有する。
即ち、本発明の化合物を基幹原料とするポリイミド樹脂
は、従来のポリイミドと同様な耐熱性を有していながら
、熱可塑性であるため加工性および耐熱接着性に優れて
おり、その中のあるものは、高耐熱性の溶融成形可能な
ポリイミドである。
は、従来のポリイミドと同様な耐熱性を有していながら
、熱可塑性であるため加工性および耐熱接着性に優れて
おり、その中のあるものは、高耐熱性の溶融成形可能な
ポリイミドである。
さらにまたある種のテトラカルボン酸二無水物から得ら
れるポリイミドフィルムはほとんど無色であるという優
れた特徴を持っている。
れるポリイミドフィルムはほとんど無色であるという優
れた特徴を持っている。
従ってこれらのポリイミドは宇宙・航空機用基材、電気
電子部品用基材として、さらには耐熱性接着剤として極
めて有用なポリイミドである。
電子部品用基材として、さらには耐熱性接着剤として極
めて有用なポリイミドである。
すなわち、本発明の化合物は、今後更に耐熱性が要求さ
れる分野の樹脂原料として広く利用されうるちのである
。
れる分野の樹脂原料として広く利用されうるちのである
。
以下に、本発明を実施例および参考例により具体的に説
明する。
明する。
実施例−1
撹拌機、還流冷却管、温度計を備えた2I!、フラスコ
中に、3−ニトロフェノキシベンゾイルクロリド309
g (1,11モル)、ジフェニルエーテル85.5g
(0,502モル) 、1.2−ジクロロエタンII!
、を装入する。
中に、3−ニトロフェノキシベンゾイルクロリド309
g (1,11モル)、ジフェニルエーテル85.5g
(0,502モル) 、1.2−ジクロロエタンII!
、を装入する。
温度が40°Cを越えないようにして撹拌下に無水塩化
アルミニウム198g(1,49モル)を1.5時間で
分割添加する。55〜60°Cで更に11時間撹拌後、
冷却して、水2j2中に排出する。
アルミニウム198g(1,49モル)を1.5時間で
分割添加する。55〜60°Cで更に11時間撹拌後、
冷却して、水2j2中に排出する。
分離する有機層を5χNaOH水溶液で洗浄した後、溶
媒を減圧留去すると、式(n)の粗ジニトロ化合物が黄
褐色オイルとして得られる。収量312g(収率95χ
) この粗ジニトロ化合物の一部を、シリカゲル(和光純薬
(C−100))を用いカラムクロマトグラフィーで分
離して、精ジニトロ化合物を黄色オイルとして得た。
媒を減圧留去すると、式(n)の粗ジニトロ化合物が黄
褐色オイルとして得られる。収量312g(収率95χ
) この粗ジニトロ化合物の一部を、シリカゲル(和光純薬
(C−100))を用いカラムクロマトグラフィーで分
離して、精ジニトロ化合物を黄色オイルとして得た。
I R(neat、 cln−’):1650(カルボ
ニル基)1340 にトロ基) 1230(エーテル結合) この粗ジニトロ化合物を2−メトキシエタノール1.5
j2に溶解し、還流冷却管、温度計、撹拌機を備えた
、接触還元用フラスコに装入し、5χPd/CI6.5
gを加える。
ニル基)1340 にトロ基) 1230(エーテル結合) この粗ジニトロ化合物を2−メトキシエタノール1.5
j2に溶解し、還流冷却管、温度計、撹拌機を備えた
、接触還元用フラスコに装入し、5χPd/CI6.5
gを加える。
激しく撹拌しながら、30〜35°Cで水素を導入する
と水素の吸収は7.5時間で止まる。得られた結晶を熱
濾過してPd/Cを除去し、冷却すると淡黄色結晶が析
出する。
と水素の吸収は7.5時間で止まる。得られた結晶を熱
濾過してPd/Cを除去し、冷却すると淡黄色結晶が析
出する。
濾過、洗浄後、乾燥して目的とする芳香族ジアミンを淡
黄色結晶として得た。
黄色結晶として得た。
収量253g(収率85χ)
このようにして得られた粗結晶を更に2−メトキシエタ
ノールより再結晶して純品を得た。
ノールより再結晶して純品を得た。
淡黄色鱗片結晶、mp 169.5〜171.5°C(
corr)元素分析 HN 計算値(χ) 77.01 4.76 4.73実
測値(χ) ?6.86 4.59 4.65IR
(KBr disk、cm−’) : 3380(アミ
ノ基)1630(カルボニル基) 1220(エーテル結合) MS (FD法) : 592(M” ”)、296(
M” /2)参考例−1 かきまぜ機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器
に4.4゛−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾイル〕ジフェニルエーテル23.71g(0,04モ
ル)とN、N−ジメチルアセトアミド75゜5gを装入
し、室温で窒素雰囲気下にピロメリット酸二無水物8.
C’ 、(0,0396モル)を溶液温度の上昇に注意
しながら分割投入し24時間かきまぜた。
corr)元素分析 HN 計算値(χ) 77.01 4.76 4.73実
測値(χ) ?6.86 4.59 4.65IR
(KBr disk、cm−’) : 3380(アミ
ノ基)1630(カルボニル基) 1220(エーテル結合) MS (FD法) : 592(M” ”)、296(
M” /2)参考例−1 かきまぜ機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器
に4.4゛−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾイル〕ジフェニルエーテル23.71g(0,04モ
ル)とN、N−ジメチルアセトアミド75゜5gを装入
し、室温で窒素雰囲気下にピロメリット酸二無水物8.
C’ 、(0,0396モル)を溶液温度の上昇に注意
しながら分割投入し24時間かきまぜた。
ここに得られたポリアミド酸の対数粘度は1.45a/
gであった(測定温度35°C,N、N−ジメチルアセ
トアミド溶液、濃度0.5g/a、以下同様)、このポ
リアミド酸の一部をとり、ガラス板上にキャストした後
、100°C,200°C,300°Cで各1時間加熱
し、淡褐色透明で厚さ40μのポリアミドイルムを得た
。このポリイミドフィルムのガラス転移温度は230°
C(TMA針人法人法定、以下同様)空気中での5%重
重量減湿温は545°C(DTA−TGで測定、以下同
様)融点は387°C(TMA針人法人法定、以下同様
)であった。またこのポリイミドフィルムの引張強さは
14.2Kg/mm2、引張り伸び率は13.3χであ
った(測定方法はともにASTM D−882に拠る以
下同様)。
gであった(測定温度35°C,N、N−ジメチルアセ
トアミド溶液、濃度0.5g/a、以下同様)、このポ
リアミド酸の一部をとり、ガラス板上にキャストした後
、100°C,200°C,300°Cで各1時間加熱
し、淡褐色透明で厚さ40μのポリアミドイルムを得た
。このポリイミドフィルムのガラス転移温度は230°
C(TMA針人法人法定、以下同様)空気中での5%重
重量減湿温は545°C(DTA−TGで測定、以下同
様)融点は387°C(TMA針人法人法定、以下同様
)であった。またこのポリイミドフィルムの引張強さは
14.2Kg/mm2、引張り伸び率は13.3χであ
った(測定方法はともにASTM D−882に拠る以
下同様)。
参考例−2
かきまぜ機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器
に4,4°−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾイルフジフェニルエーテル23.71g(0,04モ
ル)とN、N−ジメチルアセトアミド74゜9gを装入
し、室温で窒素雰囲気下にピロメリット酸二無水物8.
38g(0,0384モル)を溶液温度の上昇に注意し
ながら分割投入し24時間かきまぜた。
に4,4°−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾイルフジフェニルエーテル23.71g(0,04モ
ル)とN、N−ジメチルアセトアミド74゜9gを装入
し、室温で窒素雰囲気下にピロメリット酸二無水物8.
38g(0,0384モル)を溶液温度の上昇に注意し
ながら分割投入し24時間かきまぜた。
得られたポリアミド酸の対数粘度は0.69dl/gで
あった。この得られたポリイミド酸溶液にN、N−ジメ
チルアセトアミド214gを装入し、かきまぜ゛ながら
窒素雰囲気下に、室温で12.25g(0,12モル)
の無水酢酸および10.15g(0,15モル)のトリ
エチルアミンを滴下し24時間かきまぜた。
あった。この得られたポリイミド酸溶液にN、N−ジメ
チルアセトアミド214gを装入し、かきまぜ゛ながら
窒素雰囲気下に、室温で12.25g(0,12モル)
の無水酢酸および10.15g(0,15モル)のトリ
エチルアミンを滴下し24時間かきまぜた。
この溶液を水II!、に排出し、析出物を濾別しメタノ
ールで洗浄し150°Cで8時間減圧乾燥して29gの
淡黄色のポリイミド粉末を得た(収率96.7χ)。
ールで洗浄し150°Cで8時間減圧乾燥して29gの
淡黄色のポリイミド粉末を得た(収率96.7χ)。
この粉末のDSC測定によるガラス転移温度は227°
C15%熱分解温度は540°Cであった。ここに得ら
れたポリイミド粉の赤外吸収スペクトルによれば、イミ
ドの特性吸収帯である1780cm−’付近と1720
cm−’付近、およびエーテル結合の特性吸収帯である
1240cm−’付近の吸収が顕著に認められた。
C15%熱分解温度は540°Cであった。ここに得ら
れたポリイミド粉の赤外吸収スペクトルによれば、イミ
ドの特性吸収帯である1780cm−’付近と1720
cm−’付近、およびエーテル結合の特性吸収帯である
1240cm−’付近の吸収が顕著に認められた。
また、本実施例で得られた粉末を用いてフローテスター
(島津製作所製、CFT−500)で溶融粘度の測定を
行った。オリフィスは直径0.1印、長さ1cm、荷重
は100Kgである。
(島津製作所製、CFT−500)で溶融粘度の測定を
行った。オリフィスは直径0.1印、長さ1cm、荷重
は100Kgである。
その結果、390°Cで5.2X10’ poise
、 400°Cで8.2 XIO’ poise 、
410°Cで1.2X10’poise。
、 400°Cで8.2 XIO’ poise 、
410°Cで1.2X10’poise。
420°Cで8.5X103poise、 430″
Cで6.7X10″poiseであった。各温度で得ら
れたストランドは褐色の透明で弾性に冨むものであった
。
Cで6.7X10″poiseであった。各温度で得ら
れたストランドは褐色の透明で弾性に冨むものであった
。
参考例−3
かきまぜ機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器
に4,4゛−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾイルフジフェニルエーテル23.71g(0,04モ
ル)とN、N−ジメチルアセトアミド85゜1gを装入
し室温で窒素雰囲気下に3.3’ 、4.4’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物12.76g(0,
0396モル)を溶液温度の上昇に注意しながら分割投
入し24時間かきまぜた。ここに得られたポリアミド酸
の対数粘度は1.37d11./gであった。このポリ
アミド酸の一部をとり、ガラス板上にキャストした後、
100°C1200°C,300℃で各1時間加熱し淡
褐色透明で厚さ40μのポリイミドフィルムを得た。こ
のポリイミドフィルムのガラス転移温度は200°C1
空気中での5%重重量減湿温は531°Cであった。ま
たこのポリイミドフィルムの引張強さは12.4Kg/
mm” 、引張り伸び率は7.5%であった。さらにこ
のポリイミドフィルムを130°Cに予備加熱した冷間
圧延鋼板(JIS G3141,5PCC/SD。
に4,4゛−ビス(3−(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾイルフジフェニルエーテル23.71g(0,04モ
ル)とN、N−ジメチルアセトアミド85゜1gを装入
し室温で窒素雰囲気下に3.3’ 、4.4’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物12.76g(0,
0396モル)を溶液温度の上昇に注意しながら分割投
入し24時間かきまぜた。ここに得られたポリアミド酸
の対数粘度は1.37d11./gであった。このポリ
アミド酸の一部をとり、ガラス板上にキャストした後、
100°C1200°C,300℃で各1時間加熱し淡
褐色透明で厚さ40μのポリイミドフィルムを得た。こ
のポリイミドフィルムのガラス転移温度は200°C1
空気中での5%重重量減湿温は531°Cであった。ま
たこのポリイミドフィルムの引張強さは12.4Kg/
mm” 、引張り伸び率は7.5%であった。さらにこ
のポリイミドフィルムを130°Cに予備加熱した冷間
圧延鋼板(JIS G3141,5PCC/SD。
25mm X 100mmm X 1 、6mm)間に
挿入し320°C150Kg/dで5分間加圧圧着させ
た。このものの室温での引張せん断接着強さは303K
g/cJであり、これをさらに240°Cの高温下で測
定したところ173Kg/cfflであった(測定方法
はJIS−に6848およびに−6850に拠る)。
挿入し320°C150Kg/dで5分間加圧圧着させ
た。このものの室温での引張せん断接着強さは303K
g/cJであり、これをさらに240°Cの高温下で測
定したところ173Kg/cfflであった(測定方法
はJIS−に6848およびに−6850に拠る)。
また、本実施例で得られたポリアミド酸溶液を冷間圧延
鋼板に塗布し、100°Cで1時間、220°Cで1時
間乾燥加熱した後、他の冷間圧延鋼板を重ねて320°
C50Kg/cnで5分間加圧して圧着した。
鋼板に塗布し、100°Cで1時間、220°Cで1時
間乾燥加熱した後、他の冷間圧延鋼板を重ねて320°
C50Kg/cnで5分間加圧して圧着した。
塗布した接着剤の厚みは35μであった。このものの引
張せん断接着強度は室温で310Kg/c+flであり
、これを更に240°Cの高温下で測定したところ17
9Kg/ caであった。
張せん断接着強度は室温で310Kg/c+flであり
、これを更に240°Cの高温下で測定したところ17
9Kg/ caであった。
更に上記ポリアミド酸溶液を電解銅箔上にキャストした
後、100℃、200°C1300°Cで各々1時間加
熱して、フレキシブル銅張回路基板を得た。
後、100℃、200°C1300°Cで各々1時間加
熱して、フレキシブル銅張回路基板を得た。
コーテイング膜の膜厚は約35μであった。この銅張回
路基板の銅箔引き剥し強さは90” ビール強度試験で
2.2Kg/cmであった。また300″Cで60秒は
んだ浴に浸漬しても膨れなどは全く生じなかった。
路基板の銅箔引き剥し強さは90” ビール強度試験で
2.2Kg/cmであった。また300″Cで60秒は
んだ浴に浸漬しても膨れなどは全く生じなかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表わされる4,4′−ビス〔3−(4−アミノフェノ
キシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテル 2)3−(4−ニトロフェノキシ)安息香酸クロリドと
ジフェニルエーテルをルイス酸触媒下に縮合して、式(
II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で表わされるジニトロ化合物とし、ついで、これを還元
することを特徴とする式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表わされる4,4′−ビス〔3−(4−アミノフェノ
キシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテルの製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61297641A JPH0737427B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 4,4’−ビス〔3−(4−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ジフエニルエ−テルおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61297641A JPH0737427B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 4,4’−ビス〔3−(4−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ジフエニルエ−テルおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63150252A true JPS63150252A (ja) | 1988-06-22 |
JPH0737427B2 JPH0737427B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=17849209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61297641A Expired - Fee Related JPH0737427B2 (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | 4,4’−ビス〔3−(4−アミノフエノキシ)ベンゾイル〕ジフエニルエ−テルおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0737427B2 (ja) |
-
1986
- 1986-12-16 JP JP61297641A patent/JPH0737427B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0737427B2 (ja) | 1995-04-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |