JPS63147890A - 高融点材料の単結晶薄膜の製造方法 - Google Patents

高融点材料の単結晶薄膜の製造方法

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JPS63147890A
JPS63147890A JP29643486A JP29643486A JPS63147890A JP S63147890 A JPS63147890 A JP S63147890A JP 29643486 A JP29643486 A JP 29643486A JP 29643486 A JP29643486 A JP 29643486A JP S63147890 A JPS63147890 A JP S63147890A
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JP
Japan
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film
single crystal
melting point
high melting
point material
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Pending
Application number
JP29643486A
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English (en)
Inventor
Shigeru Uenishi
上西 繁
Shinji Komoguchi
菰口 伸二
Tatsuo Morita
達夫 森田
Yoshiharu Nakajima
義晴 中嶋
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は単結晶薄膜の製造方法、特に高融点材料の単結
晶薄膜の製造方法に関するものである。
(従来の技術) 近年、絶縁性の非晶質基板上に形成した非晶質薄膜ある
いは多結晶薄膜に、レーザービームあるいは電子ビーム
等のエネルギービームを照射して溶融させた後、再結晶
化して単結晶領域を作成する技術の開発が、特にシリコ
ンウェハの結晶性の回復や物性の安定化を目的としたア
ニール技術の分野で進められている。
ところで、本発明者等は、このようなエネルギービーム
によるアニール、いわゆるビームアニールによって単結
晶薄膜を得る技術を、上述したSo 1  (Sili
con on In5ulator)の系に限らず、例
えばチタンの酸化化合物等の高融点材料の単結晶薄膜の
形成にも利用することを考えた。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、単結晶を得るための上記エネルギービー
ムのビームエネルギー密度は大きく、材料物質の融点が
高ければ高いほどアニールを行うのが困難になるという
事実があり、基板その他の装置上でビー・ムアニールに
より高融点材料の単結晶薄膜を基板や装置に損傷を与え
ずして形成することは非常に困難である。
(問題点を解決するための手段) 本発明者等は、上述したような問題点に鑑み、鋭意研究
の結果、微粒子、特に粒径が100OA以下の超微粒子
が大きな表面エネルギー、低融点および表面活性を有す
る点に着目し、高融点材料の単結晶薄膜を低エネルギー
密度で形成し得ることを見出した。すなわち、本発明に
係る高融点材料の単結晶薄膜の製造方法は、基板上に形
成する高融点材料の被アニール膜を、粒径が1000Å
以下の微粒子膜とし、この膜にエネルギービームを照射
して単結晶薄膜を形成するものである。
(実施例) 以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
図面は本発明方法を実施するための装置の一例を示す概
略図である。なお、本発明を実施する装置は、この図に
示すものに限るものではない。
図中の符号3は真空チャンバーで、その内部は、下端部
に接続されたポンプ6.7等により高真空に保持されて
いる。この真空チャンバー3内には基板4が設けられて
おり、基板4上に粒径が1000Å以下の高融点材料物
質、例えば二酸化チタン等の微粒子膜5を堆積させてい
る。また真空チャンバー3の上部には、電子銃もしくは
レーザー銃等のエネルギービーム発生装置lが基板4に
向けて設けられており、このエネルギービーム発生H2
1で発生したビーム(図中矢符で示す)は、該発生装置
lの下方に設けられたビーム照射系2によりその強度お
よび方向がコントロールされ、基板4上の微粒子膜5に
達するようになされている。
そして、ビームを照射しビーム強度が充分な値に達する
と、微粒子膜5は融解あるいは合体し、ビームを照射系
2にてコントロールして走査することにより単結晶薄膜
が成長する。なお、高融点材料物質としては、上述した
二酸化チタンに限るものではなく、またその粒径は10
00Å以下であればよいが、100Å以下であるとより
好ましい。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば、高融点材料の被
アニール膜を、粒径が1000Å以下の微粒子膜とした
ため、エネルギービームのビーム密度を小さくすること
ができ、比較的低温でしかも容易に高融点材料の単結晶
薄膜を形成することができる。したがって、基板や装置
等に損傷を与えることがほとんどない。本発明は種々の
分野、特に半導体形成分野に応用できる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明方法を実施するための装置の一例を示す概
略図である。 ■・・・電子銃もくしはレーザー銃 2・・・ビーム照射系   3・・・真空チャンバー4
・・・基板       5・・・微粒子膜6.7・・
・ポンプ 出願人 シャープ株式会?h2;U−6?斥Cz;/T
、: 代理人 弁理士 倉内 義朗・、−顎、−。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)基板上に形成する高融点材料の被アニール膜を、粒
    径が1000Å以下の微粒子膜とし、この膜にエネルギ
    ービームを照射して単結晶薄膜を形成することを特徴と
    する高融点材料の単結晶薄膜の製造方法。
JP29643486A 1986-12-11 1986-12-11 高融点材料の単結晶薄膜の製造方法 Pending JPS63147890A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002020199A (ja) * 2000-07-03 2002-01-23 Japan Atom Energy Res Inst ルチル型酸化チタン単結晶薄膜の作製法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002020199A (ja) * 2000-07-03 2002-01-23 Japan Atom Energy Res Inst ルチル型酸化チタン単結晶薄膜の作製法

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