JPS63146446A - 半導体用バ−ンイン装置 - Google Patents

半導体用バ−ンイン装置

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Publication number
JPS63146446A
JPS63146446A JP29370786A JP29370786A JPS63146446A JP S63146446 A JPS63146446 A JP S63146446A JP 29370786 A JP29370786 A JP 29370786A JP 29370786 A JP29370786 A JP 29370786A JP S63146446 A JPS63146446 A JP S63146446A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode plate
oxide film
gate oxide
semiconductor device
burn
Prior art date
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Pending
Application number
JP29370786A
Other languages
English (en)
Inventor
Manabu Itobayashi
糸林 学
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPS63146446A publication Critical patent/JPS63146446A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体集積回路のMOSデバイスのうち、M
OSトランジスタのゲート酸化膜欠陥をもつデバイスを
見付は出して除去するための動作試験を行なうバーンイ
ン装置に関するものである。
〔従来の技術〕
半導体集積回路のMOSデバイスにおいては、近年、デ
バイス素子の慮細化、高集積化が進み、非常に薄いゲー
ト酸化膜をもつMOSトランジスタが大規模に使用され
るようになシつつある。このため、マスクやウェハのゴ
ミ等による製造欠陥がMOSトランジスタのゲート酸化
膜にできる確率が大きくなシ、かつ薄いため欠陥の影響
が大きく作用することになる。
このため、半導体デバイス欠陥製品のスクIJ−ニング
の技術としてダイナミックパーフィンの技術は、従来か
かすことができなかった。従来のバーンインの技術を説
明するために従来回路の一例として、例えばn段接続し
たインバータ回路を第4図に示す。第4図において、2
1はPチャネルMO8トランジスタ(以下、トランジス
タと略称する)、22はNチャネルトランジスタ、23
はこれらトランジスタ21.22のゲート、241〜2
4nはトランジスタ21.22で構成されたC−MO8
構造をもつn段のインバータである。
次に、動作について説明する。ここで、初段のインバー
タ24□は、ゲート23に接続された外部入力端子IN
よシクロツク信号を入力すると、ファンクションし始め
、その入力信号と反転した信号を出力し、次段のインバ
ータ242に信号を伝達する。同様に、この動作がくシ
返えされて最終段のインバータ24nに伝えられるが、
このインバータ24nに接続された外部出力端子OUT
より出力される信号をモニタすることによシ、n段のイ
ンバータ241〜24nが異常ないか否かを確認できる
また、このn段のインバータ241〜24nには2n個
のゲート23が使用されているが、この中の少なくとも
1つでもゲート酸化膜に欠陥があるとすれば、前述した
動作をさせることによシ高温で電圧をトランジスタのゲ
ート酸化膜に印加し、その酸化膜欠陥のあるトランジス
タを故障させる。その後、ファンクションテストをする
ことによシ、故障を見付は出し、欠陥のあるデバイス金
除去することができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、このような従来のバーンインの方法では、電圧
を長時間印加しなければならない。また、製品1個1個
動作させるためのエージング基板が必要であシ、大量生
産の場合エージング装置が大規模となり、かつコストが
かかる。しかも、スペースや大型の高温槽が必要になる
等の問題点があった。
本発明は上記のような問題点を解決するためになされた
もので、被測定デバイスのバーンイン試験を行なう際に
、電圧を短時間印加するだけで、ゲート酸化膜欠陥のあ
るトランジスタをもつ半導体デバイスを容易に除去でき
る半導体用バーンイン装置を提供することを目的とする
〔問題点を解決するための手段〕
本発明に係るバーンイン装置は、MOSトランジスタを
基本素子とし、そのゲートm化膜欠陥のある半導体デバ
イスを見付は出して除去するための動作試験を行なうバ
ーンイン装置において、被測足手導体デバイスのパッケ
ージ表面に密着させる電極板と、該電極板に高電圧を印
加する高電圧発生手段と、前記被測定半導体デバイスの
任意の外部端子または全外部端子を接地する接地手段と
を備えたものである。
〔作用〕
本発明によるバーンイン装置においては、被測定半導体
デバイスのパッケージ表面に密着された電極板に高電圧
のパルスを印加することにより、この電極板とトランジ
スタのゲートの間の結合容量や該電極板とデバイスのチ
ップとの間の寄生容量を介して、直接トランジスタのゲ
ートに電圧を印加できる。これによって、ゲート酸化膜
欠陥のあるトランジスタを故障させ、そのファンクショ
ンテストにてそれを見付は出して除去することができる
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図について説明する。
第1図は本発明の一実施例によるバーンイン装置を示す
模式的な構成図である。第1図において、1は被測定半
導体デバイスとしてのMosデバイスであ)、この例で
は第3図に示すインバータである。2はこのデバイス1
のパッケージ表面に密着させた金属または導電性材料か
ら成る電極板、3はMOSデバイス1の各々の外部端子
(リードピン)9を端子台10を介して接地するための
スイッチ群、4は高電圧電源、5はこの高電圧電源4の
電圧をチャージするためのコンデンサ、6はこのコンデ
ンサ5にチャージされた電圧を電極板2に与えるための
切替スイッチであシ、このスイッチ6の切替え操作によ
りコンデンサ5にチャージされた電圧を高電圧パルスと
して電極板2に加えるものとなっている。
第2図は第1図の半導体デバイスの断面図を示すもので
、同図において符号1〜6は第1図と同一部分を示し、
7は各外部端子9とチップのパッドとを電気的に接続す
るインナーリード、8はデバイス1のチップである。な
お、図中、同一符号は同一または相当部分を示している
次に、上記実施例構成の動作について説明する。
ここで、コンデンサ5はスイッチ6の切替え操作に応じ
て高電圧電源4の電圧をチャージするものとする。しか
して、高電圧電源4によシコンデンサ5が所定の電圧を
チャージした状態にあるとき、スイッチ6を倒すると、
そのコンデンサ5のチャージ電圧が、高電圧パルスとし
て半導体デバイス1のパッケージ表面に密着された電極
板2に加えられる。このとき、スイッチ群3によりデバ
イス1のチップ8は各インナーリードTを通じて接地さ
れているので、電極板2とチップ8の間には第2図に示
すような高電界Eが印加される。すなわち、第1図、第
2図を等価回路的に表わしたものが第3図であシ、半導
体デバイス1上の電標板2に高電圧パルスを加えること
によシ、その電圧が、パッケージ表面の電極板2と所定
の箇所との結合容量11〜14つ″1シ電極板2と各ト
ランジスタ21.22のゲート230間の結合容量や該
電極板2とチップ8との間の寄生容量を介して、直接ト
ランジスタ21.22のゲート23に印加される。した
がって、あらかじめスイッチ群3を種々なON10 F
 Fモードに組み合せて、その都度電極板2に高電圧を
与えることによシ、チップ表面のあらゆる箇所に様々な
強さ、モードの電界を加えることかできる。もし、この
時、チップ表面に作られたMOSトランジスタのゲート
酸化膜に欠陥があれば、この電界によシ破壊する。そし
て、この後、通常のファンクションテストを行なえば、
その破壊したものを見付は出すことができるので、欠陥
のあるデバイスは除去できることになる。
なお、上記実施例では半導体デバイス1の外部端子9を
接地するためのスイッチ群3を設けたが、外部端子9を
直接接地しても同様の効果を得ることができる。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明によれば、被測定デバイスのパッ
ケージ表面に密着させた電極板を設け、この電極板に高
電圧パルスを印加するように構成したので、1つのパル
スで半導体デバイスの中のすべてのトランジスタのゲー
トに電圧を印加できる。このため、短時間でゲート酸化
膜欠陥のあるデバイスを見つけ出し除去できる。また、
エージング基板が不要なため、装、のスペースが小さく
なると共に、コストが安くなるなどの効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例によるバーンイン装置を示す
模式的な構成図、第2図は第1図の半導体デバイスの断
面側面図、第3図は上記実施例の動作説明に供する半導
体デバイスを含む等価回路図、第4図は従来のバーンイ
ン方法の説明に供する半導体デバイスの動作説明図であ
る。 1・・・・被測定半導体デバイス、2・・・・電極板、
3・・・・スイッチ群、4・・・・高電圧電源、5・・
・・コンデンサ、6・・・・切替スイッチ、9・・・・
外部端子、10・・・・端子台。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. MOSトランジスタを基本素子とし、そのゲート酸化膜
    欠陥のある半導体デバイスを見付け出して除去するため
    の動作試験を行なうバーンイン装置において、被測定半
    導体デバイスのパッケージ表面に密着させる電極板と、
    該電極板に高電圧を印加する高電圧発生手段と、被測定
    半導体デバイスの任意の外部端子または全外部端子を接
    地する接地手段とを備えたことを特徴とする半導体用バ
    ーンイン装置。
JP29370786A 1986-12-10 1986-12-10 半導体用バ−ンイン装置 Pending JPS63146446A (ja)

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JP29370786A JPS63146446A (ja) 1986-12-10 1986-12-10 半導体用バ−ンイン装置

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JP29370786A JPS63146446A (ja) 1986-12-10 1986-12-10 半導体用バ−ンイン装置

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JPS63146446A true JPS63146446A (ja) 1988-06-18

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ID=17798191

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JP29370786A Pending JPS63146446A (ja) 1986-12-10 1986-12-10 半導体用バ−ンイン装置

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