JPS63142324A - 液晶表示素子の多層膜形成方法 - Google Patents
液晶表示素子の多層膜形成方法Info
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- JPS63142324A JPS63142324A JP28784586A JP28784586A JPS63142324A JP S63142324 A JPS63142324 A JP S63142324A JP 28784586 A JP28784586 A JP 28784586A JP 28784586 A JP28784586 A JP 28784586A JP S63142324 A JPS63142324 A JP S63142324A
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- film
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- film formation
- marks
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- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims abstract description 33
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 65
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
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- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、液晶表示素子の製造に際し、透光性基板上に
、多層膜を膜毎にその形成位薗を確認しながら順次積層
形成する方法に関する。
、多層膜を膜毎にその形成位薗を確認しながら順次積層
形成する方法に関する。
「従来技術」
例えば、透過型のＴＮ液晶表示素子においては、透光性
基板上に、透明電極、この透明電極を除く部分にマスク
層、このマスク層と透明電極上に配向膜等が順次積層形
成されるか、これらの各層は微細パターンにより形成さ
れるため、それぞれの膜形成位置の位置合わせを行なう
ための目印か必要となってくる。この目印として、従来
では、第３図に示すように、透光性基板１１上に、上記
膜を整列積層させる目印となるアライメントマーク１２
を、各層の膜毎に対応させて所定位雷に形成している。
基板上に、透明電極、この透明電極を除く部分にマスク
層、このマスク層と透明電極上に配向膜等が順次積層形
成されるか、これらの各層は微細パターンにより形成さ
れるため、それぞれの膜形成位置の位置合わせを行なう
ための目印か必要となってくる。この目印として、従来
では、第３図に示すように、透光性基板１１上に、上記
膜を整列積層させる目印となるアライメントマーク１２
を、各層の膜毎に対応させて所定位雷に形成している。
このアライメントマーク１２は、膜形成の精度を向上さ
せるため、通常数ｕｍ〜数十ｕｍの大きざで形成されで
いる。そして、膜形成工程においで、アライナ−（図示
省略）上に透光性基板１１をセットし、このアライナ−
を用いてアライメントマーク１２そ確認しなから位置の
微調整を行ない、各層を順次透光性基板１１上に積層形
成しでいる。
せるため、通常数ｕｍ〜数十ｕｍの大きざで形成されで
いる。そして、膜形成工程においで、アライナ−（図示
省略）上に透光性基板１１をセットし、このアライナ−
を用いてアライメントマーク１２そ確認しなから位置の
微調整を行ない、各層を順次透光性基板１１上に積層形
成しでいる。
「発明が解決しようとする問題点」
ところが、上記従来の多層膜形成方法では、アライメン
トマーク１２が数ｕｍ〜数十ｕｍと微細なため、膜形成
での位置合わせは行なえても、透光性基板１１の方向性
や膜形成面まで目視で確認することは困難であり、その
結果、透光性基板１１の配置方向や膜形成面を取り違え
る等して、作業信頼性の低下や作業時間の増大を招き、
その結果として、形成された多層膜の精度低下をも生じ
させている。
トマーク１２が数ｕｍ〜数十ｕｍと微細なため、膜形成
での位置合わせは行なえても、透光性基板１１の方向性
や膜形成面まで目視で確認することは困難であり、その
結果、透光性基板１１の配置方向や膜形成面を取り違え
る等して、作業信頼性の低下や作業時間の増大を招き、
その結果として、形成された多層膜の精度低下をも生じ
させている。
本発明は、上記の問題点を解消するもので、多層膜形成
工程にあいで、透光性基板を指定位置に即時に誤りなく
セットすることで、作業信頼性を向上させ、作業時間の
短縮化を図ることを目的としでいる。
工程にあいで、透光性基板を指定位置に即時に誤りなく
セットすることで、作業信頼性を向上させ、作業時間の
短縮化を図ることを目的としでいる。
「問題点を解決するための手段」
本発明は、透光性基板上に多層膜を積層形成しで液晶表
示素子を製造するに際し、多層膜の積層形成を、上記基
板上に形成した上記多層膜の各層に対応する膜形成の目
印となるアライメントマークを確認しながら行なう液晶
表示素子の多層膜形成方法において、上記アライメント
マークの形成された基板と同一基板上で膜形成に支障を
及ぼさない位置に、該基板の方向性および膜形成面を指
示する指示マークを形成し、該指示マークを目視の目印
として上記基板を指定位置に配置し、上記アライメント
マークにて多層膜を積層形成することを特徴とする。
示素子を製造するに際し、多層膜の積層形成を、上記基
板上に形成した上記多層膜の各層に対応する膜形成の目
印となるアライメントマークを確認しながら行なう液晶
表示素子の多層膜形成方法において、上記アライメント
マークの形成された基板と同一基板上で膜形成に支障を
及ぼさない位置に、該基板の方向性および膜形成面を指
示する指示マークを形成し、該指示マークを目視の目印
として上記基板を指定位置に配置し、上記アライメント
マークにて多層膜を積層形成することを特徴とする。
「作用ｊ
指示マークは、透光性基板の配置位置方向と膜形成面を
指示するために、透光性基板上の指定位置に目視可能に
形成されたものである。そして、この指示マークを目印
とし、透光性基板が、その膜形成面を表にしで正しい方
向に向いているかを確認したうえで、該基板をアライナ
−上にセットする。指示マークは目視できる大きざにな
っているので、該マークの確認は容易である。したがっ
て、透光性基板は、アライナ−に対するセットミスなく
、即時に指定位置に正確に配置することができる。
指示するために、透光性基板上の指定位置に目視可能に
形成されたものである。そして、この指示マークを目印
とし、透光性基板が、その膜形成面を表にしで正しい方
向に向いているかを確認したうえで、該基板をアライナ
−上にセットする。指示マークは目視できる大きざにな
っているので、該マークの確認は容易である。したがっ
て、透光性基板は、アライナ−に対するセットミスなく
、即時に指定位置に正確に配置することができる。
本発明の好ましい態様によれば、指示マークは、非対称
の文字により構成されている。このように指示マークを
構成すれば、透光性基板が裏返しになった場合、指示マ
ークも裏返しになるので、該マークを目視するだけで、
透光性基板の正しい膜形成面を容易に見つけ出すことが
できる。
の文字により構成されている。このように指示マークを
構成すれば、透光性基板が裏返しになった場合、指示マ
ークも裏返しになるので、該マークを目視するだけで、
透光性基板の正しい膜形成面を容易に見つけ出すことが
できる。
「発明の寅施例」
第１図は、本発明方法に使用される透光性基板１１の例
が示されている。この透光性基板１１は、表面の所定位
置に形成されたアライメントマーク１２を有する外、指
示マーク１３を有して構成されている。指示マーク１３
は、透光性基板１１上での膜形成にＩＩＩ害を及ぼさな
い指定された位置、例えば透光性基板１１の一辺におけ
る隅部に一対形成されでいる。この指示マーク１３は、
透光性基板１１の配ゴ位謂の方向性や膜形成面を表わす
もので、目視によつ認識可能な大きざ、すなわち４ｍｍ
前後になっている。また、指示マーク１３は、透光性基
板１１の膜形成面を確認できる形に構成されている。す
なわち、透光性基板１１の膜形成面は、透光性基板１１
の一面に高精度な膜形成を行なうために表面処理の施さ
れた面であることが必要であり、この面を取り違えるこ
となしに即時に確認するためには、一つの指示マーク１
３が非対称となっている形でなければならない。そのた
め、指示マーク１３ヲ、例えばアルファヘットであれば
「Ｆ」、「日」、ｒＪＪ、「Ｋ」、「ＰＪ等、漢字であ
れば「上」、「下」等、数字であれば「２」、「３」、
「４」、「５」等の文字で構成している。なお、アライ
メントマーク１２は、多層膜の形成精度を上げるうえで
支障のない大きざに設定され、例えば従来よりも確認し
易くするためために、数十ｕｍ以上の大きざとされてい
る。
が示されている。この透光性基板１１は、表面の所定位
置に形成されたアライメントマーク１２を有する外、指
示マーク１３を有して構成されている。指示マーク１３
は、透光性基板１１上での膜形成にＩＩＩ害を及ぼさな
い指定された位置、例えば透光性基板１１の一辺におけ
る隅部に一対形成されでいる。この指示マーク１３は、
透光性基板１１の配ゴ位謂の方向性や膜形成面を表わす
もので、目視によつ認識可能な大きざ、すなわち４ｍｍ
前後になっている。また、指示マーク１３は、透光性基
板１１の膜形成面を確認できる形に構成されている。す
なわち、透光性基板１１の膜形成面は、透光性基板１１
の一面に高精度な膜形成を行なうために表面処理の施さ
れた面であることが必要であり、この面を取り違えるこ
となしに即時に確認するためには、一つの指示マーク１
３が非対称となっている形でなければならない。そのた
め、指示マーク１３ヲ、例えばアルファヘットであれば
「Ｆ」、「日」、ｒＪＪ、「Ｋ」、「ＰＪ等、漢字であ
れば「上」、「下」等、数字であれば「２」、「３」、
「４」、「５」等の文字で構成している。なお、アライ
メントマーク１２は、多層膜の形成精度を上げるうえで
支障のない大きざに設定され、例えば従来よりも確認し
易くするためために、数十ｕｍ以上の大きざとされてい
る。
次に、上記構成の透光性基板１１８用いた、多層膜の形
成方法を説明する。
成方法を説明する。
まず、透光性基板１１をアライナ−上にセットする際、
透光性基板１１の指示マーク１３を目視し、例えば文字
で表わされた指示マーク１３か正しい状態、すなわち裏
返しになっていないかどうかを確認する。指示マーク１
３は４ ｍｍ前後の大きさであるため十分目視か可能で
る。指示マーク１３が裏返しであることが目視されれば
、それを確認した側の透光性基板１１の面は膜形成面で
はないので、透光性基板１１を返して膜形成面を表にす
る。
透光性基板１１の指示マーク１３を目視し、例えば文字
で表わされた指示マーク１３か正しい状態、すなわち裏
返しになっていないかどうかを確認する。指示マーク１
３は４ ｍｍ前後の大きさであるため十分目視か可能で
る。指示マーク１３が裏返しであることが目視されれば
、それを確認した側の透光性基板１１の面は膜形成面で
はないので、透光性基板１１を返して膜形成面を表にす
る。
次に、透光性基板１１の耐雷位置の方向性を、指示マー
ク１３を目視しながら確認する。指示マーク１３が逆ざ
になっていれば、透光性基板１１の方向は逆であるので
、正しい位置に向ける。この透光性基板１１の方向性の
確認は、膜形成面の確認と同時に行なうことが可能であ
る。これで、透光性基板１１は、指示マーク１３ヲ目視
することによってアライナ−上に正しい状態でセットさ
れることになる。
ク１３を目視しながら確認する。指示マーク１３が逆ざ
になっていれば、透光性基板１１の方向は逆であるので
、正しい位置に向ける。この透光性基板１１の方向性の
確認は、膜形成面の確認と同時に行なうことが可能であ
る。これで、透光性基板１１は、指示マーク１３ヲ目視
することによってアライナ−上に正しい状態でセットさ
れることになる。
そして、上記の状態を保ち、アライナ−を用いてアライ
メントマーク１２を確認しながら透光性基板１１の位置
の像調整を行ない、多層膜となる各層を一層目から順次
パターン形成しでいく。この場合、アライメントマーク
１２は、各層と対応させて、違ったマークになっている
。
メントマーク１２を確認しながら透光性基板１１の位置
の像調整を行ない、多層膜となる各層を一層目から順次
パターン形成しでいく。この場合、アライメントマーク
１２は、各層と対応させて、違ったマークになっている
。
上記のような多層膜の形成方法では、透光性基板１１を
アライナ−上にセ・ン卜する場合、指示マーク１３を目
視Ｔるだけで透光性基０２１１の膜形成面と方向性の両
方を即時に認識できるので、透光性基板１１のセットミ
スがすくすり、多層膜の形成作業の信頼性が向上すると
ともに、作業時間の大幅な短縮が可能となる。また、作
業者による確認作業の負担が軽減されるため、附随的に
てはあるが、膜形成精度や膜特性をも向上させることが
できる。
アライナ−上にセ・ン卜する場合、指示マーク１３を目
視Ｔるだけで透光性基０２１１の膜形成面と方向性の両
方を即時に認識できるので、透光性基板１１のセットミ
スがすくすり、多層膜の形成作業の信頼性が向上すると
ともに、作業時間の大幅な短縮が可能となる。また、作
業者による確認作業の負担が軽減されるため、附随的に
てはあるが、膜形成精度や膜特性をも向上させることが
できる。
（実施例）
透光性基板１１上の膜形成にＩＩ！害とならない指定さ
れた位置に、指示マーク１３として非対称の「上」とい
う文字を大きざ４ｍｍ角で形成し、また、各層に対応す
るアライメントマーク１２として、一層目の膜に対応す
るアライメントマーク１２ａ％ ｒ＋、１ 、二層目に
対応するアライメントマーり１２ｂを１口」としたもの
を用いた。なお、アライメントマーク１２ａ、＋２ｂの
大きざ！４０ｕｍ 〜８０ｕｍに設定した。そして、こ
のような透光性基板１１をアライナ−上にセットし、層
毎にアライメントマーク１２ａと＋２ｂを用いて順次透
光性基板１１上に多層膜を形成したところ、従来では透
光性基板１１のセットから多層膜形成まで約１５分かか
っでいたのが、約５分で形成できた。特に、透光性基板
１１の方向性と膜形成面の確認が即時に目視で行なえ、
アライナ−セットミスがなくなった。
れた位置に、指示マーク１３として非対称の「上」とい
う文字を大きざ４ｍｍ角で形成し、また、各層に対応す
るアライメントマーク１２として、一層目の膜に対応す
るアライメントマーク１２ａ％ ｒ＋、１ 、二層目に
対応するアライメントマーり１２ｂを１口」としたもの
を用いた。なお、アライメントマーク１２ａ、＋２ｂの
大きざ！４０ｕｍ 〜８０ｕｍに設定した。そして、こ
のような透光性基板１１をアライナ−上にセットし、層
毎にアライメントマーク１２ａと＋２ｂを用いて順次透
光性基板１１上に多層膜を形成したところ、従来では透
光性基板１１のセットから多層膜形成まで約１５分かか
っでいたのが、約５分で形成できた。特に、透光性基板
１１の方向性と膜形成面の確認が即時に目視で行なえ、
アライナ−セットミスがなくなった。
「発明の効果」
以上説明したように、本発明による液晶表示素子の多層
膜の形成方法によれば、アライメントマークの形成され
た透光゛注基板と同一基板上の膜形成に支障を及ぼさな
い位置に、この基板の方向−牲アよび膜形成面を指示す
る指示マークを形成し、この指示マークを目視の目印と
したうえで、アライメントマークにて多層膜を積層形成
するようにしたので、基板をアライナ−にセットする際
、目視１こよつ指示マークを認識するだけで、即時に基
板がアライナ−の所定位置１こ誤りなく正確にセットす
ることかできる。よって、形成作業の信頼性が向上する
とともに作業時間の大幅な短縮化を図ることができる。
膜の形成方法によれば、アライメントマークの形成され
た透光゛注基板と同一基板上の膜形成に支障を及ぼさな
い位置に、この基板の方向−牲アよび膜形成面を指示す
る指示マークを形成し、この指示マークを目視の目印と
したうえで、アライメントマークにて多層膜を積層形成
するようにしたので、基板をアライナ−にセットする際
、目視１こよつ指示マークを認識するだけで、即時に基
板がアライナ−の所定位置１こ誤りなく正確にセットす
ることかできる。よって、形成作業の信頼性が向上する
とともに作業時間の大幅な短縮化を図ることができる。
第１図は本発明方法を実施するために用いられる透光性
基板の平面図、第２図は第１図透光・荘基板の具体例を
示す平面図、第３図は従来の多層膜形成方法に用いられ
る透光性基板の平面図である。 図中、１１は透光性基板、１２．１２ａ 、 １２ｂは
アライメントマーク、１３は指示マークである。 特許出願人 アルプス電気株式会社同 代理人
三 浦 邦 夫 同 私共 茂
基板の平面図、第２図は第１図透光・荘基板の具体例を
示す平面図、第３図は従来の多層膜形成方法に用いられ
る透光性基板の平面図である。 図中、１１は透光性基板、１２．１２ａ 、 １２ｂは
アライメントマーク、１３は指示マークである。 特許出願人 アルプス電気株式会社同 代理人
三 浦 邦 夫 同 私共 茂
Claims (2)
- （１）透光性基板上に多層膜を積層形成して液晶表示素
子を製造するに際し、多層膜の積層形成を、上記基板上
に形成した上記多層膜の各膜に対応する膜形成の目印と
なるアライメントマークを確認しながら行なう液晶表示
素子の多層膜形成方法において、上記アライメントマー
クの形成された基板と同一基板上で膜形成に支障を及ぼ
さない位置に、該基板の方向性および膜形成面を指示す
る指示マークを形成し、該指示マークを目視の目印とし
て上記基板を指定位置に配置し、上記アライメントマー
クにて多層膜を積層形成することを特徴とする液晶表示
素子の多層膜形成方法。 - （２）特許請求の範囲第１項において、上記指示マーク
は非対称の文字により構成されている液晶表示素子の多
層膜形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28784586A JPS63142324A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | 液晶表示素子の多層膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28784586A JPS63142324A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | 液晶表示素子の多層膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63142324A true JPS63142324A (ja) | 1988-06-14 |
Family
ID=17722520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28784586A Pending JPS63142324A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | 液晶表示素子の多層膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63142324A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0225891A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-29 | Tokyo Tatsuno Co Ltd | 表示装置 |
| JPH035181U (ja) * | 1989-06-02 | 1991-01-18 | ||
| JPH03123315A (ja) * | 1989-10-06 | 1991-05-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネル検査装置 |
| JP2007017465A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置の製造方法 |
| WO2009122529A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士通株式会社 | 面状体のアライメント装置、製造装置、面状体のアライメント方法及び製造方法 |
| KR20150094773A (ko) * | 2012-12-20 | 2015-08-19 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 후속 처리 동안 정확한 정합을 달성하기 위한 복수의 잉크의 인쇄 |
| JP2019066750A (ja) * | 2017-10-04 | 2019-04-25 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
-
1986
- 1986-12-04 JP JP28784586A patent/JPS63142324A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0225891A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-29 | Tokyo Tatsuno Co Ltd | 表示装置 |
| JPH0652466B2 (ja) * | 1988-07-14 | 1994-07-06 | 株式会社タツノ・メカトロニクス | 表示装置 |
| JPH035181U (ja) * | 1989-06-02 | 1991-01-18 | ||
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| WO2009122529A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士通株式会社 | 面状体のアライメント装置、製造装置、面状体のアライメント方法及び製造方法 |
| JPWO2009122529A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2011-07-28 | 富士通株式会社 | 面状体のアライメント装置、製造装置、面状体のアライメント方法及び製造方法 |
| US8023112B2 (en) | 2008-03-31 | 2011-09-20 | Fujitsu Limited | Alignment apparatus and fabrication apparatus for planar member and alignment method and fabrication method for planar member |
| KR20150094773A (ko) * | 2012-12-20 | 2015-08-19 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 후속 처리 동안 정확한 정합을 달성하기 위한 복수의 잉크의 인쇄 |
| JP2016509528A (ja) * | 2012-12-20 | 2016-03-31 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 以降の加工時に高精度位置合わせを得るためのマルチインクの印刷 |
| JP2019066750A (ja) * | 2017-10-04 | 2019-04-25 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
| US11315997B2 (en) * | 2017-10-04 | 2022-04-26 | Japan Display Inc. | Display device using a flexible substrate with alignment marks for folding |
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