JPS63140546A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS63140546A JPS63140546A JP61285937A JP28593786A JPS63140546A JP S63140546 A JPS63140546 A JP S63140546A JP 61285937 A JP61285937 A JP 61285937A JP 28593786 A JP28593786 A JP 28593786A JP S63140546 A JPS63140546 A JP S63140546A
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- JP
- Japan
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- mask
- wafer
- conveying system
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Links
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、たとえば半導体やLSIを装造する露光装置
に係り、転写すべき形状を描画されたマスクを光学系に
より縮小することなくウェハに焼きつけるX線露光装置
の試料テーブルに関する。
に係り、転写すべき形状を描画されたマスクを光学系に
より縮小することなくウェハに焼きつけるX線露光装置
の試料テーブルに関する。
(従来の技術)
従来のX線露光装置の試料テーブルとして特開昭60−
160617号公報に示されるものを説明する。
160617号公報に示されるものを説明する。
露光部、位置合せ部、装入部と独立した部分に各々分割
されており、軸道をカートリッジが走行する構造となっ
ている。装入部でカートリッジが設置され位置合せ部で
マスクがウェハ上方より下降し所定のギャップとなるよ
うに位置合せが行なわれた後に、ウェハとマスクは一対
でカートリッジ内に収納されて露光部で露光が行なわれ
る。
されており、軸道をカートリッジが走行する構造となっ
ている。装入部でカートリッジが設置され位置合せ部で
マスクがウェハ上方より下降し所定のギャップとなるよ
うに位置合せが行なわれた後に、ウェハとマスクは一対
でカートリッジ内に収納されて露光部で露光が行なわれ
る。
上記の方法では、マスクとウェハは同一の搬送系路で搬
送されるために効率的ではあるが、マスクとウェハが一
対でカートリッジ内に収納されているために、交換時に
はカートリッジごと交換しなければならず、スルーブツ
トが悪い。このため試作品等の少量生産以外には利用で
きない。また、カートリッジ等を有するために部品点数
の増加による信頼性低下は免かれない。
送されるために効率的ではあるが、マスクとウェハが一
対でカートリッジ内に収納されているために、交換時に
はカートリッジごと交換しなければならず、スルーブツ
トが悪い。このため試作品等の少量生産以外には利用で
きない。また、カートリッジ等を有するために部品点数
の増加による信頼性低下は免かれない。
(発明が解決しようとする問題点)
上述したように従来の露光方法においては、スルーブツ
トが悪く大量生産が出来ないと共に部品点数が多(信頼
性低下の原因となっていた。
トが悪く大量生産が出来ないと共に部品点数が多(信頼
性低下の原因となっていた。
本発明は以上のような点に鑑みてなされたもので、その
目的とするところは、スルーブツトの高いステップ・ア
ンド・リピートを可能とすると共に機構を簡素化し部品
点数の少ない信頼性の高い試料テーブルを提供すること
にある。
目的とするところは、スルーブツトの高いステップ・ア
ンド・リピートを可能とすると共に機構を簡素化し部品
点数の少ない信頼性の高い試料テーブルを提供すること
にある。
[発明の構成]
(問題点を解決するため手段)
本発明の試料テーブル装置においては、マスクに設けら
れる露光パターン部よりも大きな凹面を有する試料保持
具を設け、この試料保持具の凹面の周囲でマスク及びウ
ェハを吸着保持する。また、先端に、試料保持具よりも
大きな切欠き部を有する搬送系で切欠き部の周囲でマス
ク及びつエバを吸着保持して所定位置まで搬送する。搬
送系から試料保持具へのマスク又はウェハの受は渡しは
、搬送系の切欠き部内を試料保持具が上昇、下降して行
なうように試料保持具の上下駆動機構を設けている。
れる露光パターン部よりも大きな凹面を有する試料保持
具を設け、この試料保持具の凹面の周囲でマスク及びウ
ェハを吸着保持する。また、先端に、試料保持具よりも
大きな切欠き部を有する搬送系で切欠き部の周囲でマス
ク及びつエバを吸着保持して所定位置まで搬送する。搬
送系から試料保持具へのマスク又はウェハの受は渡しは
、搬送系の切欠き部内を試料保持具が上昇、下降して行
なうように試料保持具の上下駆動機構を設けている。
(作用)
このように構成されたものにおいては、露光すべきパタ
ーンを設けたマスクを搬送する際にパターン部を損傷さ
せないために試料保持具に凹面が設けられ、かつ搬送系
にも切欠き部が設けられているため、ウェハとマスクの
両者を同一の搬送系及び保持具を用いて交換することが
可能となる。
ーンを設けたマスクを搬送する際にパターン部を損傷さ
せないために試料保持具に凹面が設けられ、かつ搬送系
にも切欠き部が設けられているため、ウェハとマスクの
両者を同一の搬送系及び保持具を用いて交換することが
可能となる。
(実施例)
以下図面を参照して本発明について説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す試料テーブルである。
第1図において図中上下方向(マスクとウェハのギャッ
プ方向)に移動する試料保持具1はその試料保持具1を
上下駆動する例えばエアシリンダ2に固定されている。
プ方向)に移動する試料保持具1はその試料保持具1を
上下駆動する例えばエアシリンダ2に固定されている。
マスク3は、はぼ中央にマスクパターン4を有している
。マスクパターンは4は露光時には非常に重要であり、
微細であることから他のものが接触することを避けなけ
ればならない。そのために凹面5を有した試料保持具1
の吸着部6(例えば真空チャック)により保持されマス
クパターン4の箇所は試料保持具1が接触しないように
なっている。
。マスクパターンは4は露光時には非常に重要であり、
微細であることから他のものが接触することを避けなけ
ればならない。そのために凹面5を有した試料保持具1
の吸着部6(例えば真空チャック)により保持されマス
クパターン4の箇所は試料保持具1が接触しないように
なっている。
次に第2図で、X線露光装置での使用例を述べる。図中
左右に移動する搬送系7はマスク3を載積して第2図(
a)に示すようにX線光源の円筒9の下面で停止する。
左右に移動する搬送系7はマスク3を載積して第2図(
a)に示すようにX線光源の円筒9の下面で停止する。
すると、ウェハテーブル10に収納されていた試料保持
具1がエアシリンダ2により上昇してきてマスク3を吸
着したのち第2図(b)に示すようにマスク3をX線光
源の円筒9(マスクテーブル)に押しつけ円筒9に設け
られた吸着部15によりマスク3が吸着されたのち試料
保持具は下降し、ウェハテーブル10内に再び収納され
る。次に第2図(C)に示すようにウェハ11を載接し
た搬送系7がウェハテーブル10上面に停止し、再び上
昇してくる試料保持具の吸着部6によりウェハ11を吸
着し、搬送系7が退避する。モしてウェハテーブル10
に固定される。
具1がエアシリンダ2により上昇してきてマスク3を吸
着したのち第2図(b)に示すようにマスク3をX線光
源の円筒9(マスクテーブル)に押しつけ円筒9に設け
られた吸着部15によりマスク3が吸着されたのち試料
保持具は下降し、ウェハテーブル10内に再び収納され
る。次に第2図(C)に示すようにウェハ11を載接し
た搬送系7がウェハテーブル10上面に停止し、再び上
昇してくる試料保持具の吸着部6によりウェハ11を吸
着し、搬送系7が退避する。モしてウェハテーブル10
に固定される。
X線露光装置では、空気中のX線の減衰が激しいため、
マスク3とウェハ11のギャップ3は数十ミクロンメー
トルの微小にしなければならない。
マスク3とウェハ11のギャップ3は数十ミクロンメー
トルの微小にしなければならない。
第2図(d)ではギャップSを設定するためウェハテー
ブル10を駆動する駆動機構12を設けた。
ブル10を駆動する駆動機構12を設けた。
もちろん、マスク8が装着された円筒9を下降させてウ
ェハ11とのギヤツブ寥を確保してもよい。
ェハ11とのギヤツブ寥を確保してもよい。
次に第3図を参照して搬送系7とマスク3と試料保持具
lの関係について説明する。搬送系7の先端は第3図(
a)に示すようにコの字形若しくは口の字形に切欠き部
が設けられている。そして試料保持具1は、その切欠き
部よりも小さく、切欠き部を通じて搬送系7の先端より
も上昇、下降自在となっている。これにより搬送系7の
吸着部16に吸着されて搬送されてくるマスク3若しく
はウェハ11を搬送系7から受取ることができる。
lの関係について説明する。搬送系7の先端は第3図(
a)に示すようにコの字形若しくは口の字形に切欠き部
が設けられている。そして試料保持具1は、その切欠き
部よりも小さく、切欠き部を通じて搬送系7の先端より
も上昇、下降自在となっている。これにより搬送系7の
吸着部16に吸着されて搬送されてくるマスク3若しく
はウェハ11を搬送系7から受取ることができる。
なお前述のように試料保持具1には凹面5が設けられマ
スクパターン4には接触せずこの凹面5よりも外側に吸
着部6が設けられている。(第3図(b)参照) また、第4図は他の実施例を示す側面図である。
スクパターン4には接触せずこの凹面5よりも外側に吸
着部6が設けられている。(第3図(b)参照) また、第4図は他の実施例を示す側面図である。
マスク3のマスクパターン4が大きい場合には試料保持
具1の凹面5を大きくする必要があり、ウェハ11をウ
ェハテーブル10に吸着する際、ウェハテーブル10の
中央部に吸着できないエリアが発生しウェハ11を平坦
に吸着保持できない場合が生じる。このような時には、
第4図に示すように複数の支柱13又はリングを複数に
分割してウェハテーブル10に配すればマスク3を吸着
する時にもマスクパターン4を損傷することはないと共
に、ウェハ11をウェハテーブル10全面に渡って均一
に吸着できる。
具1の凹面5を大きくする必要があり、ウェハ11をウ
ェハテーブル10に吸着する際、ウェハテーブル10の
中央部に吸着できないエリアが発生しウェハ11を平坦
に吸着保持できない場合が生じる。このような時には、
第4図に示すように複数の支柱13又はリングを複数に
分割してウェハテーブル10に配すればマスク3を吸着
する時にもマスクパターン4を損傷することはないと共
に、ウェハ11をウェハテーブル10全面に渡って均一
に吸着できる。
このように本発明によれば同一の搬送系7及び試料保持
具1により、マスク3とウェハ11両者の搬送及び取付
けが行なえるため、少ない部品点数でステップ・アンド
・リピートが可能となる。
具1により、マスク3とウェハ11両者の搬送及び取付
けが行なえるため、少ない部品点数でステップ・アンド
・リピートが可能となる。
なお、上述の実施例においては、試料保持具1の上下駆
動機構をエアシリンダ2としたが、モータ駆動や他の方
法でもよい。また吸着部には真空チャックを用いたが静
電チャックや他の方法でもよい。
動機構をエアシリンダ2としたが、モータ駆動や他の方
法でもよい。また吸着部には真空チャックを用いたが静
電チャックや他の方法でもよい。
[発明の効果コ
以上詳述してきたように本発明によれば同一の搬送系で
マスクとウェハの搬送が行なえると共に簡単で少ない部
品点数により信頼性が高くスルーブツトのよい露光を行
なうための試料テーブルが得られる。
マスクとウェハの搬送が行なえると共に簡単で少ない部
品点数により信頼性が高くスルーブツトのよい露光を行
なうための試料テーブルが得られる。
第1図は、本発明の試料テーブルの一実施例を示す断面
図、第2図は、本発明の試料テーブルの使用例を示す断
面図、第3図は本発明に係る搬送系と試料保持具の上面
図、第4図は、本発明の実施例を示す断面図である。 1・・・・・・試料保持具 3・・・・・・マスク 4・・・・・・マスクパターン 5・・・・・・凹面 6・・・・・・吸着部 7・・・・・・搬送系 16・・・・・・吸着部
図、第2図は、本発明の試料テーブルの使用例を示す断
面図、第3図は本発明に係る搬送系と試料保持具の上面
図、第4図は、本発明の実施例を示す断面図である。 1・・・・・・試料保持具 3・・・・・・マスク 4・・・・・・マスクパターン 5・・・・・・凹面 6・・・・・・吸着部 7・・・・・・搬送系 16・・・・・・吸着部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ウェハと所定位置に露光すべきパターンを有するマスク
とを搬送及び保持する試料テーブルにおいて、 前記マスクに設けられた前記パターン部よりも大きな凹
面を有し、この凹面の周囲に前記マスク及び前記ウェハ
を吸着保持可能な吸着部を有する試料保持具と、先端に
前記試料保持具よりも大きな切欠き部を有し、この切欠
き部の周囲に前記マスク及びウェハを吸着保持可能な吸
着部を有し、前記マスク若しくは前記ウェハを所定位置
まで搬送可能な搬送系と、前記試料保持具を前記搬送系
の前記切欠き部内から上昇、下降させる上下駆動機構と
を具備することを特徴とする試料テーブル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61285937A JP2542589B2 (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61285937A JP2542589B2 (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63140546A true JPS63140546A (ja) | 1988-06-13 |
JP2542589B2 JP2542589B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=17697918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61285937A Expired - Lifetime JP2542589B2 (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2542589B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5692873A (en) * | 1995-03-31 | 1997-12-02 | Motorola, Inc. | Apparatus for holding a piece of semiconductor |
EP1503402A1 (en) * | 2003-07-28 | 2005-02-02 | Sipec Corporation | Substrate supporting apparatus |
WO2007007731A1 (ja) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Creative Technology Corporation | 基板の異物除去装置及び基板の異物除去方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100736344B1 (ko) * | 2006-08-23 | 2007-07-06 | 이춘우 | 알루미늄 호일 및 그 제조방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5875834A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-07 | Hitachi Ltd | プロキシミティ露光装置 |
JPS60160617A (ja) * | 1984-01-06 | 1985-08-22 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | X線リトグラフイー系ならびにスクおよびウエハをこの系内で処理する方法 |
JPS61102734A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-21 | Hitachi Ltd | X線露光装置 |
JPS61267321A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-26 | Hitachi Ltd | X線露光装置 |
-
1986
- 1986-12-02 JP JP61285937A patent/JP2542589B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP1503402A1 (en) * | 2003-07-28 | 2005-02-02 | Sipec Corporation | Substrate supporting apparatus |
US7275749B2 (en) * | 2003-07-28 | 2007-10-02 | Sipec Corporation | Substrate supporting apparatus |
WO2007007731A1 (ja) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Creative Technology Corporation | 基板の異物除去装置及び基板の異物除去方法 |
JPWO2007007731A1 (ja) * | 2005-07-12 | 2009-01-29 | 株式会社クリエイティブ テクノロジー | 基板の異物除去装置及び基板の異物除去方法 |
JP4616346B2 (ja) * | 2005-07-12 | 2011-01-19 | 株式会社クリエイティブ テクノロジー | 基板の異物除去装置及び基板の異物除去方法 |
US8196594B2 (en) | 2005-07-12 | 2012-06-12 | Creative Technology Corporation | Apparatus for removing foreign material from substrate and method for removing foreign material from substrate |
TWI420579B (zh) * | 2005-07-12 | 2013-12-21 | Creative Tech Corp | And a foreign matter removing method for a substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2542589B2 (ja) | 1996-10-09 |
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