JPS63139289A - ステ−ジ装置 - Google Patents
ステ−ジ装置Info
- Publication number
- JPS63139289A JPS63139289A JP61287072A JP28707286A JPS63139289A JP S63139289 A JPS63139289 A JP S63139289A JP 61287072 A JP61287072 A JP 61287072A JP 28707286 A JP28707286 A JP 28707286A JP S63139289 A JPS63139289 A JP S63139289A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- piezoelectric element
- damper member
- damping
- rubber material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 40
- 238000013016 damping Methods 0.000 claims description 37
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 35
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q11/00—Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
- B23Q11/0032—Arrangements for preventing or isolating vibrations in parts of the machine
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
- B23Q1/34—Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造装置等高精度で高速な位置決めを要
するステージ装置に関するものである。
するステージ装置に関するものである。
従来、微動ステージ装置用ダンパーとしては実開昭５８
−１０５６０４号に代表される様に高粘度の浦を減衰材
として使用した例が多かった。
−１０５６０４号に代表される様に高粘度の浦を減衰材
として使用した例が多かった。
〔発明が解決しようとしている問題点〕しかしながら、
油を減衰材として用いている為、油のもれを防止するシ
ール機構、油との接触面積をかせぐ為の部材等が必要と
なり、構造が複雑になる欠点があった。
油を減衰材として用いている為、油のもれを防止するシ
ール機構、油との接触面積をかせぐ為の部材等が必要と
なり、構造が複雑になる欠点があった。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕本発明は減衰
用材料としてゴム、低弾性樹脂、低弾性接着剤等、弱い
剛性を持った固体の減衰材を用いる事により、簡易で特
に圧電素子等の固体変位素子による駆動ステージに適し
た減衰装置を提供しようとするものである。
用材料としてゴム、低弾性樹脂、低弾性接着剤等、弱い
剛性を持った固体の減衰材を用いる事により、簡易で特
に圧電素子等の固体変位素子による駆動ステージに適し
た減衰装置を提供しようとするものである。
第１図は本発明の第１の実施例であり、１は基準部、こ
こでは固定部である所のベース、２は可動部材であるス
テージ３はベース１に対してステージ２を弾性的に支持
する板バネ、４はベースｌに固定されベース１に対して
ステージ２を押圧することで微小変位させるアクチュエ
ータである所の圧電素子、５はベース１と、ステージ２
の間隙に設けられる所の減衰用ゴム材、１０は圧電素子
の伸縮制御用の制御電圧発生回路、１１は制御電圧発生
回路に指令信号を発するＣＰＵである。この実施例では
ベースｌ、ステージ２、板バネ３は１枚の板材に図のよ
うに溝をはって間隙部を形成することにより製作されて
いる。この溝に減衰用ゴム材５を液化して流し込み冷却
固化する事により固体ダンパー部材を間隙部に形成して
いる。圧電素子４の駆動量は小さく変形量の小さいゴム
材でも充分ダンパーとして使用できる。
こでは固定部である所のベース、２は可動部材であるス
テージ３はベース１に対してステージ２を弾性的に支持
する板バネ、４はベースｌに固定されベース１に対して
ステージ２を押圧することで微小変位させるアクチュエ
ータである所の圧電素子、５はベース１と、ステージ２
の間隙に設けられる所の減衰用ゴム材、１０は圧電素子
の伸縮制御用の制御電圧発生回路、１１は制御電圧発生
回路に指令信号を発するＣＰＵである。この実施例では
ベースｌ、ステージ２、板バネ３は１枚の板材に図のよ
うに溝をはって間隙部を形成することにより製作されて
いる。この溝に減衰用ゴム材５を液化して流し込み冷却
固化する事により固体ダンパー部材を間隙部に形成して
いる。圧電素子４の駆動量は小さく変形量の小さいゴム
材でも充分ダンパーとして使用できる。
上記構成に於て減衰用ゴム材５がない場合圧電素子４に
ＣＰＵＩＩからの指令により制御電圧発生回路ｌＯから
早い立ち上りの電圧を印加すると、ステージ２は圧電素
子４からの加圧により大きな速度がつき、目標位置に達
しても慣性の為残留振動をしながら徐々に目標位置に収
束してゆく為、振動が収まる迄に長い時間を要する。こ
れに対し、本実施例では減衰用ゴム材５を挿入している
為同様の駆動を行うと減衰性ゴム材５の粘性の為にステ
ージ２の目標位置到達後の振動エネルギーが吸収され残
留振動が急速に減衰し、短時間で振動が停止しステージ
２の目標位置への位置決めをす早（する事が可能である
。又減衰材をステージ２の周囲に充填して形、成するこ
とにより駆動方向だけでなく派生する他成分の振動も減
衰させることができる。
ＣＰＵＩＩからの指令により制御電圧発生回路ｌＯから
早い立ち上りの電圧を印加すると、ステージ２は圧電素
子４からの加圧により大きな速度がつき、目標位置に達
しても慣性の為残留振動をしながら徐々に目標位置に収
束してゆく為、振動が収まる迄に長い時間を要する。こ
れに対し、本実施例では減衰用ゴム材５を挿入している
為同様の駆動を行うと減衰性ゴム材５の粘性の為にステ
ージ２の目標位置到達後の振動エネルギーが吸収され残
留振動が急速に減衰し、短時間で振動が停止しステージ
２の目標位置への位置決めをす早（する事が可能である
。又減衰材をステージ２の周囲に充填して形、成するこ
とにより駆動方向だけでなく派生する他成分の振動も減
衰させることができる。
第２図に本実施例と減衰用ゴム材を挿入しない例との比
較実験のデータを示す。第２図′（ａ）は減衰用ゴム材
を挿入しない例の実験データで下の曲線が制御電圧発生
回路１０から圧電素子４へ印加される電圧の値、上の曲
線がそれに伴うステージ２の変位を示す。第２図（ｂ）
は本実施例の実験データで各曲線の内容は第２図（ａ）
と同様である。いずれも時刻ｔの時に圧電素子に変位の
為の電圧が印加されている。第２図（ａ）、（ｂ）を見
比べてもわかるように本実施例のステージ装置は減衰性
ゴム材を挿入した事でステージ２の位置決め時の高減衰
性を達成している。
較実験のデータを示す。第２図′（ａ）は減衰用ゴム材
を挿入しない例の実験データで下の曲線が制御電圧発生
回路１０から圧電素子４へ印加される電圧の値、上の曲
線がそれに伴うステージ２の変位を示す。第２図（ｂ）
は本実施例の実験データで各曲線の内容は第２図（ａ）
と同様である。いずれも時刻ｔの時に圧電素子に変位の
為の電圧が印加されている。第２図（ａ）、（ｂ）を見
比べてもわかるように本実施例のステージ装置は減衰性
ゴム材を挿入した事でステージ２の位置決め時の高減衰
性を達成している。
本実施例の減衰性ゴム材５の代りに低弾性樹脂、例えば
ポリエチレンを熱により液化して流し込み冷却固化した
ものを用いたり、ゴム系接着剤を流し込んで固化したも
のを用いてもかまわない。又低弾性樹脂の固化は硬化剤
を用いてもよい。
ポリエチレンを熱により液化して流し込み冷却固化した
ものを用いたり、ゴム系接着剤を流し込んで固化したも
のを用いてもかまわない。又低弾性樹脂の固化は硬化剤
を用いてもよい。
第３図は本発明の第２の実施例である。以下の実施例に
おいて第１図と同様の部材については同じ符号で示し、
又、圧電素子４は不図示の制御電圧発生回路を介し不図
示のＣＰＵと接続しているものとする。５ａはベース１
とステージ２の間に設けられる所の減衰用ゴム材である
。減衰用ゴム材５ａは別の場所で製作されたもので、図
のように間隙部でベース１とステージ２の両方に固着さ
れている。第１の実施例のように液化ゴム材を流し込ん
で形成してもよい。この時板バネ３が変形していない状
態でもステージ２に圧電素子４方向への押圧力を与える
目的で、減衰用ゴム材５ａは圧縮状態にして間隙部に挿
入される。同時に圧電素子４が１番縮んだ状態の時に板
バネ３が変形のない状態になるよう圧電素子４を設置し
ておく。このようにすることで圧電素子４が最も縮んだ
時にもステージ２は圧電素子４に押しつけられ、かつ圧
電素子４の一定駆動範囲に対して板バネ３の変形範囲を
最小にできる。
おいて第１図と同様の部材については同じ符号で示し、
又、圧電素子４は不図示の制御電圧発生回路を介し不図
示のＣＰＵと接続しているものとする。５ａはベース１
とステージ２の間に設けられる所の減衰用ゴム材である
。減衰用ゴム材５ａは別の場所で製作されたもので、図
のように間隙部でベース１とステージ２の両方に固着さ
れている。第１の実施例のように液化ゴム材を流し込ん
で形成してもよい。この時板バネ３が変形していない状
態でもステージ２に圧電素子４方向への押圧力を与える
目的で、減衰用ゴム材５ａは圧縮状態にして間隙部に挿
入される。同時に圧電素子４が１番縮んだ状態の時に板
バネ３が変形のない状態になるよう圧電素子４を設置し
ておく。このようにすることで圧電素子４が最も縮んだ
時にもステージ２は圧電素子４に押しつけられ、かつ圧
電素子４の一定駆動範囲に対して板バネ３の変形範囲を
最小にできる。
上記構成において圧電素子４によるステージ２の駆動を
行うと残留振動が急速に減衰し、短時間で振動が停止し
目標位置に到達する。
行うと残留振動が急速に減衰し、短時間で振動が停止し
目標位置に到達する。
第４図は本発明の他の実施例であり、減衰用ゴム材５ｂ
を圧電素子４による駆動方向からずらして配置したもの
である。この様に減衰用ゴム材の配置を変更する事によ
り、駆動方向の振動のみならず派生する他の運動方向、
この場合はヨーイング方向の振動をも減衰させる事が可
能となる。
を圧電素子４による駆動方向からずらして配置したもの
である。この様に減衰用ゴム材の配置を変更する事によ
り、駆動方向の振動のみならず派生する他の運動方向、
この場合はヨーイング方向の振動をも減衰させる事が可
能となる。
第５図は本発明の他の実施例で減衰用ゴム材５Ｃを調整
用部材６を介してベース材１に取付ける様にしたもので
ある。減衰用ゴム部材５Ｃは調整用部材６に固着されス
テージ２とは当接のみ行う。調整用部材６は調整用ネジ
７により図面Ａ方向に変位調整可能である。上記構成に
於て、調整用部材６を用いて減衰用ゴム材５をステージ
２に押しつける力を調整可能とする事により、圧電素子
４に予圧を任意に印加する効果が生じる。板バネ３は変
形時にステージ２を圧電素子４に押し付け、圧電素子４
の伸縮を即座にステージ２に伝える効果を有する。板バ
ネ３をあまり太き（変形させると使用不可能になるので
板バネ３がステージ２を圧電素子４に押し付ける状態で
板バネの変形範囲を最小にする、即ち圧電素子４が最も
縮んだ状態で板バネ３の変形もない状態にするのが適切
である。しかしこの場合圧電素子４が最も縮んだ場合に
はステージ２は板バネ３による圧電素子４に押しつけら
れる力がかなり弱くななって圧電素子４とステージ２と
が離れてしまう可能性もありこの時にバック文ラッシュ
を生じてしまう。本実施例ではダンパー部材である減衰
用ゴム材５の押し付は力を調整用部材６を介して調整用
ネジ７で調整できるので、圧電素子４が最も縮み、板バ
ネ３の変形が無くなった時もステージ２が圧電縮んだ時
にも板バネ３に負担をかけたり他に予圧手段を設ける必
要がなく、かつ押圧力を、ステージ２が圧電素子４に充
分押しつけられ、圧電素子４がステージ２を駆動する時
ゴム材５Ｃが充分変形するような適切なものに調整する
事もでき、更にステージの駆動範囲や経時変化に応じて
押圧力を変化させる事もできる。又場合によってはネジ
７を調整してゴム材５Ｃをステージ２から離し減衰材な
しの駆動手段へ切り換えることも可能である。
用部材６を介してベース材１に取付ける様にしたもので
ある。減衰用ゴム部材５Ｃは調整用部材６に固着されス
テージ２とは当接のみ行う。調整用部材６は調整用ネジ
７により図面Ａ方向に変位調整可能である。上記構成に
於て、調整用部材６を用いて減衰用ゴム材５をステージ
２に押しつける力を調整可能とする事により、圧電素子
４に予圧を任意に印加する効果が生じる。板バネ３は変
形時にステージ２を圧電素子４に押し付け、圧電素子４
の伸縮を即座にステージ２に伝える効果を有する。板バ
ネ３をあまり太き（変形させると使用不可能になるので
板バネ３がステージ２を圧電素子４に押し付ける状態で
板バネの変形範囲を最小にする、即ち圧電素子４が最も
縮んだ状態で板バネ３の変形もない状態にするのが適切
である。しかしこの場合圧電素子４が最も縮んだ場合に
はステージ２は板バネ３による圧電素子４に押しつけら
れる力がかなり弱くななって圧電素子４とステージ２と
が離れてしまう可能性もありこの時にバック文ラッシュ
を生じてしまう。本実施例ではダンパー部材である減衰
用ゴム材５の押し付は力を調整用部材６を介して調整用
ネジ７で調整できるので、圧電素子４が最も縮み、板バ
ネ３の変形が無くなった時もステージ２が圧電縮んだ時
にも板バネ３に負担をかけたり他に予圧手段を設ける必
要がなく、かつ押圧力を、ステージ２が圧電素子４に充
分押しつけられ、圧電素子４がステージ２を駆動する時
ゴム材５Ｃが充分変形するような適切なものに調整する
事もでき、更にステージの駆動範囲や経時変化に応じて
押圧力を変化させる事もできる。又場合によってはネジ
７を調整してゴム材５Ｃをステージ２から離し減衰材な
しの駆動手段へ切り換えることも可能である。
以上述べた実施例において減衰用ゴム材５に低ガス放出
性のフッ素系ゴム、例えばパイトン（登録商標）やニト
リルゴム等を使用すれば、ステージ装置を高真空チャン
バ中で使用しても、ゴム材から放出されるガスによって
高真空チャンバの真空度が悪化するおそれがない。即ち
低ガス放出性ゴム材使用により本願は高真空中使用のス
テージにも適用可能である。
性のフッ素系ゴム、例えばパイトン（登録商標）やニト
リルゴム等を使用すれば、ステージ装置を高真空チャン
バ中で使用しても、ゴム材から放出されるガスによって
高真空チャンバの真空度が悪化するおそれがない。即ち
低ガス放出性ゴム材使用により本願は高真空中使用のス
テージにも適用可能である。
以上説明した様に、微動ステージ装置の可動部材に減衰
用ゴム材、又は低弾性樹脂材、又は低弾性接着剤等を設
けるという簡易な手段を付加することにより、 ｌ）駆動時の残留振動の減衰を早（し、高速に目標位置
に到達させる事が可能となった。
用ゴム材、又は低弾性樹脂材、又は低弾性接着剤等を設
けるという簡易な手段を付加することにより、 ｌ）駆動時の残留振動の減衰を早（し、高速に目標位置
に到達させる事が可能となった。
２）減衰用材料の配置を変える事により駆動方向のみな
らず派生する他成分の振動をも減衰させることが可能と
なった。
らず派生する他成分の振動をも減衰させることが可能と
なった。
３）減衰用材料の可動部材への押し当て力を調整可能と
する事により、圧電素子への予圧調整の為の機構や部材
が不要となった。
する事により、圧電素子への予圧調整の為の機構や部材
が不要となった。
ジ装はの可動部材と、固定部材との隙間に減衰用ゴム材
等を流し込み固化させるという簡易な製造方法を用いて
ダンパーを形成する事により、５）安価及び製作容易 ６）高減衰 ７）減衰材を可動ステージの周囲に流し込む事により駆
動方向だけでなく、派生する他成分の振動も減衰させる
事が出来る。
等を流し込み固化させるという簡易な製造方法を用いて
ダンパーを形成する事により、５）安価及び製作容易 ６）高減衰 ７）減衰材を可動ステージの周囲に流し込む事により駆
動方向だけでなく、派生する他成分の振動も減衰させる
事が出来る。
８）真空中の使用に対しても低放出ガスのフッ素系ゴム
、例えばパイトン（登録商標）等を用いる事により容易
に対応可能である。
、例えばパイトン（登録商標）等を用いる事により容易
に対応可能である。
という効果が生じた。
第１図は本発明の実施例である微動ステージ装置の斜視
図、 第２図は本発明の詳細な説明する実験データを示す図、 第３図は本発明の他の実施例である微動ステージ装置の
斜視図、 第４図は本発明の他の実施例である微動ステージ装置の
斜視図、 第５図は本発明の他の実施例である微動ステージ装置の
斜視図である。 ｌはベース、 ２は可動ステージ、３は板バネ
、 ４は圧電素子、５は減衰用ゴム材、 ６
は予圧調整用部材である。 第２７ （θＪ Ｊ？ ＜ｂ＞ 、！！：＝ 躬 ５ 図
図、 第２図は本発明の詳細な説明する実験データを示す図、 第３図は本発明の他の実施例である微動ステージ装置の
斜視図、 第４図は本発明の他の実施例である微動ステージ装置の
斜視図、 第５図は本発明の他の実施例である微動ステージ装置の
斜視図である。 ｌはベース、 ２は可動ステージ、３は板バネ
、 ４は圧電素子、５は減衰用ゴム材、 ６
は予圧調整用部材である。 第２７ （θＪ Ｊ？ ＜ｂ＞ 、！！：＝ 躬 ５ 図
Claims (7)
- （１）基準部に対し相対的に移動可能に支持されたステ
ージ部、前記ステージ部を基準部に対し相対的に駆動す
る駆動手段、前記駆動手段により駆動される前記ステー
ジ部に移動抵抗力を与えるように配された固体ダンパー
部材を有する事を特徴とするステージ装置。 - （２）前記固体ダンパー部材は前記ステージ部を中心と
して前記駆動手段の反対側に位置するように基準部に固
定されている事を特徴とする特許請求の範囲第１項記載
のステージ装置。 - （３）前記固体ダンパー部材は基準部と前記ステージ部
との間隙部の少なくとも一部に充填されている事を特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のステージ装置。 - （４）前記固体ダンパー部材にゴム又は低弾性樹脂又は
低弾性接着材を用いる事を特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のステージ装置。 - （５）前記固体ダンパー部材に低ガス放出性のゴムを用
いる事を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のステー
ジ装置。 - （６）基準部と該基準部に対し相対的に移動可能に支持
されたステージ部との間隙部に液状の減衰用材料を流し
込み、固化して固体ダンパー部材を形成する事を特徴と
するステージ装置の製造方法。 - （７）前記減衰用材料はゴム、又は低弾性樹脂であり、
これを液状にして流し込み、冷却により固化して固体ダ
ンパー部材を形成する事を特徴とする特許請求の範囲第
６項記載のステージ装置の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61287072A JPH0727042B2 (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | ステ−ジ装置 |
| US07/125,552 US4887804A (en) | 1986-12-02 | 1987-11-25 | Stage mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61287072A JPH0727042B2 (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | ステ−ジ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63139289A true JPS63139289A (ja) | 1988-06-11 |
| JPH0727042B2 JPH0727042B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=17712689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61287072A Expired - Fee Related JPH0727042B2 (ja) | 1986-12-02 | 1986-12-02 | ステ−ジ装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4887804A (ja) |
| JP (1) | JPH0727042B2 (ja) |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2623123B2 (ja) * | 1988-08-17 | 1997-06-25 | キヤノン株式会社 | 微動ステージ装置 |
| JP2523177B2 (ja) * | 1989-04-28 | 1996-08-07 | 日本写真印刷株式会社 | 位置決めテ―ブル |
| WO1991001848A1 (en) * | 1989-08-04 | 1991-02-21 | Hatheway Alson E | Precision motion transducer |
| US5187876A (en) * | 1989-08-04 | 1993-02-23 | Hatheway Alson E | Precision motion transducer |
| NL8902471A (nl) * | 1989-10-05 | 1991-05-01 | Philips Nv | Tweetraps positioneerinrichting. |
| US5301933A (en) * | 1990-02-27 | 1994-04-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Sample moving device |
| JP3006874B2 (ja) * | 1990-11-16 | 2000-02-07 | 日本トムソン株式会社 | 位置決めテーブル |
| US5874820A (en) * | 1995-04-04 | 1999-02-23 | Nikon Corporation | Window frame-guided stage mechanism |
| US6989647B1 (en) | 1994-04-01 | 2006-01-24 | Nikon Corporation | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device |
| US7365513B1 (en) | 1994-04-01 | 2008-04-29 | Nikon Corporation | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device |
| US5528118A (en) * | 1994-04-01 | 1996-06-18 | Nikon Precision, Inc. | Guideless stage with isolated reaction stage |
| US6246204B1 (en) | 1994-06-27 | 2001-06-12 | Nikon Corporation | Electromagnetic alignment and scanning apparatus |
| US5623853A (en) * | 1994-10-19 | 1997-04-29 | Nikon Precision Inc. | Precision motion stage with single guide beam and follower stage |
| KR0141161B1 (ko) * | 1995-03-20 | 1998-07-01 | 이대원 | 회전 테이블을 구비한 스테이지 장치 및 스테이지 장치의 구동 방법 |
| US6008500A (en) * | 1995-04-04 | 1999-12-28 | Nikon Corporation | Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame |
| TW318255B (ja) | 1995-05-30 | 1997-10-21 | Philips Electronics Nv | |
| US5760564A (en) * | 1995-06-27 | 1998-06-02 | Nikon Precision Inc. | Dual guide beam stage mechanism with yaw control |
| US6131410A (en) * | 1998-03-16 | 2000-10-17 | The Regents Of The University Of California | Vacuum fusion bonding of glass plates |
| US6888289B2 (en) * | 2002-07-16 | 2005-05-03 | Baldor Electric Company | Multi-axes, sub-micron positioner |
| KR100568206B1 (ko) * | 2004-02-13 | 2006-04-05 | 삼성전자주식회사 | 스테이지장치 |
| TWI253370B (en) * | 2004-12-30 | 2006-04-21 | Ind Tech Res Inst | Precision motion transducer utilizing elasticity ratio |
| US7107693B2 (en) * | 2005-01-14 | 2006-09-19 | Illinois Institute Of Technology | Apparatus and method for precise angular positioning |
| JP6068349B2 (ja) * | 2010-10-21 | 2017-01-25 | ソルラブス、 インコーポレイテッドＴｈｏｒｌａｂｓ， Ｉｎｃ． | ナノポジショナーのための平行度維持装置 |
| CN103769958B (zh) * | 2014-01-27 | 2017-01-04 | 河北工业大学 | 一种超声振动平台 |
| CN105382634A (zh) * | 2015-11-30 | 2016-03-09 | 上海理工大学 | 超声振动辅助磨削装置 |
| EP3667696A1 (en) * | 2018-12-14 | 2020-06-17 | ASML Netherlands B.V. | Stage apparatus suitable for electron beam inspection apparatus |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6355844A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-10 | Hitachi Ltd | テ−ブル装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3312460A (en) * | 1963-11-15 | 1967-04-04 | O K Machine & Tool Corp | Holding device for testing connections |
| US3669462A (en) * | 1970-04-03 | 1972-06-13 | Hardinge Brothers Inc | Three and four leaf machine tool collets |
| DD154146B1 (de) * | 1980-12-01 | 1988-07-27 | Dittrich Peter Dr Ing | Einrichtung zur piezoelektrischen positionierung |
| JPS5972727A (ja) * | 1982-10-19 | 1984-04-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 位置合わせ用テ−ブル |
| US4667415A (en) * | 1985-11-29 | 1987-05-26 | Gca Corporation | Microlithographic reticle positioning system |
-
1986
- 1986-12-02 JP JP61287072A patent/JPH0727042B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-11-25 US US07/125,552 patent/US4887804A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6355844A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-10 | Hitachi Ltd | テ−ブル装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4887804A (en) | 1989-12-19 |
| JPH0727042B2 (ja) | 1995-03-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63139289A (ja) | ステ−ジ装置 | |
| US7332848B2 (en) | Method of damping actuator and actuator | |
| EP1278232B1 (en) | Apparatus and method for bond force control | |
| US10938289B2 (en) | Actuator | |
| JP2006304529A (ja) | 駆動装置 | |
| JP2000050657A (ja) | 電気機械変換素子を使用したアクチエ−タ | |
| CN112984044B (zh) | 精密设备搭载用除振装置 | |
| JPWO2007032254A1 (ja) | 駆動機構および光ヘッド | |
| CN209919324U (zh) | 带气缸式刚度切换装置的刚柔耦合平台及运动平台 | |
| KR20180049671A (ko) | 압전 직구동 밸브 시스템 | |
| JP3539117B2 (ja) | 電気機械変換素子を使用した駆動装置 | |
| JPS62159088A (ja) | 移動ステ−ジ装置 | |
| JPS6162110A (ja) | 精密試料移動装置 | |
| US9251847B2 (en) | Damping structure for tape head system | |
| JPH1175382A (ja) | 電気機械変換素子を使用した駆動装置 | |
| JPH03265734A (ja) | 精密機械を設置するテーブル等の精密振動制御方法 | |
| JPH012845A (ja) | 精密位置決め装置 | |
| JP2001297478A (ja) | 対物レンズ駆動装置 | |
| JP3417237B2 (ja) | 電気機械変換素子を使用した駆動装置 | |
| JPS6145988A (ja) | 防振構造 | |
| JP2657309B2 (ja) | 回転円板型記録装置のアクセス機構 | |
| JPH10248278A (ja) | 電気機械変換素子を使用した駆動装置 | |
| KR102479777B1 (ko) | 형상 기억 합금을 이용한 선형 작동기 | |
| JP4982795B2 (ja) | 駆動装置及び駆動装置ユニット | |
| KR101778682B1 (ko) | 압전 구동 회전모터 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |