JPS63139151A - ペルハロ炭化水素次亜塩素酸エステルの製造方法 - Google Patents

ペルハロ炭化水素次亜塩素酸エステルの製造方法

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JPS63139151A JP62219299A JP21929987A JPS63139151A JP S63139151 A JPS63139151 A JP S63139151A JP 62219299 A JP62219299 A JP 62219299A JP 21929987 A JP21929987 A JP 21929987A JP S63139151 A JPS63139151 A JP S63139151A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3λ匪立川坦皇1」 本発明の分野 本発明はクロル−オキシ−ハロ化合物の製造に関する。
更に特定すれば、本発明は、一般式:%式%() [式中Rは、ふっ素および(又は)臭素ないし塩素で完
全にハロゲン化された、炭素原子1〜12個好ましくは
1〜6個を含むアルキル、シクロアルキル、芳香族は又
は複素環式ポリエーテル基であり、nはOll又は2で
あり1mは3〜nである。但し、n=2のとき、は互い
に同じか又は別異の基を表わすコの塩素−オキシ−ハロ
化合物を製造するための連続的製造方法に関する。
本発明の背景 ベルフルオルアルカンのクロル−オキシ誘導体の製造は
技術文献ないし特許文献から知られているが、それら方
法は、以下に詳述する如く大抵不満足なものである。
5chackおよびNayaの両名は、CF30CI 
 製造の一連の第1段階で一り8℃〜室温範囲の温度を
用い、またより進んだ段階で一78℃を用いるバッチ法
を報告している[J、A、C,S、(1969) 29
02〜91.11]。この方法は液相の反応体を用い、
場合に依ってはその自生圧下で実施される。より進んだ
段階での反応で採用される低い温度は、室温でのその不
安定性が高いためと記述されている。第1段階に関して
も、初期化合物の形成速度は、室温でさえあまり高くな
い(1時間後わずか60%)。
米国特許第3,842.156号は、その請求項でSb
F5、HCI又はBF3タイプの気体触媒を記しており
、そして該触媒が従来法の金属ぶつ化物より良くまた気
相反応にも適するとしている。実際、記述された製造は
、液相の反応体に対し一20℃で実施されているが、反
応時間はかなり長い(24時間)6 米国特許第3.769.312  号の場合も、−78
℃〜0℃好ましくは一20℃の低い温度で実施されるバ
ッチタイプの方法で、反応時間は10時間程度である。
そして、仏国特許第1.589.946号は、専ら気相
、室温、ハツチ態様で実施されるCF3COC1の合成
に関し; 数時間の反応時間を挙げている。この特許は
、MgFzとAl2O3から特別な仕方で調製した触媒
を用いている。
それ故、検討した従来法より本発明者等が結論し得たこ
とは、反応が液相で実施され、しかも反応時間がかなり
長いということである。而して、好適な温度は0℃より
低く或は最高O℃、好ましくは一78°C〜−20℃で
ある。5chackに依れば、第1段階の室温で、収率
は1時間後60%にすぎず、99%の収率に達するには
、約12時間を必要とする。
気相での唯一の方法は、仏国特許第1.589.946
号に開示されたもので、 CF30C1の合成に限定さ
れ、しかも常にバッチ法による。この方法も亦、示され
ている時間はかなり長い。
本発明 本発明の目的は、従来技術の方法の制約ないし欠点を示
さないクロル−オキシ化合物の改良された製造方法を提
供することである。
更に特定するに、本発明の目的は、クロルーオキシ化合
物を連続的に製造するための工業的方法を提供すること
である。
本発明の別の目的は、初期のクロル−オキシ化合物を選
択的態様で且つ高収率で製造することを可能にする工業
的方法を提供することである。
本発明の更に別の目的は、生成物の不安定性の高さに関
連したリスクや制約を排除するようにして、後続の単離
および(又は)加工を必要とせずに、クロル−オキシ化
合物を高い生産性および高い純度を以て製造することを
可能にする工業的方法を提供することである。
然るに、本発明者等は、驚くべきことに、上記および他
の目的が、好ましくはに、Rb、Cs。
BaおよびSrより選ばれるアルカリ金属若しくはアル
カリ土類金属のふつ化物(特にC5F)によって構成さ
れる固体触媒(好ましくは金属特に銅で担持ないし混合
されたもの)の存在下、酸素原子をカルボニルの形で炭
素原子に直接結合させた分子構造の有機化合物とFCl
とを気相連続態様で直接反応させることにより遂行され
ることを見出した。本発明方法のかかる触媒は、数時間
程度のかなり長い寿命の触媒活性を示す。
反応温度は0〜100℃好ましくは25〜50℃範囲の
値に保持される。反応時間は常に10分以内特に1分以
内である。
特に活性な触媒を用いて上記条件下で作業することによ
り、反応が秒単位の非常に短い時間内で定量的収率を以
て生じることが分かっているので、不活性ガスによる反
応体の希釈は、信頼しつる制御を遂行するのに適してい
る。該不活性ガスは、例えば窒素又は、反応条件下で不
活性なりロルフルオルカーボン特にC2F4CI2又は
Heでありうる。
反応は、大気圧に等しいか或はそれより高い圧力で実施
しつる。
前記触媒は50〜1000ミクロン好ましくは250〜
500ミクロン範囲の粒度で用いられ、それは粉砕によ
って得ることができる。触媒は好ましくは、数mm程度
の大きさの金属粒子と混合される。金属は例えばCu、
Ni又はAIでありうる。特に、触媒は金属粒子によっ
て担持される。
用いられる反応体はF20およびHFのないものでなけ
ればならず、またF2および水素化化合物(例 アルコ
ール、アルデヒド、炭化水素)は存在すべきでない。
記述の如く、本発明の目的であるクロル−オキシ−ハロ
化合物は直接用いられるので、後続使用特にオレフィン
と反応させ次いで、変性ふっ素化ポリマー、プラストマ
ーおよびフルオルエラストマーの製造に用いられる入手
困難な化合物フルオルアルキル−ビニルエーテルを脱ハ
ロゲン化によって得るのに本化合物は単離精製の必要が
ない。
周知の如く、この経路によるフルオルアルキル−ビニル
エーテルの工業的規模における製造の蓋然性は、フルオ
ル−クロル−オキシ化合物の製造コストが高過ぎること
によりこれまで制約があった。
事実、従来法に依れば、該化合物はこれまで、ミリモル
程度の極く少量の反応体を用いたパッチ態様によって常
時製造されてきた。
本発明に用いられる出発化合物はカルボニル基を含み、
一般式: [式中R′はF又はペルフルオルアルキルであり得、 R=F或は、式(I)で定義したタイプの他のハロゲン
をも含みつるふっ素化炭化水素]を有する。
特に、出発化合物は、R’ =F、R=F若しくはC1
〜C6ペルフルオルアルキルの化合物例えばCOF2、
CF3C0F、C2F6COF、C3F、COF、 C
F2Br COF テある。
特に、CF30C1を得るのに、出発化合物COF2は
、本出願人の所有に係るイタリア国特許出願2]、 1
72A/86で第1段階として開示されたcoとF2と
の反応による連続プロセスに従い有利に製造される。F
Clとの後続反応では、この第1段階からの気体反応混
合物が直接用いられる。
反応体は、好ましくは僅かな加圧下等モル■気相で、各
反応体の流量を触媒1g当り5・10−6モル/hrと
して連続供給される。而して、各反応体の流量は触媒1
g当たり10−’  〜10−’干ル/hr範囲である
ことが好ましい。
一般的に、反応器はステンレス鋼製、銅製又は調合金製
であり、或は反応体に対し不活性な他の材料で製せられ
たものである。
本発明によって呈される特定の利点は、本発明方法で得
られるクロル−オキシ化合物が、対応エーテルを取得す
べくハロゲン化オレフィンとの反応で、可能な希釈剤と
の気体混合物としてそのまま使用しうることにある。
本発明の実際の具体化に関する一層の理解に資するため
、非制限的例な以下に示す。
全ての例で、反応体FClを用いるとき、それは、40
0℃に保持せる11容量のニッケル製反応器に、3 1
/hrの塩素と3. 1 1/hrのふっ素を搬入させ
ることにより得た。反応器出口において、冷トラップを
一80℃で冷却し続けることにより、CI F 3の除
去を確実にした。而して、得られた気体は純度の高いF
Clであり、そのまま反応体として下記例で用いられた
升−ユ 50cm3容量の円筒形鋼製反応器に銅線破片を充填し
、その上にぶつ化セシウムをメタノール溶液から蒸着さ
せた。このように準備した反応器内のCsF量は15g
であった。該反応器は温度調節浴で30℃に保持した。
この反応器に、上記方法により調製したぶつ化塩素(F
C1) 6 1/hrとトリフルオルアセチルぶつ化物
5 1/hrとの気体混合物を供給した。トリノルオル
アセチルぶつ化物を確実に完全転化させるために、それ
は、化学量論的量に対しわずかに低い量とした。希釈剤
としてヘリウムを301/hrの量で用いた。反応混合
物をIR分光光度計およびガスクロマトグラフィーで分
析した。検知されたのは、わずかに過剰使用されたFC
lの存在、 CF3  C=0の消失およびクロマトグラフィーによ
り検出し得たCF3CF2−0CI誘導体に相当する単
一化合物の存在である。気体のIRスペクトルは、J、
A、C,S、912902(1969)に報告されたも
のに相当する。
このようにして得た気体を、反応溶剤として作用すルC
F 2  CF 2 C1(7)入った、−8C℃に保
持せるガラス製反応器に流し入れ、それと同時に次亜塩
素酸塩合成反応器に供給されるトリフルオルアセチルぶ
つ化物と等モル量のCFCl =CFCIを供給するこ
とにより、反応終了時、供給オレフィに対し約70モル
%の収率て形成せる主要生成物 : CFCI□−CFCl−0−CF2−CF3(NMR分
析で同定)を含む溶液を得た。該生成物は蒸留により単
離し得た。他の反応副生成物は沸点が低く、オーバヘッ
ド製品として留去した。
鮭−全 例1と同じ反応器に、外部水冷管内で夫々3.3および
301/hr量のCo、F2およびヘリウムを混合する
ことにより形成した、ヘリウム301/ hrによる、
F C1(61/hr)とC0F2(61/hr )と
の希釈混合物を流し入れた。
本例では、反応器を50℃に保った。出口反応生成物に
おいて、転化はほぼ完全であり、気体のIRスペクトル
は、730および790cm−’における二つの吸収帯
を示した。技術文献は、これら吸収帯をCF30C1の
OCI基の存在に帰している。
例−一旦 例1と同じ反応器に、ヘリウム301/hrによる、F
 C1(61/hr)とCF2Br−C0F(41/h
r )との希釈混合物を流し入れた。反応器を20℃に
保った。
反応器から出てくる流れに関し、CF2Br−C0Fが
90%より多く反応していることが観察された。それは
、IR吸収でC=O基がほとんど消失していること、ま
た775および1290cm−’で新たな二つの吸収帯
が存在すること而してそれが先行例との類推により化合
物 CF2 Br  CF20CI に帰せられることによって立証される。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属のふっ化
    物により構成される固体触媒の存在下、酸素原子をカル
    ボニルの形で炭素原子に直接結合させた分子構造をもつ
    有機化合物とFClとの直接反応による、式: (R)_nC(F)_m−OCl( I ) [式中Rは、臭素、塩素および(又は)ふっ素で完全に
    ハロゲン化された炭素原子1〜12個のアルキル、シク
    ロアルキル、芳香族、複素環式ポリエステル基であり、
    nは1〜2範囲の整数であり、mは3〜nに等しい整数
    であり、而してn=2のとき、Rは互いに同じか又は別
    異の基を表わす]のクロルハロ化合物の製造方法にして
    、前記反応を0〜100℃範囲の温度でしかも、反応媒
    体中での前記反応体の滞留時間が10分より短くなるよ
    う該反応体を連続供給し且つ反応生成物を除去する条件
    下、また温度が予備設定値以下に保たれるよう反応熱を
    除去する条件下気相で実施することを特徴とする方法。
  2. (2)酸素原子をカルボニルの形で炭素原子に直接結合
    させた分子構造をもつ有機化合物が式:▲数式、化学式
    、表等があります▼(II) [式中R′はF又はペルフルオルアルキルであり得、R
    =F或は、塩素および(又は)臭素をも含みうるふっ素
    化炭化水素基] を有することを特徴とする、特許請求の範囲第1項記載
    の方法。
  3. (3)Rが、炭素原子1〜6個を有するペルフルオルア
    ルキル基であることを特徴とする、特許請求の範囲第2
    項記載の方法。
  4. (4)酸素原子をカルボニルの形で炭素原子と直接結合
    させた分子構造をもつ有機化合物とFClとの反応が、
    触媒を含み且つ所望の熱交換を確保しうる固定層に反応
    体を気相で連続的に通すことにより遂行されることを特
    徴とする、特許請求の範囲第1項〜3項のいずれか一項
    記載の方法。
  5. (5)触媒の担体として用いられるふっ素に対し本質上
    不活性な金属物質の存在で実施されることを特徴とする
    、特許請求の範囲第1項〜4項のいずれか一項記載の方
    法。
  6. (6)触媒が、削り屑、ラッシヒリングおよび類似充填
    体の如き金属物質と混合されていることを特徴とする、
    特許請求の範囲第4項又は5項記載の方法。
  7. (7)金属物質が、黄銅およびモネルの如き銅又はその
    合金であることを特徴とする、特許請求の範囲第5項又
    は6項記載の方法。
  8. (8)反応体が、5〜70容量%範囲の濃度で不活性ガ
    スにより希釈された形で供給されることを特徴とする、
    特許請求の範囲第1項〜7項のいずれか一項記載の方法
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