JPS63138292A - 直動ステ−ジ - Google Patents
直動ステ−ジInfo
- Publication number
- JPS63138292A JPS63138292A JP61284287A JP28428786A JPS63138292A JP S63138292 A JPS63138292 A JP S63138292A JP 61284287 A JP61284287 A JP 61284287A JP 28428786 A JP28428786 A JP 28428786A JP S63138292 A JPS63138292 A JP S63138292A
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- JP
- Japan
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- guide bar
- linear motion
- frame
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- Granted
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は、直線的に穆勤する直動ステージに関し、特に
２本の平行なガイドバー上にま跨がって摺動する例えば
Ｘ線露光装置に使用する縦型ステージ等高精度な直進制
御を必要とする直動ステージに関する。
２本の平行なガイドバー上にま跨がって摺動する例えば
Ｘ線露光装置に使用する縦型ステージ等高精度な直進制
御を必要とする直動ステージに関する。
［従来の技術］
従来の直動ステージは、フレームに２本の平行なガイド
バーを固定し、各ガイドバー上に摺動可能な軸受を装着
し、両ガイドバーの軸受同士を連結板で連結し、この連
結板にステージ本体を取付けて、２本のガイドバーに沿
って直線的に移動可能に構成していた。
バーを固定し、各ガイドバー上に摺動可能な軸受を装着
し、両ガイドバーの軸受同士を連結板で連結し、この連
結板にステージ本体を取付けて、２本のガイドバーに沿
って直線的に移動可能に構成していた。
しかしながら、このような従来の直動ステージにおいて
は、２本のガイドバーの平行度を高精度に保ってフレー
ムに固定する作業が容易ではなく平行度の狂いを生ずる
場合があった。また、両ガイドバーの軸受同士を連結す
る連結板の両軸受保持部間の間隔を両ガイドバーの間隔
に合せて同じ精度に組立て加工しなければならず製造作
業が容易ではなかった。また、熱応力、振動等の外的要
因によりガイドバーの平行度が変化した場合または連結
板の間隔が変化した場合等にステージの円滑な摺動動作
が妨げられる場合があった。特にＸ線露光装置等の高精
度の動作が要求される縦型直動ステージにおいては、ガ
イドバーの平行度の狂いやステージの組立誤差、製造誤
差等は製品の品質に大きく影響するため重大であった。
は、２本のガイドバーの平行度を高精度に保ってフレー
ムに固定する作業が容易ではなく平行度の狂いを生ずる
場合があった。また、両ガイドバーの軸受同士を連結す
る連結板の両軸受保持部間の間隔を両ガイドバーの間隔
に合せて同じ精度に組立て加工しなければならず製造作
業が容易ではなかった。また、熱応力、振動等の外的要
因によりガイドバーの平行度が変化した場合または連結
板の間隔が変化した場合等にステージの円滑な摺動動作
が妨げられる場合があった。特にＸ線露光装置等の高精
度の動作が要求される縦型直動ステージにおいては、ガ
イドバーの平行度の狂いやステージの組立誤差、製造誤
差等は製品の品質に大きく影響するため重大であった。
［発明の目的コ
本発明は前記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、２本のガイドバーの平行度の狂いやステージの軸受
間隔とガイドバー間隔との誤差等を吸収して常に円滑な
直進動作が達成される直動ステージの提供を目的とする
。
て、２本のガイドバーの平行度の狂いやステージの軸受
間隔とガイドバー間隔との誤差等を吸収して常に円滑な
直進動作が達成される直動ステージの提供を目的とする
。
［実施例コ
第１図は本発明に係る縦型の直動ステージの一実施例の
立面図であり、第２図はそのＩＩ −＋１方向からみた
平面図である。フレーム１に２本の平行なガイドバー２
ａ、２ｂが固定されている。各ガイドバー２ａ、２ｂは
フランジ付保持スリーブ３を介してフレーム１に装着さ
れ端部には抜は防止用の押え板４が設けられている。両
ガイドバー２ａ、２ｂに沿って矢印Ａのように上下に移
動可能なステージ５が取付けられる。ガイドバー２ａ上
には連結管８ａにより相互に連結された２個の軸受６ａ
、７ａが摺動可能に装着される。同様にガイドバー２ｂ
上にも連結管８ｂにより相互に連結された２個の軸受６
ｂ、７ｂが摺動可能に装着される。ステージ５は、これ
らの軸受６ａ。
立面図であり、第２図はそのＩＩ −＋１方向からみた
平面図である。フレーム１に２本の平行なガイドバー２
ａ、２ｂが固定されている。各ガイドバー２ａ、２ｂは
フランジ付保持スリーブ３を介してフレーム１に装着さ
れ端部には抜は防止用の押え板４が設けられている。両
ガイドバー２ａ、２ｂに沿って矢印Ａのように上下に移
動可能なステージ５が取付けられる。ガイドバー２ａ上
には連結管８ａにより相互に連結された２個の軸受６ａ
、７ａが摺動可能に装着される。同様にガイドバー２ｂ
上にも連結管８ｂにより相互に連結された２個の軸受６
ｂ、７ｂが摺動可能に装着される。ステージ５は、これ
らの軸受６ａ。
６ｂ、７ａ、７ｂと、２本のガイドバー２ａ。
２ｂ上の軸受同士を上下２ケ所で連結する連結板９と、
上下の連結板９に取付けられたステージ本体ｌＯとによ
り構成されている。連結板９は、第２図に示すように、
第１部材１１、第２部材１２および第３部材１３０３つ
の部分により構成されている。
上下の連結板９に取付けられたステージ本体ｌＯとによ
り構成されている。連結板９は、第２図に示すように、
第１部材１１、第２部材１２および第３部材１３０３つ
の部分により構成されている。
第１部材１１は一方のガイドバー２ｂの軸受６ｂを保持
し、第３部材１３は他方のガイドバー２ａの軸受６ａを
保持している。第１部材１１と第２部材１２同士は、ガ
イドバーの軸に垂直な平面内で第２図のＸ方向に弾性変
形するＸ方向板バネ１５を介して相互に連結されている
。この第２部材１２と第３部材１３同士は、前記Ｘ方向
と直角なＹ方向に弾性変形するＹ方向板バネ１４を介し
て相互に連結されている。各板バネ１４．１５は、第３
図に示すように、連結板９を構成する第１．第２および
第３部材１１、１２．１３と一体の部材により構成され
ている（第３図はＹ方向板バネ１４のみを示す）。２本
のガイドバーのうち一方のガイドバー２ａはステージ直
進動作のガイド基準とするため高精度に加工、組立が行
なわれている。
し、第３部材１３は他方のガイドバー２ａの軸受６ａを
保持している。第１部材１１と第２部材１２同士は、ガ
イドバーの軸に垂直な平面内で第２図のＸ方向に弾性変
形するＸ方向板バネ１５を介して相互に連結されている
。この第２部材１２と第３部材１３同士は、前記Ｘ方向
と直角なＹ方向に弾性変形するＹ方向板バネ１４を介し
て相互に連結されている。各板バネ１４．１５は、第３
図に示すように、連結板９を構成する第１．第２および
第３部材１１、１２．１３と一体の部材により構成され
ている（第３図はＹ方向板バネ１４のみを示す）。２本
のガイドバーのうち一方のガイドバー２ａはステージ直
進動作のガイド基準とするため高精度に加工、組立が行
なわれている。
上記構成の直動ステージにおいて、ステージ５は、各軸
受６ａ、６ｂ、７ａ、７ｂが各々ガイドバー２ａ、２ｂ
上を摺動することにより矢印Ａのように上下に移動する
。このとき、２本のガイドバー２ａ、２ｂの平行度が正
確でなく狂いが生じていた場合、この平行度の狂いはＸ
方向板バネ１５およびＹ方向板バネ１４からなる弾性構
造により吸収されステージ５は円滑な直進動作を行なう
。例えばガイドバー２ａに対しガイドバー２ｂがＸ方向
に傾いていた場合にはＸ方向板バネ１５がこの傾きに追
従して弾性変形するため軸受６ｂ、７ｂはガイドバー２
ｂ上を円滑に摺動する。また、ガイドバー２ａに対しガ
イドバー２ｂがＹ方向に傾いていた場合にはＹ方向板バ
ネ１４がこの傾きに追従して弾性変形するため軸受６ｂ
、７ｂはガイドバー２ｂ上を円滑に摺動する。また、Ｘ
方向１Ｙ方向の中間方向に傾いた場合には、両板バネ１
４．１５の弾性変形により軸受６ｂ、７ｂは円滑にガイ
ドバー２ｂ上を摺動する。
受６ａ、６ｂ、７ａ、７ｂが各々ガイドバー２ａ、２ｂ
上を摺動することにより矢印Ａのように上下に移動する
。このとき、２本のガイドバー２ａ、２ｂの平行度が正
確でなく狂いが生じていた場合、この平行度の狂いはＸ
方向板バネ１５およびＹ方向板バネ１４からなる弾性構
造により吸収されステージ５は円滑な直進動作を行なう
。例えばガイドバー２ａに対しガイドバー２ｂがＸ方向
に傾いていた場合にはＸ方向板バネ１５がこの傾きに追
従して弾性変形するため軸受６ｂ、７ｂはガイドバー２
ｂ上を円滑に摺動する。また、ガイドバー２ａに対しガ
イドバー２ｂがＹ方向に傾いていた場合にはＹ方向板バ
ネ１４がこの傾きに追従して弾性変形するため軸受６ｂ
、７ｂはガイドバー２ｂ上を円滑に摺動する。また、Ｘ
方向１Ｙ方向の中間方向に傾いた場合には、両板バネ１
４．１５の弾性変形により軸受６ｂ、７ｂは円滑にガイ
ドバー２ｂ上を摺動する。
第４図は本発明に係る直動ステージの別の実施例の立面
図であり、第５図はそのｖ−Ｙ方向から見た平面図であ
る。この実施例においては、前述の平行度の狂いを吸収
するためのＸ方向板バネおよびＹ方向板バネからなる弾
性構造はフレーム１に設けられている。すなわち、一方
のガイドバー２ｂは第１部材１６に保持され、この第１
部材１６はＸ方向板バネ１７を介して第２部材１８に連
結されている。第２部材１８はＹ方向板バネ１９を介し
てフレーム１に連結されている。これによりステージの
移動に伴いガイドバー自身が弾性変位してガイドバーま
たは連結板の製造、組立誤差を吸収する。
図であり、第５図はそのｖ−Ｙ方向から見た平面図であ
る。この実施例においては、前述の平行度の狂いを吸収
するためのＸ方向板バネおよびＹ方向板バネからなる弾
性構造はフレーム１に設けられている。すなわち、一方
のガイドバー２ｂは第１部材１６に保持され、この第１
部材１６はＸ方向板バネ１７を介して第２部材１８に連
結されている。第２部材１８はＹ方向板バネ１９を介し
てフレーム１に連結されている。これによりステージの
移動に伴いガイドバー自身が弾性変位してガイドバーま
たは連結板の製造、組立誤差を吸収する。
この例では軸受６ａ、６ｂおよび７ａ、７ｂ同士を゛連
結する連結板９には弾性構造を設ける必要はない。その
他の構成、作用、効果は前述の実施例と同様である。
結する連結板９には弾性構造を設ける必要はない。その
他の構成、作用、効果は前述の実施例と同様である。
なお、前記各実施例において、弾性構造を構成するＸ方
向およびＹ方向板バネは連結板またはフレームと一体の
部材により構成しているが、このような一体構成に代え
て、板バネを別部材により構成し、各板バネを連結板ま
たはフレームに対し適当な手段で一体的に取付けてもよ
い。
向およびＹ方向板バネは連結板またはフレームと一体の
部材により構成しているが、このような一体構成に代え
て、板バネを別部材により構成し、各板バネを連結板ま
たはフレームに対し適当な手段で一体的に取付けてもよ
い。
また、各ガイドバー２ａ、２ｂをフレーム１に取付ける
場合、ガイドバーの軸方向（Ｚ方向）に弾性変形可能な
、例えば金属ダイヤフラム等を介してフレームｒ豫イ寸
Ｃ十で≠１．ｌ−い−この↓うた晶す向に変位可能な弾
性手段を介してガイドバーをフレームに取付けることに
より、フレームまたはガイドバーが熱応力または振動等
により変形した場合でも軸方向への変位によりこれを吸
収し各部材に対し無理な力が加わることを防止できる。
場合、ガイドバーの軸方向（Ｚ方向）に弾性変形可能な
、例えば金属ダイヤフラム等を介してフレームｒ豫イ寸
Ｃ十で≠１．ｌ−い−この↓うた晶す向に変位可能な弾
性手段を介してガイドバーをフレームに取付けることに
より、フレームまたはガイドバーが熱応力または振動等
により変形した場合でも軸方向への変位によりこれを吸
収し各部材に対し無理な力が加わることを防止できる。
［発明の効果コ
以上説明したように、本発明においては、弾性構造を介
して２本のガイドバーを連結しているため、２本のガイ
ドバー同士の平行度に狂いが生じた場合または連結板の
軸受間の間隔と２本のガイドバー間の間隔が一致しない
場合等の加工、組立上の寸法誤差または組立後の熱、振
動等の外的要因による変形等を弾性構造により吸収し、
常に円滑なステージの直進動作が達成される。また加工
、組立時に精度を要求されないため製造作業が容易にな
る。
して２本のガイドバーを連結しているため、２本のガイ
ドバー同士の平行度に狂いが生じた場合または連結板の
軸受間の間隔と２本のガイドバー間の間隔が一致しない
場合等の加工、組立上の寸法誤差または組立後の熱、振
動等の外的要因による変形等を弾性構造により吸収し、
常に円滑なステージの直進動作が達成される。また加工
、組立時に精度を要求されないため製造作業が容易にな
る。
第１図は本発明の実施例の立面図、第２図は第１図の実
施例のＩＩ −１１方向から見た平面図、第３図は第１
図の実施例の部分詳細図、第４図は木発明の別の実施例
の立面図、第５図は第４図の実施例の■−■方向から見
た平面図である。 １：フレーム、 ２ａ、２ｂニガイドバー、 ６ａ、６ｂ、７ａ、７ｂ：軸受、 ９：連結板、 １５．１７：Ｘ方向板バネ、 １４．１９：Ｙ方向板バネ。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 第１図 第２図
施例のＩＩ −１１方向から見た平面図、第３図は第１
図の実施例の部分詳細図、第４図は木発明の別の実施例
の立面図、第５図は第４図の実施例の■−■方向から見
た平面図である。 １：フレーム、 ２ａ、２ｂニガイドバー、 ６ａ、６ｂ、７ａ、７ｂ：軸受、 ９：連結板、 １５．１７：Ｘ方向板バネ、 １４．１９：Ｙ方向板バネ。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、フレームに取付けた２本の平行なガイドバーと、該
２本の各ガイドバー上に摺動可能に装着した軸受と、２
本のガイドバー上の軸受同士を連結する連結板と、該連
結板に取付けられたステージ本体と、前記２本のガイド
バーのうち少くとも１本のガイドバーに係合して前記軸
受の摺動方向に垂直な平面内で弾性的に変位可能な弾性
構造とを具備したことを特徴とする直動ステージ。 ２、前記弾性構造は、前記連結板に設けられたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の直動ステージ。 ３、前記連結板は、一方のガイドバーの軸受を保持する
第１部材と、該第１部材に対し、前記平面内のＸ方向に
弾性変形するＸ方向板バネと、該Ｘ方向板バネを介して
前記第１部材に連結された第２部材と、該第２部材に対
し前記Ｘ方向に直角なＹ方向に弾性変形するＹ方向板バ
ネと、該Ｙ方向板バネを介して前記第２部材に連結され
かつ他方のガイドバーの軸受を保持する第３部材とによ
り構成したことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載
の直動ステージ。 ４、前記Ｘ方向板バネおよびＹ方向板バネは、前記第１
、第２および第３部材と一体の部材により構成したこと
を特徴とする特許請求の範囲第３項記載の直動ステージ
。 ５、前記Ｘ方向板バネおよびＹ方向板バネは、前記第１
、第２および第３部材と別の部材により構成し、これを
前記第１、第２および第３部材に対し一体的に固定した
ことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の直動ステ
ージ。 ６、前記弾性構造は、前記フレームのガイドバー保持部
に設けられたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の直動ステージ。 ７、前記フレームの一方のガイドバー保持部は、ガイド
バーを保持する第１部材と、該第１部材に対し前記平面
内のＸ方向に弾性変形するＸ方向板バネと、該Ｘ方向板
バネを介して前記第１部材に連結された第２部材と、該
第２部材に対し前記Ｘ方向に直角なＹ方向に弾性変形す
るＹ方向板バネとからなり、該Ｙ方向板バネを介して前
記第２部材を前記フレームに連結したことを特徴とする
特許請求の範囲第６項記載の直動ステージ。 ８、前記Ｘ方向板バネおよびＹ方向板バネは、前記第１
部材、第２部材およびフレームと一体の部材により構成
したことを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の直動
ステージ。９、前記Ｘ方向板バネおよびＹ方向板バネは
、前記第１部材、第２部材およびフレームと別の部材に
より構成し、これを該第１部材、第２部材およびフレー
ムに対し一体的に固定したことを特徴とする特許請求の
範囲第７項記載の直動ステージ。 １０、前記フレームのガイドバー保持部に、該ガイドバ
ーをその軸方向に弾性変位可能とするための弾性手段を
設けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項から第９
項までのいずれか１項記載の直動ステージ。 １１、前記弾性手段は、前記ガイドバーの端部に設けた
金属ダイヤフラムからなることを特徴とする特許請求の
範囲第１０項記載の直動ステージ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61284287A JPH0652302B2 (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-01 | 直動ステ−ジ |
| US07/125,566 US4993696A (en) | 1986-12-01 | 1987-11-25 | Movable stage mechanism |
| DE3740561A DE3740561C2 (de) | 1986-12-01 | 1987-11-30 | Aufnahmevorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61284287A JPH0652302B2 (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-01 | 直動ステ−ジ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63138292A true JPS63138292A (ja) | 1988-06-10 |
| JPH0652302B2 JPH0652302B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=17676577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61284287A Expired - Fee Related JPH0652302B2 (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-01 | 直動ステ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0652302B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012500492A (ja) * | 2008-08-18 | 2012-01-05 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | 荷電粒子ビームリソグラフィシステム及びターゲット位置決め装置 |
| US8779392B2 (en) | 2008-08-18 | 2014-07-15 | Mapper Lithography Ip B.V. | Charged particle beam lithography system and target positioning device |
| CN110961777A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-07 | 深圳市海目星激光智能装备股份有限公司 | 激光加工设备 |
| CN112872899A (zh) * | 2019-11-29 | 2021-06-01 | 发那科株式会社 | 支撑构造 |
| JP2021084205A (ja) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | ファナック株式会社 | 支持構造 |
-
1986
- 1986-12-01 JP JP61284287A patent/JPH0652302B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012500492A (ja) * | 2008-08-18 | 2012-01-05 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | 荷電粒子ビームリソグラフィシステム及びターゲット位置決め装置 |
| JP2013038426A (ja) * | 2008-08-18 | 2013-02-21 | Mapper Lithography Ip Bv | 荷電粒子ビームリソグラフィシステム及びターゲット位置決め装置 |
| US8779392B2 (en) | 2008-08-18 | 2014-07-15 | Mapper Lithography Ip B.V. | Charged particle beam lithography system and target positioning device |
| US8796644B2 (en) | 2008-08-18 | 2014-08-05 | Mapper Lithography Ip B.V. | Charged particle beam lithography system and target positioning device |
| US8957395B2 (en) | 2008-08-18 | 2015-02-17 | Mapper Lithography Ip B.V. | Charged particle beam lithography system and target positioning device |
| US9082584B2 (en) | 2008-08-18 | 2015-07-14 | Mapper Lithography Ip B.V. | Charged particle beam lithography system and target positioning device |
| CN112872899A (zh) * | 2019-11-29 | 2021-06-01 | 发那科株式会社 | 支撑构造 |
| JP2021084205A (ja) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | ファナック株式会社 | 支持構造 |
| JP2021084204A (ja) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | ファナック株式会社 | 支持構造 |
| CN110961777A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-07 | 深圳市海目星激光智能装备股份有限公司 | 激光加工设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0652302B2 (ja) | 1994-07-06 |
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