JPS63137768A - 回転塗布方法及びその装置 - Google Patents
回転塗布方法及びその装置Info
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- JPS63137768A JPS63137768A JP61283592A JP28359286A JPS63137768A JP S63137768 A JPS63137768 A JP S63137768A JP 61283592 A JP61283592 A JP 61283592A JP 28359286 A JP28359286 A JP 28359286A JP S63137768 A JPS63137768 A JP S63137768A
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Links
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、カラーフィルター内蔵型液晶表示パネル、固
体撮r家素子等に装着すると好適なカラーフィルターの
製造方法及びその装置に係わり、更に詳細には、各種樹
脂液中に顔料等を分散した着色ワニスを基体上に均一に
塗工するための回転塗布方法及びその装置に関する。
体撮r家素子等に装着すると好適なカラーフィルターの
製造方法及びその装置に係わり、更に詳細には、各種樹
脂液中に顔料等を分散した着色ワニスを基体上に均一に
塗工するための回転塗布方法及びその装置に関する。
(従来技術)
液晶表示装置・VTR用小型カラーカメラ・カラーファ
クシミリ装置等に装着されるカラーフィルターは、従来
から幾つかの方式が提案されている。しかし、現在実用
化されている方式は、主として染料染色型カラーフィル
ターおよび多1脅模形成による干渉型カラーフィルター
である。前者は比較的容易に製造できるために、液晶表
示装置および撮1象装置の双方に巾広く用いむれている
が。
クシミリ装置等に装着されるカラーフィルターは、従来
から幾つかの方式が提案されている。しかし、現在実用
化されている方式は、主として染料染色型カラーフィル
ターおよび多1脅模形成による干渉型カラーフィルター
である。前者は比較的容易に製造できるために、液晶表
示装置および撮1象装置の双方に巾広く用いむれている
が。
耐熱性・耐光性・耐水性・耐薬品性で十分満足するもの
ではない。一方後者は酸化硅素、酸化チタン等の無機薄
膜を交互に多層形成して成るので極めて高い信頼性と抜
群の耐久性を備えている。しかし製造工程が長く、かつ
膜付を真空スパッタにより行なう為カラーフィルターの
サイズが大きくなるに従ってスパッタ装置に入れる量が
少なくなり、1処理当りの処理数が急速に低下するため
に液晶表示装置に用いるのはコスト的に不利であり。
ではない。一方後者は酸化硅素、酸化チタン等の無機薄
膜を交互に多層形成して成るので極めて高い信頼性と抜
群の耐久性を備えている。しかし製造工程が長く、かつ
膜付を真空スパッタにより行なう為カラーフィルターの
サイズが大きくなるに従ってスパッタ装置に入れる量が
少なくなり、1処理当りの処理数が急速に低下するため
に液晶表示装置に用いるのはコスト的に不利であり。
もっばら撮像用に使用されている。ちなみに固体撮1象
素子用カラーフィルターのチップ面積は大略1〜以下で
あるのに対し、仮に3インチ用液晶表示パネルの場合カ
ラーフィルターの面積は約30倍である。以上のように
二つのタイプのカラーフィルターはその特性が全く異っ
ており、近年カラーフィルターの高信頼性と低コスト化
が同時に要求されるようになっており、第3のタイプの
カラーフィルターが望まれていた。
素子用カラーフィルターのチップ面積は大略1〜以下で
あるのに対し、仮に3インチ用液晶表示パネルの場合カ
ラーフィルターの面積は約30倍である。以上のように
二つのタイプのカラーフィルターはその特性が全く異っ
ており、近年カラーフィルターの高信頼性と低コスト化
が同時に要求されるようになっており、第3のタイプの
カラーフィルターが望まれていた。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は染色型カラーフィルターの欠点を補い。
かつ大画面カラーフィルターに対しても適用できる比較
的安価な方式として、何楢液中洗有礪顔料を分散させた
着色ワニスを塗布・乾燥後、所望の形状にパターン化し
て、以降順次他の色相の塗膜を形成してカラーフィルタ
ーを製造する方法及びその装置に係わるものであって、
さらに具体的には、第1図、第2図、および第5図に示
す工程、即ち樹脂溶液(1)中に有機顔料(2)を分散
させた着色ワニス(3)をガラス基板(4)上に塗布・
乾燥後、所望の形状にパターン化しく第2図)、所望の
色調の有機顔料(頭及び同じくを酒を順次配置して(第
5図)カラーフィルターを製造する方法及びその装置に
係わる。ここで第2図に示すパターン化の手段として例
えば樹脂溶液(1)としてポリイミド前、・鋸体をもち
いる方式(特開昭6O−237403)、同じく感光性
114)IIをもちいる方式(特開昭60−電型カラー
フィルターに比較して耐熱・耐光・耐水・耐薬品のいず
れも優れている。ここで着色ワニス(3)はガラス基板
(4)上に0.6μないし3.0μ厚に有効部分の全面
にわたり均一に塗布する必要がアル。ガラス基板(4)
のワーキングサイズは撮1す用カラーフィルターを製造
する場合で3インチないし5インチの円形ガラスが用い
られ、また液晶用カラーフィルターでは12インチ角ま
で使用され今後増々犬型化していく。かかるサイズの基
板の全面にわたって、着色ワニスヤ均一に塗布する手段
として一般的に回転塗布方式が最も高い信頼性を得てい
る。
的安価な方式として、何楢液中洗有礪顔料を分散させた
着色ワニスを塗布・乾燥後、所望の形状にパターン化し
て、以降順次他の色相の塗膜を形成してカラーフィルタ
ーを製造する方法及びその装置に係わるものであって、
さらに具体的には、第1図、第2図、および第5図に示
す工程、即ち樹脂溶液(1)中に有機顔料(2)を分散
させた着色ワニス(3)をガラス基板(4)上に塗布・
乾燥後、所望の形状にパターン化しく第2図)、所望の
色調の有機顔料(頭及び同じくを酒を順次配置して(第
5図)カラーフィルターを製造する方法及びその装置に
係わる。ここで第2図に示すパターン化の手段として例
えば樹脂溶液(1)としてポリイミド前、・鋸体をもち
いる方式(特開昭6O−237403)、同じく感光性
114)IIをもちいる方式(特開昭60−電型カラー
フィルターに比較して耐熱・耐光・耐水・耐薬品のいず
れも優れている。ここで着色ワニス(3)はガラス基板
(4)上に0.6μないし3.0μ厚に有効部分の全面
にわたり均一に塗布する必要がアル。ガラス基板(4)
のワーキングサイズは撮1す用カラーフィルターを製造
する場合で3インチないし5インチの円形ガラスが用い
られ、また液晶用カラーフィルターでは12インチ角ま
で使用され今後増々犬型化していく。かかるサイズの基
板の全面にわたって、着色ワニスヤ均一に塗布する手段
として一般的に回転塗布方式が最も高い信頼性を得てい
る。
ここで着色ワニス(3)のレオロジーを調べてみると1
例えば第4図のような挙動を示す。即ち、流体にズリ応
力(Slを加えたとぎ、降伏1lItSoからズリ速度
nが観測され、ズリ応力(S)を増加していくと構造破
壊が進んでズリ速度(至)は急激に増大する。
例えば第4図のような挙動を示す。即ち、流体にズリ応
力(Slを加えたとぎ、降伏1lItSoからズリ速度
nが観測され、ズリ応力(S)を増加していくと構造破
壊が進んでズリ速度(至)は急激に増大する。
(粘度t’21が低下する)その後ズリ応力(S)を下
げていりてもズリ速度(Dlは急激には低下せず、新た
な降伏値S1が出現する。このS、は流体を放置してし
ばらくすると徐々にSOに近ずいていぎ初期状帳に回復
する、これは明らかに、塑性流体あるいはチキントロピ
ー性流坏としての非ニユートン性流動特性を示し1通常
の鋼鑵浴液1例えはホトレジスト等とは全く異っている
。勿論全ての着色ワニス(3)がかかる非ニュートン性
流坏の特性を示すのではなく液温、顔料の分散状岬、顔
料の大きさ。
げていりてもズリ速度(Dlは急激には低下せず、新た
な降伏値S1が出現する。このS、は流体を放置してし
ばらくすると徐々にSOに近ずいていぎ初期状帳に回復
する、これは明らかに、塑性流体あるいはチキントロピ
ー性流坏としての非ニユートン性流動特性を示し1通常
の鋼鑵浴液1例えはホトレジスト等とは全く異っている
。勿論全ての着色ワニス(3)がかかる非ニュートン性
流坏の特性を示すのではなく液温、顔料の分散状岬、顔
料の大きさ。
膜厚を薄くするのが好ましく1着色ワニス(3)中の有
機顔料12)の比率を高める事が望ましい。
機顔料12)の比率を高める事が望ましい。
しかし、有機顔料の含有比率を高めると1着色ワニス(
3)は流動性が低下し、チキントロピー法が顕在化し1
回転塗布性は著しく劣化する。かがるチキソトロピー性
をおびた着色ワニス(3)を通常の回転塗布装置をもち
いて通常の方法で回転塗布すると、第5図に示す様に基
板(3)の中心部即ち回転軸(5)上で膜厚が極端に厚
くなり、到底カラーフィルターとして使うことはできな
い。回転軸(5)の中心では1回軸に伴う外向の遠心力
は発生せず、第4図に示すSo 以下のズリ応力しか
作用しないので1着色ワニス(3)は外側に拡がること
ができない。
3)は流動性が低下し、チキントロピー法が顕在化し1
回転塗布性は著しく劣化する。かがるチキソトロピー性
をおびた着色ワニス(3)を通常の回転塗布装置をもち
いて通常の方法で回転塗布すると、第5図に示す様に基
板(3)の中心部即ち回転軸(5)上で膜厚が極端に厚
くなり、到底カラーフィルターとして使うことはできな
い。回転軸(5)の中心では1回軸に伴う外向の遠心力
は発生せず、第4図に示すSo 以下のズリ応力しか
作用しないので1着色ワニス(3)は外側に拡がること
ができない。
一方回転軸(5)からはずれた点では、遠心力が働いて
着色ワニス(3)が外側に回けて勧き出し、つれて同時
に粘度が急速に低下して増々外側に流動し易くなり、第
5図に示したように中心部の厚い塗膜になる。
着色ワニス(3)が外側に回けて勧き出し、つれて同時
に粘度が急速に低下して増々外側に流動し易くなり、第
5図に示したように中心部の厚い塗膜になる。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、側脂m液は)中に有機顔料(2)を分散させ
た着色ワニス(3)が、その流動特性として塑性流体な
いしチキソトロピー性流体である場合に1回転塗布する
際に、予め該着色ワニス(3)を基板(4)に滴下後に
基板(4)を水平方向に調速・停止を繰り返すことによ
り、該着色ワニスの粘度を下げた後。
た着色ワニス(3)が、その流動特性として塑性流体な
いしチキソトロピー性流体である場合に1回転塗布する
際に、予め該着色ワニス(3)を基板(4)に滴下後に
基板(4)を水平方向に調速・停止を繰り返すことによ
り、該着色ワニスの粘度を下げた後。
回転塗布する方法及びその装置を提供するものである。
基板(4)を水平方向に急速に加速することによって着
色ワニス(3)に大きなズリ応力を与えることができ、
それにともなって粘度が低下する。第4図からも明らか
なように一度構造破壊が生じると1回復するまでに時間
的なズレが生じるので。
色ワニス(3)に大きなズリ応力を与えることができ、
それにともなって粘度が低下する。第4図からも明らか
なように一度構造破壊が生じると1回復するまでに時間
的なズレが生じるので。
店仮(4)を水平方向に振動させた後に1回転塗布する
ことによって均一な膜厚を得る事ができる。尚基板(4
)を水平方向に振動させる場合の振巾として50・+a
以下、周期として20 KHz 以下であって。
ことによって均一な膜厚を得る事ができる。尚基板(4
)を水平方向に振動させる場合の振巾として50・+a
以下、周期として20 KHz 以下であって。
振動時間として60秒間以下でよい。
基板(4)を振動させる目的はあくまで着色ワニス(3
)に対しズリ応力を働かせることであるから、′侍に振
動させる場合の加速度が重要である。
)に対しズリ応力を働かせることであるから、′侍に振
動させる場合の加速度が重要である。
したがっである周期で振動させる場合でも時間Tと振動
の変位myの関係が第6図A、Bに示す二つの場合を想
定したとき、明らかに急速加速と急速停止の組合せによ
る撮動であるAが良好である。
の変位myの関係が第6図A、Bに示す二つの場合を想
定したとき、明らかに急速加速と急速停止の組合せによ
る撮動であるAが良好である。
振動終了後1回転塗布開始までの所焚時間は可能な限り
短時間、望ましくは10秒以内である。以にの方法によ
り着色ワニス(3)を塗布することにより1回転塗布装
置の中心部から外周部にかけて均一に塗布することがで
きた。
短時間、望ましくは10秒以内である。以にの方法によ
り着色ワニス(3)を塗布することにより1回転塗布装
置の中心部から外周部にかけて均一に塗布することがで
きた。
次に本発明になる回転塗布装置を第7図を参照しながら
説明すると、該回転塗布装置は基板供給機構図、塗液供
給機構(B)、基板振動機構(0,基板振動機構(D)
、基板収納機構(El及び基板搬送機構[F]から構成
される。ガラス基板(4)は基板ホルダー(6)に納め
られ必要に応じ押し出4 flf t8)で台(9)C
てセットされ1次いで搬送機構(Fにより基板振動機構
FC)部に供給される。次に塗液供給1幾構(B)から
着色ワニス(3)がフィルターa2を介してガラス基板
(4)に供給され、水平方向(y及びX方向)の任意の
方向で該ガラス基板(4)を振動する。
説明すると、該回転塗布装置は基板供給機構図、塗液供
給機構(B)、基板振動機構(0,基板振動機構(D)
、基板収納機構(El及び基板搬送機構[F]から構成
される。ガラス基板(4)は基板ホルダー(6)に納め
られ必要に応じ押し出4 flf t8)で台(9)C
てセットされ1次いで搬送機構(Fにより基板振動機構
FC)部に供給される。次に塗液供給1幾構(B)から
着色ワニス(3)がフィルターa2を介してガラス基板
(4)に供給され、水平方向(y及びX方向)の任意の
方向で該ガラス基板(4)を振動する。
次いで該ガラス基板(4)は搬送機構(′F1によりた
だちに基板振動機構0))部にセットされ、所定の条件
のもとに回転塗布される。次いで受は台α0にセットし
た後、押し機構0υによって基板収納機構(E)にセッ
トされた基板ホルダー(力に収納される。勿論第7図に
示した塗布装置は一具体例にすぎず1本発明の骨子であ
る振動機構及び振動機構が具備されていればよい。
だちに基板振動機構0))部にセットされ、所定の条件
のもとに回転塗布される。次いで受は台α0にセットし
た後、押し機構0υによって基板収納機構(E)にセッ
トされた基板ホルダー(力に収納される。勿論第7図に
示した塗布装置は一具体例にすぎず1本発明の骨子であ
る振動機構及び振動機構が具備されていればよい。
以下に実施例に基いて本発明を詳述する。
(実施例1)
東し株式会社製”セミコファイン5P−910“90.
1gに対し顔料及び分散剤をそれぞれ各90g、o、1
g添加して二本ロールで十分混練して赤・緑・青色ワニ
スを作った。以下に顔料及び分散剤を示す。
1gに対し顔料及び分散剤をそれぞれ各90g、o、1
g添加して二本ロールで十分混練して赤・緑・青色ワニ
スを作った。以下に顔料及び分散剤を示す。
(赤色フィルタ用)
■顔料
リオトゲンレッドGD(東洋インキ製造■製C,I 、
ピグメントレッド168 ) 6.75.9とりオノー
ゲノオレンジR(東洋インキ製造■gc、I。
ピグメントレッド168 ) 6.75.9とりオノー
ゲノオレンジR(東洋インキ製造■gc、I。
ピグメントオレンジ36 ) 2.259との混合物■
分散助剤 下記構造式の化合物 ■讐ワy−h!+)−y□YS(東洋イアヤニ造1掬製
C,1,ピグメントグリーン56)6.75gとりオノ
ーゲンエロ−6G(東洋インキ製造■候C,1,ピグメ
ントエロー154)2.25gぬの混合物 ■分散助剤 下記の銅フタロシアニン=導= CuPCeSO2N(CtJIyr )2 〕2(青色
フィルター用) ■顔料 リオノールブルーES(東洋インキ製@ (m RC,
I 、ピダメントブルー15 : 6 ) 7.2 /
とりオノーゲンバイオレットRL(東洋インキ製造・、
陶C,1,ピグメントバイオレット25 ) 1.8
gとの混合物 ■分散助剤 下記の銅フタロシアニン誘導俸 CuPCfSO2NH(CH,、)3NH−Q ]2次
に、 赤色ワニス10gに対しN−メチル−2ピロリド
ン(以下N M Pと記す)を2g添加して。
分散助剤 下記構造式の化合物 ■讐ワy−h!+)−y□YS(東洋イアヤニ造1掬製
C,1,ピグメントグリーン56)6.75gとりオノ
ーゲンエロ−6G(東洋インキ製造■候C,1,ピグメ
ントエロー154)2.25gぬの混合物 ■分散助剤 下記の銅フタロシアニン=導= CuPCeSO2N(CtJIyr )2 〕2(青色
フィルター用) ■顔料 リオノールブルーES(東洋インキ製@ (m RC,
I 、ピダメントブルー15 : 6 ) 7.2 /
とりオノーゲンバイオレットRL(東洋インキ製造・、
陶C,1,ピグメントバイオレット25 ) 1.8
gとの混合物 ■分散助剤 下記の銅フタロシアニン誘導俸 CuPCfSO2NH(CH,、)3NH−Q ]2次
に、 赤色ワニス10gに対しN−メチル−2ピロリド
ン(以下N M Pと記す)を2g添加して。
十分攪拌し100#X’10 QcLIRサイズで1.
1 +m厚ガラス基板上に滴下した。次に該ガラス基板
を周期2HzrFx巾30刷で第8図に示す変位スケジ
ュールで30秒間振動させ1次に直ちに、1250rp
111で60秒間回転塗布し、60℃15分間の乾燥後
130℃60分間プリベークして赤色皮膜を形成した。
1 +m厚ガラス基板上に滴下した。次に該ガラス基板
を周期2HzrFx巾30刷で第8図に示す変位スケジ
ュールで30秒間振動させ1次に直ちに、1250rp
111で60秒間回転塗布し、60℃15分間の乾燥後
130℃60分間プリベークして赤色皮膜を形成した。
ここでガラス基板の中心部と、中心より60澗はずれた
。ガラス基板の対角線上に於ける膜厚はそれぞれ1.5
μであった。次に該赤色皮膜上にポジ型ホトレジスト東
京応化ff ’ OFP R−11@25cpを200
OrpmでスピンナーコートL/、80’(:、30分
間のプリペーフ後超高圧水銀燈でパターン露光しノンメ
タル現1象液で現1象し、更に該ノンメタル現像液で”
OI”PR−fl’の現家部に露出している該赤色皮膜
をエツチング除去した。
。ガラス基板の対角線上に於ける膜厚はそれぞれ1.5
μであった。次に該赤色皮膜上にポジ型ホトレジスト東
京応化ff ’ OFP R−11@25cpを200
OrpmでスピンナーコートL/、80’(:、30分
間のプリペーフ後超高圧水銀燈でパターン露光しノンメ
タル現1象液で現1象し、更に該ノンメタル現像液で”
OI”PR−fl’の現家部に露出している該赤色皮膜
をエツチング除去した。
その後キシレン及び酢酸Nブチルの1対2混合浴液で’
0FPR−I[を剥模し、250°G30分間加熱焼成
して赤色フィルターを形成した。次に緑色ワニス10I
に対しNMPを4g添加し混合・攪拌して、該赤色フィ
ルター上に1500 rpm60秒間回転塗布し、以下
赤色ワニスの場合と同様な処理をして、赤色フィルター
に接して緑色フィルターを形成した。
0FPR−I[を剥模し、250°G30分間加熱焼成
して赤色フィルターを形成した。次に緑色ワニス10I
に対しNMPを4g添加し混合・攪拌して、該赤色フィ
ルター上に1500 rpm60秒間回転塗布し、以下
赤色ワニスの場合と同様な処理をして、赤色フィルター
に接して緑色フィルターを形成した。
次疋、青色ワニス10gに対しN ”、I P 2.5
gを添加し混合攪拌後上記赤色及び緑色フィルター上
に150 Orpm60秒間回転塗布した。以降赤色ワ
ニスと同様に処理して、青色フィルターを形成した。以
上の全工程後了後250’Cで60分間更に600°C
,30分間の加熱焼成してカラーフィルターを製造した
。
gを添加し混合攪拌後上記赤色及び緑色フィルター上
に150 Orpm60秒間回転塗布した。以降赤色ワ
ニスと同様に処理して、青色フィルターを形成した。以
上の全工程後了後250’Cで60分間更に600°C
,30分間の加熱焼成してカラーフィルターを製造した
。
(比較例)
実施例1にもちいた赤色ワニスを100TrrrRX1
00調サイズで1.1酎厚ガラス基板上に滴下し、赤色
ワニスが十分に基板上に広がるのを待って。
00調サイズで1.1酎厚ガラス基板上に滴下し、赤色
ワニスが十分に基板上に広がるのを待って。
125Orpm で60秒間回転塗布し%60”Q15
分間の乾燥後130°C60分間プリベークして赤色皮
膜を形成した。ここでガラス基板の中心部と。
分間の乾燥後130°C60分間プリベークして赤色皮
膜を形成した。ここでガラス基板の中心部と。
中心部より60−はずれたガラス基板の対角線上に於け
る膜厚を計測した。この結果中心部で6μないし10μ
、中心より30 ttanはずれた点で1.8μであっ
た。中心部で膜厚が犬なる領域は火陥直径5 +111
1の範囲内であった。
る膜厚を計測した。この結果中心部で6μないし10μ
、中心より30 ttanはずれた点で1.8μであっ
た。中心部で膜厚が犬なる領域は火陥直径5 +111
1の範囲内であった。
(実施例2)
実施例1にもちいた赤色ワニスを1ooxxI D D
wRX 1. i w厚ガラス基板に滴下し、1辰巾
611E+11振動敢50)Izの磁気振動板をもちい
て該ガラス基板の対角部を水平方向に1分間振動させた
後。
wRX 1. i w厚ガラス基板に滴下し、1辰巾
611E+11振動敢50)Izの磁気振動板をもちい
て該ガラス基板の対角部を水平方向に1分間振動させた
後。
1250 rpmで60秒間回転塗布し、60°015
分間の乾燥後130℃60分間プリベークして赤色皮膜
を形成した。ここでガラス基板の中心部ト中心より50
11011外側でガラス基板の対角、線上に於ける点で
の膜厚はそれぞれ1.5μであり、明らかに撮動の効果
がみられた。
分間の乾燥後130℃60分間プリベークして赤色皮膜
を形成した。ここでガラス基板の中心部ト中心より50
11011外側でガラス基板の対角、線上に於ける点で
の膜厚はそれぞれ1.5μであり、明らかに撮動の効果
がみられた。
(実施flJ3)
実施例1,2と全く同じ材料及びプロセスによって赤色
ワニスをガラス上に滴下した。その後接ガラス基板の端
部を超音波ホーン部で2分間振動させた。このときガラ
ス基板の端部と該超音波ホーンの間に0.54厚のテフ
ロンシートを挾んだ。
ワニスをガラス上に滴下した。その後接ガラス基板の端
部を超音波ホーン部で2分間振動させた。このときガラ
ス基板の端部と該超音波ホーンの間に0.54厚のテフ
ロンシートを挾んだ。
撮動終了後ただちに125 Orpmで60秒間回伝塗
布し、60°CI5分間の乾ノ栗後160°060分間
ブリベーフして赤色皮膜を形成した。ここで実施列1.
2と同様に二つの点廻於げる膜厚を測定した結果、それ
ぞれ1.5μであった。
布し、60°CI5分間の乾ノ栗後160°060分間
ブリベーフして赤色皮膜を形成した。ここで実施列1.
2と同様に二つの点廻於げる膜厚を測定した結果、それ
ぞれ1.5μであった。
以上いずれも膜厚測定には触針型j摸厚計を便用した。
(発明の効果)
本発明の回転壁布方法及びその装置は1回転塗布の困難
な塑性流体ないしチキン)oピー性流体に対して高品位
な塗膜形成が可能になった。特にm脂中に有機顔料を分
散した着色ワニスを用いてint久性の秀れたカラーフ
ィルターを製造する技術的困難さを、解決した。本発明
は、他の塗工分野でも十分応用できるものである。
な塑性流体ないしチキン)oピー性流体に対して高品位
な塗膜形成が可能になった。特にm脂中に有機顔料を分
散した着色ワニスを用いてint久性の秀れたカラーフ
ィルターを製造する技術的困難さを、解決した。本発明
は、他の塗工分野でも十分応用できるものである。
第1図〜第6図【よ、カラーフィルターの製造プロセス
を示す説明図、第4図(よ、着色ワニスの流動特注図、
第51寿、従来方式の回転塗布方法を示す説明図、第6
図1本発明になる最動を与えるときの状態ヲ示す図、第
7図tよ本発明になる回転塗布装置の一例を示す政念図
、第8図Iよ実症例にもちいられた振動の様子を示す図
1ゴ\言0 (1)・・・」脂浴液 ・、2)・・・有櫃顔料
(3)・・・着色ワニス (4)・・・基板、6)
(力・・・基板ホルダー (5)・・・回転軸(8)旧
]・・・−表板押し出し1幾構 (9)QO)・・・台
■・・・基板供給機構 fB+・・・塗夜共給機構(0
・・・振動1幾構 (D・・基板振動機構(E)・
・・基板収録機構 (D・・・基板基搬磯構特許出、
願人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴 木 相 夫 第1図 第・1図 第5図 第8回
を示す説明図、第4図(よ、着色ワニスの流動特注図、
第51寿、従来方式の回転塗布方法を示す説明図、第6
図1本発明になる最動を与えるときの状態ヲ示す図、第
7図tよ本発明になる回転塗布装置の一例を示す政念図
、第8図Iよ実症例にもちいられた振動の様子を示す図
1ゴ\言0 (1)・・・」脂浴液 ・、2)・・・有櫃顔料
(3)・・・着色ワニス (4)・・・基板、6)
(力・・・基板ホルダー (5)・・・回転軸(8)旧
]・・・−表板押し出し1幾構 (9)QO)・・・台
■・・・基板供給機構 fB+・・・塗夜共給機構(0
・・・振動1幾構 (D・・基板振動機構(E)・
・・基板収録機構 (D・・・基板基搬磯構特許出、
願人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴 木 相 夫 第1図 第・1図 第5図 第8回
Claims (3)
- (1)樹脂溶液中に顔料を分散した着色ワニスを基板上
に供給後、該基板を回転して塗膜を形成する工程におい
て、該基板を回転する直前に、該基板を水平方向に振動
させることを特徴とする回転塗布方法。 - (2)基板を振動させる振巾として、最大50mmの範
囲にあって、振動の周期が1Hzから20KHzである
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の回転塗布
方法。 - (3)樹脂溶液中に顔料を分散した着色ワニスを基板上
に滴下後、該基板を回転して塗工する装置が、塗液供給
機構、基板振動機構、および基板回転機構を具備してい
ることを特徴とする回転塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61283592A JPS63137768A (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 回転塗布方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61283592A JPS63137768A (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 回転塗布方法及びその装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63137768A true JPS63137768A (ja) | 1988-06-09 |
Family
ID=17667501
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61283592A Pending JPS63137768A (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 回転塗布方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63137768A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0330874A (ja) * | 1988-11-08 | 1991-02-08 | Nokia Unterhaltung Electron Deutsche Gmbh | 平面デイスプレー用ベースプレートの薄層塗布方法および装置 |
US6270576B1 (en) * | 1998-08-05 | 2001-08-07 | Tokyo Electron Limited | Coating and developing apparatus |
JP2003026127A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-01-29 | Fuji Seal Inc | シュリンクフィルムの切取り線 |
KR20160083414A (ko) * | 2014-12-31 | 2016-07-12 | 세메스 주식회사 | 액처리 모듈, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 방법 |
-
1986
- 1986-11-28 JP JP61283592A patent/JPS63137768A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0330874A (ja) * | 1988-11-08 | 1991-02-08 | Nokia Unterhaltung Electron Deutsche Gmbh | 平面デイスプレー用ベースプレートの薄層塗布方法および装置 |
US6270576B1 (en) * | 1998-08-05 | 2001-08-07 | Tokyo Electron Limited | Coating and developing apparatus |
US6444409B2 (en) | 1998-08-05 | 2002-09-03 | Tokyo Electron Limited | Coating and developing method |
JP2003026127A (ja) * | 2001-07-19 | 2003-01-29 | Fuji Seal Inc | シュリンクフィルムの切取り線 |
KR20160083414A (ko) * | 2014-12-31 | 2016-07-12 | 세메스 주식회사 | 액처리 모듈, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 방법 |
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