JPS63131529A - 発光ダイオードの封止方法及び発光ダイオード - Google Patents
発光ダイオードの封止方法及び発光ダイオードInfo
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- JPS63131529A JPS63131529A JP61276789A JP27678986A JPS63131529A JP S63131529 A JPS63131529 A JP S63131529A JP 61276789 A JP61276789 A JP 61276789A JP 27678986 A JP27678986 A JP 27678986A JP S63131529 A JPS63131529 A JP S63131529A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/52—Encapsulations
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はインサート射出成形法によって発光ダイオード
を製造するには、従来封止型に対象となる未封止の発光
ダイオードを入れ、エポキシ樹脂やアクリル樹脂を注入
して、加熱硬化または紫外線硬化により樹脂を硬化させ
て製作していた。しかし、この方法は硬化に長時間かか
るうえ、封止型が必要となって経済的にも劣る。
を製造するには、従来封止型に対象となる未封止の発光
ダイオードを入れ、エポキシ樹脂やアクリル樹脂を注入
して、加熱硬化または紫外線硬化により樹脂を硬化させ
て製作していた。しかし、この方法は硬化に長時間かか
るうえ、封止型が必要となって経済的にも劣る。
そこで製造工程の簡略化、ライン時間の短縮化、コスト
ダウンをねらって種々の方法が検討されており、その中
の一手段として射出成形によって発光ダイオードを封止
する技術がある。
ダウンをねらって種々の方法が検討されており、その中
の一手段として射出成形によって発光ダイオードを封止
する技術がある。
しかし、発光ダイオードの半導体チップ部には極めて細
いリード線が設けられており、通常の射出成形法では流
動してきた樹脂圧力によってリード線が切断されたり、
半導体チップが破損したりするという問題がある。そこ
で、たとえば特開昭54−48186号公報には、半導
体チップ部を予め樹脂でディップし硬化させることによ
り、リード線と半導体チップを保護し、その後インサー
ト射出成形によって必要箇所を封止する発光ダイオード
の封止方法が開示されている。しかし、この方法もディ
ップ、硬化工程と射出成形工程という繁雑な工程が必要
となり合理的ではない。
いリード線が設けられており、通常の射出成形法では流
動してきた樹脂圧力によってリード線が切断されたり、
半導体チップが破損したりするという問題がある。そこ
で、たとえば特開昭54−48186号公報には、半導
体チップ部を予め樹脂でディップし硬化させることによ
り、リード線と半導体チップを保護し、その後インサー
ト射出成形によって必要箇所を封止する発光ダイオード
の封止方法が開示されている。しかし、この方法もディ
ップ、硬化工程と射出成形工程という繁雑な工程が必要
となり合理的ではない。
本発明の目的は、特別な前処理の必要なくインサート射
出成形法によって一辺に発光ダイオードを封止する方法
を提供することにある。本発明の他の目的は、半導体チ
ップを破損したり、リード線を断線したりすることなく
インサート射出成形法によって発光ダイオードを封止す
る方法を提供することにある。本発明のさらに他の目的
は、電気特性、耐湿性に優れ、半導体チップを悪環境か
ら守り、いかなる条件下でも優れた特性を発揮させるこ
とのできる発光ダイオードを提供することにある。
出成形法によって一辺に発光ダイオードを封止する方法
を提供することにある。本発明の他の目的は、半導体チ
ップを破損したり、リード線を断線したりすることなく
インサート射出成形法によって発光ダイオードを封止す
る方法を提供することにある。本発明のさらに他の目的
は、電気特性、耐湿性に優れ、半導体チップを悪環境か
ら守り、いかなる条件下でも優れた特性を発揮させるこ
とのできる発光ダイオードを提供することにある。
〔問題点を解決するための手段および作用〕すなわち本
発明は260℃、5 kgの荷重下でのメルトフローレ
ートが50g/10min以上のポリ4−メチル−1−
ペンテンを用いてインサート射出成形法によって封止す
ることを特徴とする発光ダイオードの封止方法に関する
。
発明は260℃、5 kgの荷重下でのメルトフローレ
ートが50g/10min以上のポリ4−メチル−1−
ペンテンを用いてインサート射出成形法によって封止す
ることを特徴とする発光ダイオードの封止方法に関する
。
本発明に用いるポリ4−メチル−1−ペンテンとは4−
メチル−1−ペンテンの単独重合体もしくは4−メチル
−1−ペンテンと他のα−オレフィン、例えばエチレン
、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテ
ン、1−デセン、1−テトラデセン、■−オクタデセン
等の炭素数2ないし20のα−オレフィンとの共重合体
で通常4−メチル−1−ペンテンを85モル%以上含む
4−メチル−1−ペンテンを主体とした重合体である。
メチル−1−ペンテンの単独重合体もしくは4−メチル
−1−ペンテンと他のα−オレフィン、例えばエチレン
、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテ
ン、1−デセン、1−テトラデセン、■−オクタデセン
等の炭素数2ないし20のα−オレフィンとの共重合体
で通常4−メチル−1−ペンテンを85モル%以上含む
4−メチル−1−ペンテンを主体とした重合体である。
ポリ4−メチル−1−ペンテンのメルトフローレート(
荷重:5kg、温度:260℃)は50 g / 10
min以上、好ましくは60g/10min以上であり
、上限はとくに制限がないものの、封止部分の機械的強
度の面から200 g / Iomi nが一つの目途
となる。50 g / 10min未満のポリ4−メチ
ル−1−ペンテンでは、射出成形による発光ダイオード
の封止材として用いても半導体チップの破損やリード線
の破線を招き易く、本発明の用途においては使用できな
い。また、ポリ4−メチル−1−ペンテンは単独重合体
よりも共重合体のほうが透明性や半導体チップやリード
線との接着性の面で有利な場合がある。
荷重:5kg、温度:260℃)は50 g / 10
min以上、好ましくは60g/10min以上であり
、上限はとくに制限がないものの、封止部分の機械的強
度の面から200 g / Iomi nが一つの目途
となる。50 g / 10min未満のポリ4−メチ
ル−1−ペンテンでは、射出成形による発光ダイオード
の封止材として用いても半導体チップの破損やリード線
の破線を招き易く、本発明の用途においては使用できな
い。また、ポリ4−メチル−1−ペンテンは単独重合体
よりも共重合体のほうが透明性や半導体チップやリード
線との接着性の面で有利な場合がある。
なお、本発明におけるメルトフローレートの規定)よ、
あくまでも発光ダイオードを封止する時点でのポリ4−
メチル−1−ペンテンのメルトフローレートである。よ
って射出成形機のホッパーに仕込まれる時点でのポリ4
−メチル−1−ペンテンのメルトフローレートが50g
/10min未満であっても、成形機内の熱で減成され
て、封止する時点で結果的に50g/10min以上に
なっておれば本発明の範囲内に包含される。
あくまでも発光ダイオードを封止する時点でのポリ4−
メチル−1−ペンテンのメルトフローレートである。よ
って射出成形機のホッパーに仕込まれる時点でのポリ4
−メチル−1−ペンテンのメルトフローレートが50g
/10min未満であっても、成形機内の熱で減成され
て、封止する時点で結果的に50g/10min以上に
なっておれば本発明の範囲内に包含される。
本発明の発光ダイオードを製造するには、半導体チップ
がボンディングされたリードフレームを金型内にインサ
ートし、前記封止材で半導体チップ周囲を封止すること
によって得られる。したがって、従来のディップ、硬化
方法に比べ生産性が優れると共に、ディップ方法では必
要であった封止型の必要もない。しかもポリ4−メチル
−1−ペンテンは電気絶縁性が良好で、耐水性、耐湿性
もよく、さらに耐薬品性にも優れ、勿論耐熱性や透明性
にも優れるので、高温下あるいは加湿下で使用されても
発光ダイオードの性能を充分に発揮させることができる
。
がボンディングされたリードフレームを金型内にインサ
ートし、前記封止材で半導体チップ周囲を封止すること
によって得られる。したがって、従来のディップ、硬化
方法に比べ生産性が優れると共に、ディップ方法では必
要であった封止型の必要もない。しかもポリ4−メチル
−1−ペンテンは電気絶縁性が良好で、耐水性、耐湿性
もよく、さらに耐薬品性にも優れ、勿論耐熱性や透明性
にも優れるので、高温下あるいは加湿下で使用されても
発光ダイオードの性能を充分に発揮させることができる
。
実施例1
メルトフローレート70 g / 10min 、デセ
ン含量3.0帆%の4−メチル−1−ペンテン・1−デ
セン共重合体を用いて、発光ダイオードのリードフレー
ムにボンディングされている半導体チップ部をインサー
ト射出成形法によって封止した。使用した射出成形機は
名機製作所鋳、M−100を使用し、射出成形条件は、
樹脂温度320℃、射出圧力35g/Ca・G、射出速
度30%、金型温度60℃〜80℃であった。得られた
封止発光ダイオードは、半導体チップ部およびリード線
とも破損されておらず、また高温、加湿条件下でも半導
体回路部の腐蝕や短絡が生せず長時間に亘り良好な特性
を発揮した。
ン含量3.0帆%の4−メチル−1−ペンテン・1−デ
セン共重合体を用いて、発光ダイオードのリードフレー
ムにボンディングされている半導体チップ部をインサー
ト射出成形法によって封止した。使用した射出成形機は
名機製作所鋳、M−100を使用し、射出成形条件は、
樹脂温度320℃、射出圧力35g/Ca・G、射出速
度30%、金型温度60℃〜80℃であった。得られた
封止発光ダイオードは、半導体チップ部およびリード線
とも破損されておらず、また高温、加湿条件下でも半導
体回路部の腐蝕や短絡が生せず長時間に亘り良好な特性
を発揮した。
比較例1
メルトフローレート26g/10minの4−メチル−
1−ペンテン・1−デセン共重合体を使用する以外は実
施例1と同様に行った。得られた封止発光ダイオードは
リード線が断線しており発光グイオードとしての機能は
発揮できなかった。
1−ペンテン・1−デセン共重合体を使用する以外は実
施例1と同様に行った。得られた封止発光ダイオードは
リード線が断線しており発光グイオードとしての機能は
発揮できなかった。
比較例2
メルトフローレート8g/10minの4−メチル−1
−ペンテン・1−デセン共重合体を使用する以外は実施
例1と同様に行った。結果は比較例1と同じであった。
−ペンテン・1−デセン共重合体を使用する以外は実施
例1と同様に行った。結果は比較例1と同じであった。
比較例3
メルトフローレート70 g / 10minのポリエ
チレンを使用する以外は実施例1と同様に行った。
チレンを使用する以外は実施例1と同様に行った。
得られた発光ダイオードは封止部が不透明で発光ダイオ
ードとしての機能は発揮できなかった。
ードとしての機能は発揮できなかった。
実施例2
メルトフローレート80g/10minの4−メチル−
1−ペンテンホモ重合体を射出成形機内で減成すること
によりインサート金型内に供給される時点でのメルトフ
ローレートを200 g / 10minとしたほかは
実施例1と同様に行った。結果は実施例1と同じであり
、良好な発光ダイオードが得られた。
1−ペンテンホモ重合体を射出成形機内で減成すること
によりインサート金型内に供給される時点でのメルトフ
ローレートを200 g / 10minとしたほかは
実施例1と同様に行った。結果は実施例1と同じであり
、良好な発光ダイオードが得られた。
出願人 三井石油化学工業株式会社
代理人 山 口 和
手続補正書
昭和62年/1月l?日
Claims (1)
- 260℃、5kgの荷重下でのメルトフローレートが5
0g/10min以上のポリ4−メチル−1−ペンテン
を用いてインサート射出成形法によつて封止することを
特徴とする発光ダイオードの封止方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61276789A JPH077850B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 発光ダイオードの封止方法及び発光ダイオード |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61276789A JPH077850B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 発光ダイオードの封止方法及び発光ダイオード |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63131529A true JPS63131529A (ja) | 1988-06-03 |
JPH077850B2 JPH077850B2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=17574394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61276789A Expired - Lifetime JPH077850B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 発光ダイオードの封止方法及び発光ダイオード |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH077850B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008139546A1 (ja) | 2007-05-01 | 2008-11-20 | Fujitsu Limited | 電子機器 |
JP2010195848A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Inoac Corp | 樹脂組成物 |
-
1986
- 1986-11-21 JP JP61276789A patent/JPH077850B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008139546A1 (ja) | 2007-05-01 | 2008-11-20 | Fujitsu Limited | 電子機器 |
US7924575B2 (en) | 2007-05-01 | 2011-04-12 | Fujitsu Limited | Electronic apparatus |
JP2010195848A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Inoac Corp | 樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH077850B2 (ja) | 1995-01-30 |
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