JPS63131137A - ポジ型フオトレジスト組成物の改良現像方法および現像液 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔童業上の利用分野〕 本発明は、水溶性現像液ならびにポジ型フォトレジスト
組成物の改良された現像方法に関する。

〔従来の技術〕

フォトレジストのようなポジ型感光性組成物と共に用い
るための数多くの水溶性現像液が知られている。例えば
、米国特許第４．４２３．１３８号に記載された水溶性
現像液は水酸化テトラエチルアンモニウムを含んでいる
。水酸化テトラメチルアンモニウム（英国特許第１３６
７、８３０号参照）または水酸化メチルトリエタノール
アンモニウム（米国特許第４．１４１７３３号参照）を
現像剤として用いることも公知である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

水酸化第四級アンモニウム化合物を含む水溶性現像液は
広く用いられているが、それらは、ノボラック型［封脂
と感光剤とを含むある種のポジ型フォトレジストの現像
に用いられるときに問題があり得る。かかる用途に於て
は、露光フォトレジストの残留物がフォトレジストの未
露光部分の縁部と基板との界面に於て基板上に残ること
が見出されている。この問題は、シリコンの単位面積当
たりのデバイス素子の数を増加させようと集積回路デバ
イスメーカーが懸命に努力し続けるとき、残留物が所望
の像パターンの正確な複製を妨害する傾向があるので、
より深刻になって来た。

本発明は上記の問題点を解決するための、画像露光層の
新規な現像方法を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、ノボラック型樹脂と感光剤とからなるポジ型
感光性組成物の画像露光層を、水酸化第四級アンモニウ
ム現像剤を含む水溶性アルカリ現像液と接触させること
からなる画像露光層の現像方法に於て、該現像液中に、 下記の一般式で表わされる添加剤化合物を含有させるこ
とを特徴とする方法を提供するものである。

式中Ｒ１、Ｒ２は、Ｈ、Ｒ、Ｃ０ＯＨ，ＣＨＯ、ＯＲ。

ＣＯＲ、Ｃ０Ａｒ又はＣＨ２Ａｒを表わし、Ｒ１とＲ２
は同一でも異なっていてもよく、またＲＩとＲ２が芳香
族環、置換芳香族環、ヘテロ環又は置換へテロ環を形成
してもよく、Ｒは低級アルキル基を示し、ｎは１〜３の
整数である。

また本発明は、水酸化第四級アンモニウム現像剤を含む
水溶性アルカリ現像液であって、下記の一般式で表わさ
れる添加剤化合物をも含むことを特徴とする現像液であ
る。

式中Ｒ１、Ｒ２は、Ｈ、Ｒ、Ｃｏｏｌ（、ＣＨＯ、ＯＲ
。

ＣＯＲ、Ｃ０Ａｒ又はＣＨ２Ａｒを表わし、Ｒ，とＲ２
は同一でも異なっていてもよく、またＲ１とＲ２が芳香
族環、置換芳香族環、ヘテロ環又は置換へテロ環を形成
してもよく、Ｒは低級アルキル基を示し、ｎは１〜３の
整数である。

■、ポジ型型光光性組成 物発明においては、ノボラック型樹脂と感光剤との相溶
性溶媒中の溶液を含む任意の適当なポジ型フォトレジス
ト組成物を用いるこ止ができる。

本発明に於て用いられるフォトレジスト組成物の固体含
量は広い範囲で変化させることができるが、好ましくは
約１０−約５５重量％、より好ましくは約１３−約４５
重量％である。

（ノボラック型樹脂） 本発明の実施に於て用いられるフォトレジスト組成物中
には圧意の適当なノボラック型樹脂を用いることができ
る。好ましくは、ノボラック型樹脂（まクレゾール−ホ
ルムアルデヒドノボラック樹脂またはフェノール−ホル
ムアルデヒドノボラック樹脂である。タレゾール−ホル
ムアルデヒドノボラック樹脂が特に好ましく、米国特許
第４、３７７、６３１号に記載されているようにして製
造される。本発明に有用なノボラック型樹脂は、下記構
造式 （上記構造式中、Ｒ２およびＲ３は、独立に１価のＣ，
−Ｃ，アルキルであり、好ましくはＲ２およびＲ３はメ
チルである） で示されるノボラック型樹脂である。

ノボラック型樹脂は、フォトレジスト組成物中に、フォ
トレジスト組成物の全重量基準で好ましくは約８−約４
４重量％、より好ましくは約１０−約３５重量％の範囲
の量で存在する。

（感光剤） 感光剤はアルカリ性水溶液に不溶でありかつスペクトル
の近紫外領域に於ける放射線に対して感受性であって、
かかる放射線で露光されるとき、アルカリ性水溶液中に
可溶な分解生成物を与えるジアゾケトンである。本発明
の実施に有用なジアゾケトン化合物には （上記式中、 Ｑは−Ｅ−（ＣＨ２）　２−０−ｔりまたは−Ｅ−Ｃｂ
Ｘ　’　ｃ２ｂ−＋）であり、Ｗは−ＣＨ３または−Ｃ
２Ｈ，または−（ＣＨ２）　２−〇−Ｃ１（３または−
（ＣＨ２）２　０　　Ｃ２Ｈ５てあり、 各Ｘ′は、独立に−Ｈまたは−Ｆまたは−Ｂ「または−
〇ｆ！または一■であり、好ましくは各Ｘ′は−Ｈまた
は同じハロゲンイオンてあり、ａは１または２であり、 ｂは２または３または４または５または６または７また
は８または９であり、 Ｔは、ａが２であるときには−（Ｃ○）−または−〇−
または−ＣＨ２−または−Ｃ（ＣＨ３）２−または−３
Ｏ２−または−８−または−〇−２−○であり、かつａ
が１であるときはＨであり、Ｚは−（ＣＨ２）２−また
は 一］○）−または−〇−または−ＣＨ２−または−Ｃ（
ＣＨ３）２−または−Ｓ○２−または−Ｓ−であり、各
Ｒｓ　、Ｒ９、Ｒｈｏは、独立に−Ｈまたは−○Ｈまた
は−ＮＨ２またはであり、 但し、少なくとも１つのＲ８またはＲ９またはＲｈｏが であること、およびＴが−○−Ｚ−〇−であるときには
各Ｒ１゜はＨであること、およびａカ＜１であるときに
はＲｈｏは１価のＣ，−ｃ９アルキルまたは一〇（ＣＨ
３）３または−Ｈまた：ま−０）（または−ＮＨ２また
は 好ましくは１価のＣ，−Ｃ９アルキル ましくはーＣ　（　Ｃ　）（３）　３であることを条（
牛とし、各Ｅは、独立に一〇−または一Ｎ１（−、女子
ましくは−〇−であり、Ｚカ（ Ｅは好ましくは−ＮＨ−であり、女子ましく（ま、ａが
２のときにｉｉＲ，、Ｒｇ、Ｒ，Ｏ置４灸基の４個まで
が およびそれらの混合物かろプニる君苓力１ろ選：よれる
化合物が含まれる。

ジアゾケトンは、フォトレジスト組成１勿中：こ、フォ
トレジスト組成物の全重量基準で、典型的（こは約２−
約１２重量％の範囲、女子ましく（ま約３−約１０重量
％の範囲の量で存在する。

（溶媒） 本発明のフォトレジスト組成物は、ノボラック型樹脂と
感光剤とを、成分のすべてが易溶性である溶媒に添加す
ることによって製造される。添加の順序；ま重要ではな
い。溶媒は、好ましくは脂肪族ケトン、脂肪族エステル
、アルキレングリコールモノアルキルエーテノベジアル
キレングリコールモ／アルキルエーテノベアルキレング
リコールジアルキルエーテル、およびそれるの混合物か
らなる群から選ばれる。特に好ましい脂肪族エステルの
クラスは脂肪族アルキレングリコールアルキルエチルエ
ステルである。より好ましくは、溶媒はシクロヘキサノ
ン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブア
セテート、酢酸プチノベキシレンおよびそれらの混合物
からなる群から選ばれる。特に好ましい溶媒はエチルセ
ロソルブアセテートと酢酸ブチルとキシレンとの混合物
である。溶媒の選択は、用いられる特別なノボラック型
樹脂およびジアゾケトンに依存する。

ノボラック型樹脂とジアゾケトンとを溶媒へ添加した後
、混合物をすべての固体が溶解するまで攪拌する。得ら
れたフォトレジスト溶液を、窒素または池の不活性な無
酸素π囲気中、約２．１０９ｋｇ　／　ｃイ（３０ｐｓ
ｉ）の圧力下で、好ましくはミリボア（Ｍｉｌｌｉｐｏ
ｒｅ　）ミクロ濾過装置を用いてミクロ濾過するっ （その池の成分） この溶液へ、濾過する前に、染料、ストライエーション
防止剤、可塑剤、接着促進剤、増感剤、非イオン界面活
性剤のような添加剤を添加することができる。

本発明によって用いられるフォトレジスト組成物に有用
な染料添加剤には、フォトレジスト組成物の全重量基準
で約０．１−約３重量％レベルに於けるメチ／Ｌ／／＜
イオレット２　Ｂ　（Ｃ，Ｉ、Ｎｏ、４２５３５　）、
クリスタルバイオレット（Ｃ，［、Ｎｏ、４２５５５　
）、マラカイトグリー：／　（Ｃ，Ｉ、Ｎｏ、４２００
０　）　、ビクトリアブルーＢ（Ｃ８１，ＮＯ，４４０
４５）　、ニュートラルレッド（Ｃ１Ｉ、　　Ｎｏ、５
００４０　）が含まれる。染料添加剤）ま、基板からの
光のバックスキャツタ−リングを防止することによって
解像度を上げることを助ける。

ストライエーション防止剤は、フォトレジスト組成物の
全重量基準で約５重量％レベルまで使用することができ
る。

使用することができる可塑剤には、ノボラック型樹脂の
全重量基準で約１−約５重量％レベルに於ける、例えば
燐酸トリー（β−クロロエチル）エステル、ステアリン
酸、ジカンファー、アセタール樹脂、フェノキシ樹脂、
アルキド樹脂が含まれる。可塑剤は物質のコーティング
特性を改良しかつなめらかで一様な厚さの膜を基板へ適
用することを可能にする。

使用することができ接着促進剤には、フォトレジスト組
成物の全重量基準で約５重量％レベルまでのβ−（３，
４−エポキシ−シクロヘキシル）−エチルトリメトキシ
シラン、ｐ−メチル−ジシラン−メタクリル酸メチノベ
ビニルトリクロロシラン、アミノ−プロピルトリエトキ
シンランが含まれる。

使用することができる増感剤には、フォトレジスト組成
物中の全固体重量基準で約５重量％までのレベルに於け
る、例えばピクリン酸、ニコチン酸またはニトロ桂皮酸
が含まれる。これら増感剤は露光領域と未露光領域の両
方の領域内のフォトレジストコーティングの溶解度を増
加させる傾向があり、かくしである程度のコントラスト
が犠牲になるかも知れないとしても現像速度が最重要だ
と考えられる用途に用いられる。かくして、フォトレジ
ストコーティングの露光領域は現像液によってより速や
かに溶解されるが、増感剤は未露光領域のフォトレジス
トコーティングのより大きな損失をも生ずる。

使用することができる非イオン界面活性剤には、フォト
レジスト組成物の全重量基準で約０．５重量％レベルま
でに於ける、例えばノニルフェノキシポリ（エチレンオ
キシ）エタノール、オクチルフニノキシ（エチレンオキ
シ）エタノール、ジノニルフェノキシポリ（エチレンオ
キシ）エタノールが含まれる。

濾過されたフォトレジスト組成物は、浸漬、スプレー、
フォワラー、スピン塗布を含む、当業者に公知の任意の
通常の方法で適当な基板または支持体へ適用することが
できる。フォトレジスト組成物の製造、その基板または
支持体上への被覆および被覆された組成物の露光の説明
のための例は米国特許第４．３７７、６３１号中に記載
されているっ■、水溶性アルカリ現像液 露光済みのフォトレジスト被覆基板を、次に本発明の水
溶性アルカリ現像液と接触させる。この接触方法は、好
ましくは、該被覆基板を、例えばテフロンタンク内の現
像液中に、画像露光領域から塗膜の全部が溶解してしま
うまで浸漬することによって行われる。現１象液は、好
ましくは、例えば窒素バブリングによって攪拌される。

（水酸化第四級アンモニウム現像剤） 上述したように、本発明の実施に於て用いられる水溶性
アルカリ現像液は水酸化第四級アンモニウム現像剤を含
む。安定な水酸化第四級アンモニウム化合物には、下記
構造式 ％式％ （上記構造式中、Ｒ＋　、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、独立に
Ｃ，−ｃ４アルキルまたはＣ＋　　　Ｃ４ヒドロキシア
ルキルである） で示される化合物が含まれる。水酸化第四級アンモニウ
ムの１つの好ましい群には水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、水酸化トリメチルエタノールアンモニウム、水酸
化メチルトリエタノールアンモニウムおよびそれらの混
合物が含まれる。本発明の特に好ましい実施態様に於て
は、水酸化テトラメチルアンモニウムが用いられる。

水溶性現像液中の水酸化第四級アンモニウムの濃度は、
現像液がそれに適用されるべきである特別なフォトレジ
スト組成物、所望の現像時間、所望の露光時間などのよ
うな数多くの因子に依存して広範囲にわたって変わり得
る。しかし、水溶性現像液中の第四級アンモニウム現像
剤の濃度は、現像液の全重量基準で、通常約１−約３０
重量％、好ましくは約２−約２５重量％の範囲である。

（添加剤化合物） 本発明の特徴となる添加剤化合物は１，３．５−トリヒ
ドロキシベンゼンまたは４−メチルニスキュレチンまた
はノボラック型樹脂のいずれかである。後者の型の化合
物は、本発明に於て用いられフォトレジスト組成物中に
含まれることが適当であるとして上で記載された化合物
から選ばれる。

現像液へ添加されるノボラック型樹脂は、フォトレジス
ト組成物中に含まれているノボラック型樹脂と同じであ
ってもよく、あるいは異なっていてもよい。好ましくは
、現像液組成物中のノボラック型樹脂添加剤はクレゾー
ノベホルムアルデヒドノボラック樹脂である。本発明の
特に好ましい実施態様に於ては、１．３．５−トリヒド
ロキシベンゼンが用いられる。

本発明に於て用いられる添加剤化合物は、上述したよう
に、露光フォトレジスト組成物の残留物を残すことなく
フォトレジスト組成物の露光頑域を完全に除去するのに
有効な任意の量で用いることができる。特別な用途に於
ける最適な使用量は、実際に、現１象液中に用いられる
特別な現像剤、現１象液中の現（象剤の濃度、現像液が
それに対して適用される正確なフォトレジスト組成物な
どのような数多くの因子に依存する。しかし、添加剤化
合物は、現像液中に、現像液の全重量基準で、一般に約
０．１−約５重量％、好ましくは約０，２−約４重量％
の量で含まれる。

（その池の成分） 本発明の現像液は、アルカリ土類金属および遷移金属の
ような金属イオンを含まないことが好ましシ′１つ従っ
て、本発明の１つの好ましし）実施態様に於て、現１′
象液はキレート剤をも含む。当業者に公知のエチレンジ
アミン四酢酸ならびに他の通常の化合物のような任意の
適当なキレート剤を用いることができる。好ましくは、
キレート剤は、現像液の全重量基準で、約１重Ｉ％まで
の量で用いろれる。

本発明の水溶性アルカリ現像液は、当業者には明らかで
あるような、他の種々の標準的な成分を随意に含むこと
ができる。例えば、現像液（ま染料および（または）顔
料、非イオン界面活性剤などを含むこともてきる。

■、現像 本発明の方法による現１象液として使用する前に希釈す
ることができる水溶性ａ諸物を製造することができるこ
とは当業者には明ろかなはずである。

このことは、貯蔵または輸送せねばならない水の量が減
少するので有利であり得る。典型的な現像条件には約２
１±１℃の現（象温度が含まれ、現像時間は、用いられ
る特別なフォトレジスト組成物、露光エネルギー、現像
液中の現像剤の濃度、スプレー、パドル、窒素バブリン
グまたは機械的攪拌のような現像方式、プリベーク温度
および時間などに大いに依存する。例えば、穏やかな攪
拌（マグネチックバー）下では、約１００−１０５℃に
於て約３０分間プリベークした１μｍの塗装に対して現
像時間は約６０秒である。

以下、実施例によって本発明を説明する。特に断らない
限り、部および％はすべで重量による。

〔発胡の効果〕

本発明よれば、フォトレジストの未露光領域の縁部と基
板との界面に於て露光残留フォトレジスト物質を残さず
にポジ型フォトレジスト層の露光部分が有効に除去され
る。加えて、本発明の水溶性現像液は増強されたフォト
レジストプロフィルを提供すると共に、焦点の深さ、現
１象範囲、未露光フォトレジスト層厚の保持のような渣
に関して受容できる性能を示す。

〔実施例〕

実施例１−２０および比較例１−３ 各実施例および比較例を、下記の方法に従って行った。

すべての下記実施例および比較例；こ於て、使用したフ
ォトレジスト組成物は、米国ニューシャーシー州ギヤレ
フト・マウンテンのオーリン　ハント　スペシャリティ
ー　プロダクト社からから商品名“ＨＰＲ−２０４”で
市販されており、タレゾール−ホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂および感光剤としてトリヒドロキシベンゾフェ
ノンのナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを含む
。

直径？６．２ｍＬＩｌ（３ｉｎ）の酸化シリコンウェー
ハに、ヘッドウェイスピナーで、５０００ｒｐｍで３０
秒間のスピン塗布を適用して約１μｍの膜厚を与えた。

この被覆ウェーハを、次に対流オーブン中で、１００−
１０５℃に於て３０分間プリベークした。このウェーハ
を、パーキンエルマーマイクラライン（Ｐｅｒｋｉｎ　
Ｅｌｍｅｒ　Ｍｉｃｒａｌｉｇｎ　）　ｌ　ｌ　ｌ（ス
リット幅１．０ｍｍ、開口＃１）でフォーカスウェッジ
マスクを通して露光した。この露光ウェーハを、下記第
１表中に示した水溶性アルカリ現像液のおのおのを用い
て浸漬によって約６０秒間現像した。

各現像液の除去特性を走査電子顕微鏡を用いて試験した
。現像済みウェーハを２５０Ａ金および３μｍウィンド
ウ寸法でスパッター被覆し、１７．０００倍（試＃＋傾
斜角８０°）で検査した。

各現像済みウェーハを、次に０−５の数値スケールで格
付けした。最低数４１　（０）はフォトレジストの露光
領域の完全除去を示し、最高数管（５）は未露光部分の
縁部と酸化基板との界面に於ける露光フォトレジストの
実質的な残留物を示す。結果は第１表に示しである。

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. （１）ノボラック型樹脂と感光剤とからなるポジ型感光
   性組成物の画像露光層を、水酸化第四級アンモニウム現
   像剤を含む水溶性アルカリ現像液と接触させることから
   なる画像露光層の現像方法に於て、該現像液中に、 下記の一般式で表わされる添加剤化合物を含有させるこ
   とを特徴とする方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中Ｒ＿１、Ｒ＿２は、Ｈ、Ｒ、ＣＯＯＨ、ＣＨＯ、Ｏ
   Ｒ、ＣＯＲ、ＣＯＡｒ又はＣＨ＿２Ａｒを表わし、Ｒ＿
   １とＲ＿２は同一でも異なっていてもよく、またＲ＿１
   とＲ＿２が芳香族環、置換芳香族環、ヘテロ環又は置換
   ヘテロ環を形成してもよく、Ｒは低級アルキル基を示し
   、ｎは１〜３の整数である。
2. （２）ｎが２又は３である特許請求の範囲第（１）項記
   載の方法。
3. （３）該水酸化第四級アンモニウム現像剤が式▲数式、
   化学式、表等があります▼ （上記式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は、独立
   にＣ＿１−Ｃ＿４アルキルまたはＣ＿１−Ｃ＿４ヒドロ
   キシアルキルである） を有する特許請求の範囲第（１）項または第（２）項記
   載の方法。
4. （４）該水酸化第四級アンモニウム現像剤が水酸化テト
   ラメチルアンモニウム、水酸化トリメチルエタノールア
   ンモニウム、水酸化メチルトリエタノールアンモニウム
   およびそれらの混合物からなる群から選ばれる特許請求
   の範囲第（３）項記載の方法。
5. （５）該水酸化第四級アンモニウム現像剤が該現像液の
   全重量基準で３−２５重量％の範囲の量で用いられる特
   許請求の範囲第（４）項記載の方法。
6. （６）該添加剤化合物が該現像液の全重量基準で０．２
   −４重量％の範囲の量で用いられる特許請求の範囲第（
   ４）項記載の方法。
7. （７）該添加剤化合物が１，３，５−トリヒドロキシベ
   ンゼンである特許請求の範囲第（６）項記載の方法。
8. （８）該添加剤化合物がクレゾール−ホルムアルデヒド
   ノボラック樹脂である特許請求の範囲第（６）項記載の
   方法。
9. （９）該感光性組成物が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上記式中、Ｒ＿２およびＲ＿３は、独立に１価のＣ＿
   １−Ｃ＿４アルキルである） を有するノボラック型樹脂を含む特許請求の範囲第（１
   ）項または第（２）項記載の方法。
10. （１０）該感光性組成物が ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、 Ｑは−Ｅ−（ＣＨ＿２）＿２−Ｏ−Ｗまたは−Ｅ−Ｃ＿
    ｂＸ′＿（＿２＿ｂ＿＋＿１＿）であり、Ｗは−ＣＨ＿
    ３または−Ｃ＿２Ｈ＿５または−（ＣＨ＿２）＿２−Ｏ
    −ＣＨ＿３または−（ＣＨ＿２）＿２−Ｏ−Ｃ＿２Ｈ＿
    ５であり、 各Ｘ′は、独立に−Ｈまたは−Ｆまたは−Ｂｒまたは−
    Ｃｌまたは−Ｉであり、 ａは１または２であり、 ｂは２または３または４または５または６または７また
    は８または９であり、 ａが２であるときにはＴは−（ＣＯ）−または−Ｏ−ま
    たは−ＣＨ＿２−または−Ｃ（ＣＨ＿３）＿２−または
    −Ｓ（Ｏ＿２）−または−Ｓ−または−Ｏ−Ｚ−Ｏであ
    りかつａが１であるときにはＴはＨであり、 Ｚは−（ＣＨ＿２）＿２−または ▲数式、化学式、表等があります▼であり、Ｄは −Ｃ（Ｏ）−または−Ｏ−または−ＣＨ＿２−または−
    Ｃ（ＣＨ＿３）＿２−または−Ｓ（Ｏ）＿２−または−
    Ｓ−であり、 各Ｒ＿８、Ｒ＿９、Ｒ＿１＿０は、独立に−Ｈまたは−
    ＯＨまたは−ＮＨ＿２または ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ であり、 但し、少なくとも１つのＲ＿８またはＲ＿９またはＲ＿
    １＿０は ▲数式、化学式、表等があります▼ であることおよびＴが−Ｏ−Ｚ−Ｏ−であるときには各
    Ｒ＿１＿０はＨであることおよびａが１であるときには
    Ｒ＿１＿０は１価のＣ＿１−Ｃ＿９アルキルまたは−Ｃ
    （ＣＨ＿３）＿３または−Ｈまたは−ＯＨまたは−ＮＨ
    ＿２または ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ であることを条件とし、 各Ｅは、独立に−Ｏ−または−ＮＨ−である）およびそ
    れらの混合物からなる群から選ばれるジアゾケトン化合
    物である感光剤を含む特許請求の範囲第（１）項または
    第（２）項記載の方法。
11. （１１）該感光性組成物が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （上記式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は、独立に１価のＣ＿
    １−Ｃ＿４アルキルである） を有するノボラック型樹脂を含む特許請求の範囲第（１
    ０）項記載の方法。
12. （１２）該水酸化第四級アンモニウム現像剤が式▲数式
    、化学式、表等があります▼ （上記式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は、独立
    にＣ＿１−Ｃ＿４アルキルまたはＣ＿１−Ｃ＿４ヒドロ
    キシアルキルである） を有する特許請求の範囲第（１１）項記載の方法。
13. （１３）該現像液の全重量基準で、該水酸化第四級アン
    モニウム現像剤が２−２５重量％の範囲の量で用いられ
    かつ該添加剤化合物が０．２−４重量％の範囲の量で用
    いられる特許請求の範囲第（１２）項記載の方法。
14. （１４）該水酸化第四級アンモニウム現像剤が水酸化テ
    トラメチルアンモニウムでありかつ該添加剤化合物が１
    、３、５−トリヒドロキシベンゼンである特許請求の範
    囲第（１３）項記載の方法。
15. （１５）水酸化第四級アンモニウム現像剤を含む水溶性
    アルカリ現像液であって、下記の一般式で表わされる添
    加剤化合物をも含むことを特徴とする現像液。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中Ｒ＿１、Ｒ＿２は、Ｈ、Ｒ、ＣＯＯＨ、ＣＨＯ、Ｏ
    Ｒ、ＣＯＲ、ＣＯＡｒ又はＣＨ＿２Ａｒを表わし、Ｒ＿
    １とＲ＿２は同一でも異なっていてもよく、またＲ＿１
    とＲ＿２が芳香族環、置換芳香族環、ヘテロ環又は置換
    ヘテロ環を形成してもよく、Ｒは低級アルキル基を示し
    、ｎは１〜３の整数である。
16. （１６）該水酸化第四級アンモニウム現像剤が式▲数式
    、化学式、表等があります▼ （上記式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は、独立
    にＣ＿１−Ｃ＿４アルキルまたはＣ＿１−Ｃ＿４ヒドロ
    キシアルキルである） を有する特許請求の範囲第（１５）項記載の現像液。
17. （１７）該水酸化第四級アンモニウム現像剤が水酸化テ
    トラメチルアンモニウム、水酸化トリメチルエタノール
    アンモニウム、水酸化メチルトリエタノールアンモニウ
    ムおよびそれらの混合物からなる群から選ばれる特許請
    求の範囲第（１６）項記載の現像液。
18. （１８）該水酸化第四級アンモニウムが該現像剤の全重
    量基準で２−２５重量％の範囲の量で用いられる特許請
    求の範囲第（１７）項記載の現像液。
19. （１９）該添加剤化合物が該現像液の全重量基準で０．
    ２−４重量％の範囲の量で用いられる特許請求の範囲第
    （１８）項記載の現像液。
20. （２０）該添加剤化合物が１，３，５−トリヒドロキシ
    ベンゼンである特許請求の範囲第（１９）項記載の現像
    液。
21. （２１）該添加剤化合物がクレゾール−ホルムアルデヒ
    ドノボラック樹脂である特許請求の範囲第（１９）項記
    載の現像液。
22. （２２）該水酸化第四級アンモニウム現像剤が水酸化テ
    トラメチルアンモニウムである特許請求の範囲第（２０
    ）項記載の現像液。