JPS63127496A - 低電力消費記憶装置 - Google Patents

低電力消費記憶装置

Info

Publication number
JPS63127496A
JPS63127496A JP62125660A JP12566087A JPS63127496A JP S63127496 A JPS63127496 A JP S63127496A JP 62125660 A JP62125660 A JP 62125660A JP 12566087 A JP12566087 A JP 12566087A JP S63127496 A JPS63127496 A JP S63127496A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
voltage
line
transistors
gate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP62125660A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0234119B2 (ja
Inventor
ジェフレイ エム.クラース
ポール エイ.リード
イサム リマウイ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Texas Instruments Inc
Original Assignee
Texas Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Texas Instruments Inc filed Critical Texas Instruments Inc
Publication of JPS63127496A publication Critical patent/JPS63127496A/ja
Publication of JPH0234119B2 publication Critical patent/JPH0234119B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)
  • Compression, Expansion, Code Conversion, And Decoders (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体メモリ装置特に電気的にプログラム可能
なタイプのMOS  ROMに関するものである。
電気的にプログラム可能なフローティングゲート型RO
M即ちEPROMI!置は通常テキサスインスツルメン
ト社の−allおよびHcELroyの米国特許第4,
112,509号および第4,112゜544号および
米国特許第3,984,822号に見られるセルレイア
ウトを使用して製作される。
8に、16に、32におよび最近は64にビットサイズ
のレイアウトのEPROM装置を製作するメーカがいく
つかある。しかしながら高速および低コストに対する要
望が継続しているため、セルサイズを低減もしくはビッ
ト密度を増大して同時に既存の二重レベルポリシリコン
Nチャネル製作方法とのプロセス互換性を維持する必要
性が生じてきた。ROMのアレイ密度を増大させる一つ
の古典的技術は各列部ち出力線に対して接地線を設ける
かわりに仮想接地構成を使用することである。
仮想接地メモリは共にテキサスインスツルメント社のF
isherおよびRogersの米国特許第3.934
゜233号と、E、R,Caudelの米国特許第4.
021゜781号に開示されている。仮想接地EPRO
Mレイアウトはテキサスインスツルメント社のDavi
d J、HcEIroyの米国特許第4,151.02
1号に11目示されている。フローテイングゲ−1−E
FROMのプログラミングには過l高電圧と高電流が必
要であるため、従来仮想接地装置に採用されている回路
よりも厳しい要求がデコード回路に課される。このため
従来のEFROMは各セルに別々の接点と線を使用し、
そのためデツプ上に余分な空間を必要とした。しかしな
がら仮想接地メモリの動作に必要な別々の接地選定およ
び列選定機能を使用する場合、採用する列デコードは専
用接地型メモリ装置とは違った複雑性を有する。
大型高速装置のこの列および接地選定アドレッシングは
行アドレッシングと共にデコード回路に新しい条件を課
するものである。EPROM装置の低電力動作という顧
客の要求により、通常のスタンバイ動作モードとは違っ
たパワーダウンモードを設ける必要性が生じた。パワー
ダウンモードにおいてEPROM装置はアドレスに応答
しないが、パワーダウンモードが終る時には正規アクセ
スが許される前に過度に長い期間があってはならない。
これらの制約および対立する条件内で改良型EPROM
が設計されている。
特に小サイズ、大ビット密度の電気的にプログラム可能
な改良型ROM装置を提供することが本発明の主目的で
ある。低電力消費もしくはパワーダウン操作が可能で電
気的にプログラム可能な改良型メモリ装置を提供するこ
とも本発明の目的である。改良された方法で読み取りお
よび/もしくはプログラミング用メモリアレイにアクセ
スを行う構成を提供することも本発明の目的である。
[問題点を解決するための手段および実施例の説明」 本発明の一実施例においてフローティングゲート型メモ
リの行列を有する電気的にプログラム可能なメモリアレ
イはセルの列間に交互に出力線と接地線を有し、仮想接
地構成を提供している。行はアドレス入力の一部分によ
り選定され、列は他部分により選定される。選定列の一
方側の出力線が励起され、使方側の接地線が励起される
。差動センス増幅鼎が選定出力線上の電圧および4準電
圧に応答する。デコーダの行選定機能に必要なトランジ
スタ数は各アドレスビット対に対して1対4の選定を行
うプリデコーダを採用し、次にこれら選定出力の一つを
使用してNマルチプレクサを起動させ、他の全てをデコ
ーダの入力として使用しN出力をマルチプレクサの入力
として使用でることにより大幅に低減される。
プリデコーダは各アドレスビットに対して2対の真およ
び相補アドレス電圧を受信するAND10R回路であり
、6対は論理的に同じであるが低しきい値トランジスタ
により分離されているアドレス電圧を含んでいる。プリ
デコード回路は6対の高い方を使用してAND10R回
路の入力トランジスタを■。Cと出力ノード間で駆動さ
せ、6対の低い方を使用してAND10R回路の入力ト
ランジスタを出力ノードと接地間で駆動させることによ
りスピードアップされる。前者の入力トランジスタは後
者よりも低い古酒ローディングを有している。
第1図に本発明の特徴を使用したメモリシステムのブロ
ック図を示す。本発明はさまざまなタイブおよびサイズ
のメモリ装置に使用できるが、ここに示す実施例は8X
16X256に仕切られた32に即ち32,768ピツ
トを有するNチャネルフローティングゲート型の電気的
にプログラム可能なROM即らEPROMである。商用
実施例では更に列デコーディングを設けて8x8X25
6の替りに8X32X64に仕切られた16ビツト装四
を規定し、32にビットは8X32X128に仕切られ
64にビット装置は8X32X256に仕切られており
、図示する実施例は行デコード回路の利点を示すために
選定されている。第1図においてセルアレイ10は25
6行128列に配置された32.768111i1のフ
ローティングゲートメモリセルを含んでおり、列は10
−1から10−8の8個の別々のセル群に分割されてい
る。
各群は別々の入力/出力端子11を有している。
8個のアドレス入力端子12に加えられる8ビツト行ア
ドレスはデコードされて256本の行線13の一本のみ
を起動させる。セルアレイは仮想接地型であり一本の接
地線のみが10−1から10−8の各群の接地に接続さ
れており、隣接する列線が各群の選定されたセルの出力
として使用される。4端子14により集積回路装置へ加
えられる4ビツト列アドレスは、8個の別々の選定回路
15によりデコードされて10−1から10−8の各群
内の9本の接地線の中の1本を選定し、8個の別々の選
定回路16により8本の出力列線の中の1本を選定する
。10−1から10−8の各群の差動センス増幅器17
は選定セルに対するデータビットを感知して端子11の
一つに出力を加え読取り動作を行い、プログラム動作の
ためには回路17内の入力バッファおよび選定回路16
により各群内の選定ビットへ端子11上のデータビット
が加えられる。
実施例の集積回路装置は8個のデータ端子および12個
のアドレス端子の他に5個の端子を有している。端子1
8により一つの+5V供給電圧V が印加され、接地即
ちvSsが端子19に印加C される。およそ+25Vのプログラミング電圧V、pが
端子20へ印加される。チップ選定指令C8が端子21
へ印加されパワーダウン/プログラム指令PD/PGM
が端子22へ印加される。
御回路23へ接続されており、それは制御電圧を発生し
てシステムの動作モードを定める。
読取りモードにおいてVppとPD/PGMは論理0で
ありC8はアクティブロー、論理0である。
これらの状態を第2図a〜第2図eの左側に示す。
第2図aに示すようにC8がローであり第2図dと第2
図Cに示すようにvl、とPD/PGMがローであれば
、端子12.14上の12個のアドレスビットAO−A
11が第2図すの時刻24において有効となる時アレイ
10内の8ビツトが選定され(10−1から10−8の
各群で1ビツトずつ)、第2図eに示すようにこれらの
8ビツトは端子11上に生じる。
もう一つの状態はスタンバイモードであり、論理1にお
いてC8がハイであることを除けば全ての入力は読取モ
ードの場合と同様である。ここでチップは読取り状態で
あるが第2図すの中央に示すようにアドレスが生じても
そのように選定されず、第2図eのデータアウトは生じ
ない。
第2図Cの右側に示すようにPD/PGM入力が論理1
である時パワーダウン動作モードが生じる。第2図dに
示すように■、pはローでありC8はローともハイとも
なり得る、即ち注意を要しない状態である。アドレスが
発生すれば出力は生じない。
PD/PGMがアクティブローであり、第2′図aに示
すようにC8がアクティブローである時プログラミング
動作モードが生じる。この状態において端子12に加え
られる行アドレスは一本の行線13上にハイ電圧(■。
、−v−を生じる(他は全てロー)。第2′図すに示す
ように発生する端子14上の列アドレスは各群の8列の
中の1列を選定する。第2′図eに示す時間中に端子1
1の各々にOが存在するか1が存在するかにより、10
−1から10−8群内の8個の各選定ビットの選定列線
ヘハイ電圧V 、p−V 、もしくはロー電圧が印加さ
れる。この状態により8個の選定ビットの70−ティン
グゲートは端子11上のデータ入力に応じて充電された
りされなかったりする。
いずれもローであるときだけでプログラムモードが生じ
る。第2′図の右側に示すように他の全ての状態はプロ
グラム抑止モードを発生する。第2′図aもしくは第2
′図Cに示すように入力C8もしくはPD/PGMの一
方もしくは両方がハイであると抑止モードが存在する。
ここで端子12および14上に生じているアドレスもし
くは端子11上に存在するデータと無関係に、チップは
パワーダウンモードとなっている。
第1図のシステム内の行選定回路はプリデコードおよび
マルチプレクス性能を含んでおり、それが重要な利点を
提供する。端子12上の8個の各行アドレスビットAO
−A7は8個のバッファ回路30の中の一つへ加えられ
、その夫々がA2からA7ビットのプリデコーダ32も
しくはAOとA1の行分割デコーダ33へ行く線31上
のアドレスおよび相補電圧AおよびAを発生する。3個
のプリデコーダ32は6個のアドレスビットA2からA
7に使用され、これらの各回路は64中1行デコーダ3
5の入力である線34上へ4出力を発生する。デコーダ
35は64木の出力線36を有し、所与のアドレスA2
−へ7に対してその中の1本のみがハイであり他の全て
はローである。
線36は64個の4中1選定回路37へ別々に印加され
、その各々が4個の出力13を有しそれらはアレイ10
の行線であり10−1から10−8の8群全部に延在し
ている。各選定器37は行分割デコーダ33から4本の
入力線38を受信し、アドレスのAOおよびA1ビット
に従って、4本の線13の中の1本を選定するように機
能する。
2個のバッファ回路30の詳細回路図を示す第3図にお
いて、入力端子12は2個のエンファンスメントトラン
ジスタ40.41のゲートへ接続されている。第1人力
トランジスタ4oはディプレッション負荷42を有し、
ゲートが■Coであるトランジスタ43を介して接地さ
れている。第1段の出力44は第2人力トランジスタ4
1およびその並列接地ゲートディプレッショントランジ
スタ46と同一様、接地トランジスタ43を共有する自
然トランジスタ45のゲートへ接続されている。
こうして全てのトランジスタ40.41.45゜46の
電流はトランジスタ43を流れる。ノード44は入力ト
ランジスタ41に直列にディプレッショントランジスタ
47のゲートへも接続されており、これらのトランジス
タと直列な自然トランジスタ48はゲート上にCE信号
を有しパワーダウンモードとするように働く。トランジ
スタ47のソースはへ出力線31−1を提供し、トラン
ジスタ41のドレーンはA 出力1a31−2を提供す
る。入力12がハイであればトランジスタ41はオンで
ありAとA はローである。ディプレッション負荷50
を有するもう一つのインバータトランジスタ49はゲー
ト上にA 信号を受信し、このインバータは最終段でデ
ィプレッション負荷51のゲートを駆動する。第1イン
バータ40の出力ノード44はこの最終段においてエン
ファンスメントトランジスタ52のゲー1−へ接続され
ており、このトランジスタはパワーダウン動作用トラン
ジスタ46と同様に並列接地ゲートディプレッションモ
ードトランジスタ53を有している。
ゲート上にGEを有する自然]−ランジスタ54はトラ
ンジスタ48と同様にパワーダウン期間中にプルダウン
機能を提供する。
トランジスタ45の目的は1ヘランジスタ43を流れる
電流をOと1人力間で平衡させることであり、そのため
ノード55上の電圧はほぼ一定となる。ノード55上の
電圧はトランジスタ40に小さなバックバイアスを与え
、低入力値に対する動作は■1が低い場合でも適当なT
TLマージンで十分である。
トランジスタ47.51はゲート上に前段の反転出力を
有し、標準のゲート・ソース短絡ディプレッション負荷
の場合に較べ動作がスピードアップされる。こうして各
ソースに接続された場合に較べてゲートは早く立上り、
トランジスタ47゜51は早くターンオンする。
バヮーダ1クン動作においてトランジスタ48゜54は
第2図9に示すCE大入力よりターンオフされる。制御
回路はPD/PGMからCEを発生しこの電圧はPD/
PGMと相補的である。トランジスタ48.54がオフ
であるとパワーダウンモード中にAとAは共にハイとな
り、A と△はローとなる。トランジスタ46.53の
機能はパワーダウン中に漏洩により出力A とA8をロ
ーに保持することである。アクティブ読取モードにおい
てCEはハイでありトランジスタ48.54は完全に導
通し、そのため八とに*はAとA*と同様に同じ論理状
態となる。
第4図に3個のプリデコーダ32の中の1個を示す。こ
の回路は4組の並列、低しきい値自然トランジスタ対5
6を有し、それらはゲート上に△。
A、B、B出力を有している。これら4個の並列対はゲ
ート上にA とA を有する4個の自然トランジスタと
直列である。トランジスタ対57はゲート上に百8とB
を有するエンハンスメント1へランジスタ58を介して
接地されている。4個の出力34はトランジスタ56.
57間のノード59において取り出される。全てのA*
およびB9信号はノード59I!下であり、AおよびB
信号はノード59以上である。これはパワーダウン動作
において有利である。
第4a図に行分割デコーダ33と共にAOおよびA1ビ
ット用人力バッファ30を示す。パワーダウン機能が使
用されていないためにトランジスタ48.54は存在せ
ず且つディプレッショントランジスタ46.53が省か
れていることを除けば入力バッファ回路は第3図のもの
と同様である。
A9もしくはB8出力は発生しない。
行分割デコーダ33はトランジスタ6Qを有する4個の
NOR回路を含んでおり、AOおJ:びA1アドレスビ
ット用バッファ3oからのA、Δ。
B、B出力対31に夫々接続されている。各NOR回路
はディプレッション0荷61を右しインバータ段62と
プッシュプルトランジスタ対63.64を有するプッシ
ュプル出力回路により4個の出力38の中の1個を発生
する。
第5図に4中1デコーダ37および行線にプログラミン
グ電圧Vp、を加える回路と共に64中1デコーダ35
を示す。3組の4線34はデコーダに沿って延在してお
り64個のNOR回路内の3個のトランジスタ65のゲ
ートへ入力を供給する。
3組の各線の1人力の異なる組合が各NOR回路で使用
されており、線34上の所与のコードに対して1個のみ
が選定される。3個の並列トランジスタがゲート上にG
Eを有し且つディプレッション負荷67を有するパワー
ダウン制御トランジスタ66と直列に接続されている。
パワーダウンモードにおいてGEはローであり且つトラ
ンジスタ66はオフであるため、出力はハイとなり3X
64即ち192個のトランジスタ65のいずれにも電流
は流れない。正規モードにおいてCEはハイであり、自
然即ち低しきい値トランジスタであるため降下は非常に
小ざい。選定NOR回路に対し3111jのトランジス
タの全ゲートがO−であり、線36はハイである。また
他の全てに対して少くとも1個のゲート入力がハイであ
り線36はローである。線36がローであるとデコーダ
37内のインバータ68は4個のトランジスタ69のゲ
ートヘハイ出力を発生し、このデコーダ37の4本の行
線13の全てをローに維持する。ハイである1本の線3
6に対して1組の4個のトランジスタ70がターンオン
され4線38を4本の行線13へ接続する。これら4線
38の中の1本のみがハイであるため、256本の行線
13の中の1本のみがハイとなる。ゲート上に■。0を
有するディプレッショントランジスタ71はプログラミ
ング中に存在する高電圧がドライバトランジスタ69を
破壊するのを防止するように働き、これらの装買71t
よドレーン上にハイ電圧を有してターンオフする。
プログラミングのためには256木の行線の中の選定さ
れた1本がv、O付近とされ残りはローとされるVI)
、入力2oは数組の3個の直列トランジスタ72,73
.74を介して各行[7113へ接続サレテイル。vp
p1C8およびPD/PGMから19られるVPR指令
は全トランジスタ72のゲートへ接続されており、その
ためC8とPD//PGMがローでVl、がハイである
場合のみプログラミングが可能であり、他の全ての状態
においてVPRはローでトランジスタ72はオフとなる
トランジスタ73.74は全ておよそ 一4Vのしぎい値を有する非調整ディプレッション装置
である。直列組合せの効果は論理1にある1線13をV
l、に引き上げることであり、他の全てに対してトラン
ジスタ69はオンであるためV のままである。
S 第3図、第4図および第5図の行デコーダ回路はいくつ
かの有利な特徴を有している。アドレスバッファ3oに
おいて最も遅い出力A(もしくはB)はアドレス入力端
子12からの2個の反転のみでありそのため速度は良好
である。また第2人力トランジスタ47を使用して正へ
の入力移行の応答がスピードアップされる。別々のAと
八〇、AとA 等の出力を供給することによりバッファ
を最小電力状態でパワーダウンとすることができ同時に
プリデコーダ32をゼロ電力状態とすることができる。
プリデコーダ32を行デコーダ35と共に使用すること
によりNOR回路に使用するドライバ装置65の数を半
減することができ、次に4本の各行線13に1個のNO
R回路を使用して所要のドライバを更に2個減らすこと
ができる。
こうして256中1デコーダは各々が3個のトランジス
タ65を有する64個のNOR回路のみを必要とする。
各々が8個の入力トランジスタの標準256個のNOR
回路に較べて装置のローディング数の低減は非常に望ま
しい。行分割部らマルチブレクスデコーダ33はプッシ
ュプル出力段63.64を採用した2個の入カドランジ
スタロ。
を有する簡単なNOR回路を使用して駆動を改良してい
る。行デコーダ35は3人力N OR回路であり、各N
OR回路にもう一つのトランジスタ6があってゲートは
CEl、:接続されてパワーダウン制御を行いパワーダ
ウンに対してCEはローである。
第1図において列選定回路は4人力バッファ30を含ん
でおり、それはAOおよびA17Fレスビツトに使用す
る入力バッファと同じである。線75上の4個のバッフ
ァからの8個のアドレスおよび相補出力は9中1デコー
ダ76へ加えられ、該デコーダは接地選定回路15への
9本の出力線77の中の1木を励起する。こうして出力
列線が選定される前に10−1から10−8の各群内の
9本の接地線の中の1本が最初に選定される。線77は
また列選定デコーダ78の入力でもあり、このデコーダ
は2木の線70上のA8およびA8を入力として使用し
てハイである9本の線77の中の1本の両側の一方を選
定する。線79上の8中1出力は列選定器16へ接続さ
れている。
線77上の仮想接地選定がデコードされ、アクセスタイ
ムを最小限とするために出来るだけ迅速に得られること
が重要である。線79上の列選定を起動させるために遅
延を許容することができる。
仮想接地選定器15の動作時間は遅延を許容できる列選
定器16の動作時間よりもアクセスタイムに与える影響
が大きい。こうして仮想接地選定はアドレス入力A3−
Al1から直接デコードされて接地選定器15の起動に
使用され、次に線77上の接地選定は列アドレスのLS
B、A8と共にデコーダ78で使用されて列選定を発生
ずる。
第6図にデコーダ76を詳細に示す。線75上のバッフ
ァ30からの△8からA11のアドレスと補数は1組の
9個のNOR回路内のドライバトランジスタ80へのゲ
ート入力として使用され、NOR回路の2個を図示する
。9中1を選定するためにNOR回路の中の7個は3個
のトランジスタ8oを有し残りの2個は4個のトランジ
スタ80を有している。NOR回路はディプレッション
負荷81およびGEにより連続して駆動されるパワーダ
ウントランジスタ82を有している。出力ノード83は
1個の出力トランジスタ85を駆動するインバータ1〜
ランジスタ84と直接駆動しきい値出力トランジスタ8
6を有する修正プッシュプル回路へ接続されている。ゲ
ート上にC[を有するトランジスタ87.88はパワー
ダウンモードを提供し全ての線77がローに保持される
。トランジスタ89は行デコーダ内のトランジスタ71
と同じ機能を提供する。プログラミング中に選定された
9中1線77へ高電圧を印加する回路は第5図の行線に
使用される3個の直列トランジスタ72.73.74を
含んでいる。しかしながらこの場合トランジスタ72は
ゲート上にVPRではなくvpcを有している。
第7図に選定器78を詳細に示す。入力トランジスタ対
9oを有する8個の4人力および/もしくは論理回路は
9個の接地選定線77に応答し、これら8個の論理回路
の全てに共通な1−ランジスタ対91は線75上のA8
およびに1°に応答する。
各論理回路はディプレッション負荷92を有し出力トラ
ンジスタ93を駆動する。この出力段はディプレッショ
ン負荷94と8個全てに共通な共通パワーダウンゲート
95を有している。列選定線79はゲート上にPEを有
する直列トランジスタ96を介してこれらの出力回路に
接続されている。
プログラミング用ハイ電圧は前と同様各線79に接続さ
れたトランジスタ72.73.74を含む直列回路によ
り発生する。1−ランジスタ96はプログラミング中に
ハイである線79上のハイ電圧を分離して、ハイ電圧が
ディプレッション負荷94を介して■。、へ放電される
のを防止する。
第8図においてセルアレイ1oはメモリセル10′の行
列アレイであり、その各々は制御ゲート1o1、ソース
102、ドレーン103およびソースとドレーン間チャ
ネルと制御ゲート101との間に70−ティングゲート
104を有する電気的にプログラム可能な絶縁ゲート電
界効果型トランジスタである。
各行内の全てのセルのll、II @ゲート1o1が1
組の行線即ちX線13に接続されている。実施例にはX
デコード回路からの256本の線13があり、前記した
ようにそれらは線12上の8ビットX即ち行アドレスに
基いて256中1を選定する。読取モードにおいて線1
3の選定された1本はハイとなり他のローのままである
隣接セル10′のドレーン103はY出力線1o5へ共
通接続されており、実施例では64本の線105が仕切
らねてぃて装置から8ビット並列出力11を発生し、各
線105は2列のセル10′の出力を供給し、そのため
各群ごとに16セルの8群があり、各群は8本の線10
5を含んでいる。線105は負荷トランジスタ121を
介してV。。へ、また8周のトランジスタ16−1〜1
6−8へ接続されており、こうしてY出力線1Φ 06へ接続されている。(16セル幅の各群に1本ずつ
8本の別々の線106がある。)トランジスタ16−1
.16−2等のゲートは線79上の列選定電圧を受信す
るように接続されており、それらは入力ビン14上の4
ビット列アドレスに基いてこれらのゲートの一つへ論理
1電圧(即ちプログラミング用Vp、)を加え残りをV
ssに保持するように作用する。4ビツトアドレスは一
群内の16中1セル10′を選定するのに使用され、8
中1線を選定するには4ビットYアドレスA3−Al1
のMS83ピットA9−A11のみを必要とするが仮想
接地構成によりLSBアドレスビット八8へ必要とする
隣接セル10’のソース102は接地線として作用する
もう1組の列線107に共通接続されている。16セル
10′の各群に9木の線107を必要とする。即らMX
Nアレイに対する接地線の数は(N/2)+1本である
。各線は負荷装置1o8を介してVccに接続され、接
地選定トランジスタ15−1.15−2等を介して接地
、即ちvssに接続されている。接地選定15を形成す
るこれら全てのトランジスタ15−1等のゲートは線7
7を介して前記選定器76へ接続されている。
接地選定76は所与のYアドレスに対して線77の中の
1本のみを励起するように作用し、そのためトランジス
タ15−1.15−2等の中の1個のみが導通する。
第8図のセルアレイの小部分を第9図に示しそれは16
個のセル10′と4本のXアドレス線13とY出力線1
05即ち接地線107を形成する5枚の金属片を含んで
いる。第9図および、第10A図〜第10D図の断面図
に示すように、ソースおよびドレーン領域102.10
3はX型モ−上領域の連続ウェブ内のN十拡散領域によ
り形成され、前記モート領域は各ソースとドレーン間の
チャネル領域109および金属とモートを接触させる接
触領域110.111を含んでいる。金属出力″l!A
lO3は接触領域110においてモートの共通N十領域
112と接触し、金属接地線107は領域111におい
てモートの共通N十領域と接触する。各共通領域112
もしくは113は夫々4個のトランジスタ10’のソー
スもしくはドレーンを形成する。セルアレイはシリコン
パー114の面内に形成されており、厚い電界酸化物1
5がモート領域を除いてこの面の全体を被覆している。
P+チャネル停山領域116が通常の方法で電界酸化物
の下に横たわっている。浅いN十砒素注入領域102’
、103’は制御ゲート111がフローティングゲート
104を重畳するソースおよびドレーン領域102.1
03の延在部として作用し、急速拡散ホウ素により形成
されたP領域117は従来のP十タンクによる有利なプ
ログラミング効率を提供する。ゲート酸化物118のa
層がフローティングゲートをチャネル109から絶縁し
、酸化物薄層119がフローティングゲートを制御ゲー
ト101から絶縁する。蒸着されたレベル間酸化物12
0の1tlJがX線13および制御ゲート101を形成
する第2レベルポリシリコンを金属線105,107か
ら分離する。
EPROMセル10′はおよそ+18Vの高電圧をドレ
ーン103とソース102間に加え且つ選定セルの制御
ゲートをV6.に保持することによりプログラムされる
。セルを流れるハイ電流によりゲート酸化物118を通
って電子が放出されフローティングゲート104を充電
する。これはセルのしきい値電圧をおよそvco(通常
+5V)に増加させるように作用する。フローティング
ゲート上の電荷はいつまでも残存する。装置に紫外線を
当ててフローティングゲート104を放電することによ
り消去が行われる。
適正動作を行うには選定回路とセルマトリ・クスはある
条件に適合しなければならない。セルのプログラミング
にはドレーン103上におよそ+18vの電圧と0.5
〜3.0IIl^のソース・ドレーン電流を必要とする
。EPROMマトリクスセルの読取りには15〜60μ
への範囲の電流を検出する必要がある。
例えば第8図の回路の読取動作にはXa(行アドレス線
13の中の1本)がハイ(Vcc−■、)でトランジス
タ15−2と16−2は接地および列選定器によりター
ンオンされる。他のトランジスタ15.16は全てオフ
であるトランジスタ15−2はこの線の負荷装置108
aを引き下げトランジスタ10a’、10G’の電流を
大地へ流しノード111aをおよそ0.2〜0.3Vの
非常に低いレベルに維持するのに充分な大きさでなけれ
ばならない。負荷108bはセル10′bがターンオフ
される点までノード111bを充電する必要がある。こ
れによって出力線106に接続されたセンス増幅317
はノード111bの容量およびそれを越えて充電する必
要がなくなる。トランジスタ10’のボディ効果により
セル1o′bはノード111b上の低電圧でターンオフ
する。
ボディ効果はこれらのトランジスタの製作に使用される
チャネル内のP十領域のために大きい。
セル10’aをプログラムするには同じトランジスタ1
5−2.16−2が読取動作のためにターンオンされる
が(他はオフ)、この場合オントランジスタ15−2.
16−2は前記したようにトランジスタ72.73.7
4を有する回4で生じた大きな正電圧v9.をゲート上
に有する。トランジスタ15−2はノード111aをお
よそ0.3Vに保持し1〜3m八を通すのに充分な大き
さでなければならない。トランジスタ16−2はドレー
ン上に大きな電圧+V6.を有しノード110a上に大
きな電圧を生じる。負荷108bは再びノード111b
を充電し、この場合セル10′bはプログラムを行わな
い。ノード111b上の→−3vの電圧はセル10’b
のプログラムを禁止する。
各列線105は負荷トランジスタ121によりvccへ
接続されており、これらの負荷トランジスタのゲートは
基準電圧Rhを有している。こうして列線105はイン
バータ回路の出力ノード122として働き、選定された
1個のノード122はロードトランジスタ対選定記憶セ
ル10’の比に依存する電圧レベルとなる。フローティ
ングゲートが充電されたプログラムされたセルに対して
トランジスタ10′は導通せず、線105(ノード12
2)は最大電圧とされ、フローティングゲートが放電さ
れた消去されたセル10’は線105を最小電圧とする
。これら両極端のおよそ中間点は差動センス増幅器17
の基準点である。各センス増幅器17の1人力はノード
122からY31定]・ランラスタ16−1.16−2
等と線106を介したものである。、(l!!方の入力
は後記する基準電圧発生器回路からのものである。
第11図にセルアレイの負荷121に使用する基準電圧
Rhと差動センス増幅器の電圧yrerと基準電圧R1
を発生する回路と共にセンス増幅器17を示す。
センス増幅器17の1人力として使用される基11f圧
Vrerはセルアレイ内のトランジスタ10′と同様に
製作されたEPROM1〜ランジスタ10″および負荷
トランジスタ121と同様(ただし中間点を生じるため
にチャネル幅は2倍)の負荷トランジスタ121′を含
む回路から供給される。負荷トランジスタ108′およ
び接地トランジスタ15′は“仮想接地″列線107に
対して負荷108および接地装置15−1等をシミュレ
ートする。線77′上のトランジスタ15′のゲートへ
の電圧はおよそ(Vcc−Vt)である。
即ち、線77の中の1木の線の選定電圧と同じであり、
そのため基準発生器内の線107′はアレイ内の選定さ
れた線107と正確に同じ電圧、インピーダンス等を示
す。トランジスタ10″はゲート上に(トランジスタ1
23の発生した)電圧を有し、それもおよそ(voo−
Vt)であり選定されたX線13上の電圧に等しい。こ
うしてノード122′の一方側でセルアレイ内のノード
122の下の回路がシミュレートされ、動作はアレイ内
のセルの動作と同じであり、供給電圧の変化、温度、エ
ージング、しきい値電圧のプロセス変動等によるあらゆ
る変動を追跡する。負荷側においてノード122′は2
個の負荷装置を介してV、。
に接続されている。負荷側でノード122′は2個のロ
ード装置を介してVccに接続されている。
最初にアレイの列線105の負荷トランジスタ121の
1個に対応して負荷トランジスタ121′を使用する。
トランジスタ121′はゲート上にトランジスタ121
と同じ基準電圧Rhを有している。線124上のこの基
準電圧Rhは■。。=+5Vである装置に対しておよそ
4vである。Rhはノード122上の電圧変化を最適化
するように選定されており、電圧降下は感知するに充分
である完全な論理レベルではない。次にゲート上に異な
る基準電圧R1を有する負荷トランジスタ125は負荷
トランジスタ121′と並列である。
実施例において負荷トランジスタ121′はトランジス
タ121の2倍の幅のチャネルを有するためインピーダ
ンスは半分である。同じ効果を達成するもう一つの方法
は1個ではなく2個のトランジスタ10“を直列にして
121と同じ負荷トランジスタ121′を使用すること
である。いずれもノード122′にV ref電圧を発
生しそれは選定トランジスタ10′に対するプログラム
状態と消去状態との間のノード122上の電圧変化の半
分である。第11a図に線127で示すように時間12
6において選定X線13はハイとなる。
回路設計によりX選定電圧はV から までのss  
      cc 全波V もしくはそれよりも小さいV がらcc   
                       5s
(VC6−Vt)までとすることができる。線128で
示すようにノード122上の電圧は選定セルがプログラ
ムされておれば(フローティングゲート充電)トランジ
スタ10′がターンオンしないため、線129で示すR
h電圧により定まるレベルとなる。一方選定トランジス
タ10′が消去されておれば選定行#213上の電圧1
27がトランジスタ10′のしきい値電圧を越える時間
130においてノード122は放電開始する。、電圧1
27が増大し続けるとトランジスタ10’を流れる電流
が増加しノード122Fの電圧は曲線131で示すよう
にRhレベルに依存するレベルで平坦になるまで増加す
る。Rhが低過ぎるとノード122はずっと接地され列
線がずっと充電されなければならないため、それは必要
以上であって好ましくない。Rhが高過ぎるとレベル1
28が高過ぎて■。、付近となる。v rerは(プロ
グラムされたトランジスタ10′に対する)電圧レベル
132と(消去されたトランジスタ10’に対するノー
ド122の最終レベルである)レベル133との間の中
間レベルであることが判る。
第2負荷トランジスタ125および基準電圧R1のは能
は装置がパワーダウンモードである時間中に第11a図
の正規レベル134よりも高いレベルにV rerをオ
フセットすることである。その理由はパワーダウンモー
ドにおいては全ての行線13および仮想接地選定77が
vssであり、そのため全ての列線105が最大レベル
にあるためである。パワーダウンモードを終ると選定列
線105は選定セル10′の状態に応じて放電したり放
電しないことができる。列線105が放電しないと(即
ち選定セル10’がプログラムされていると)妥当なデ
ータが既に線106に存在する。
選定!105が放電開始すると(即ら選定セル10′が
消去されていると)、線105がVrcr値以下となる
までセンス増幅器17の入力の線106には妥当なデー
タが存在しない。R1と負荷125の機能はVrefを
正規よりも高くすることであり、そのため列線105は
曲線131に沿って放電すると早期にV refレベル
134を交差して早期に妥当データを感知することがで
きる。
パワーアップ状態において負荷トランジスタ121′は
Vrcfを制御し、R1はRhの直流レベルよりも小さ
い直流レベルである。こうしてパワーアップ状態下にお
いてVrer発生器内のトランジスタ125はカットオ
フされV ratはRhのみにより制御される。装置が
パワーダウンモードであるとR1はRhレベル129よ
りも高くなり負荷トランジスタ125が制御を行ってv
rcfは一層高くなる。パワーダウンモードの終了と共
にRC遅延によりR1が一層低くなると第2負荷125
はゆるやかにターンオフする。このゆるやがなターンオ
フはV refがあまりにも迅速に正規に戻るのを抑え
るために必要であるが、Vrefはアクセス時間内に正
規レベル134付近でなければならずそのためローから
ハイへの列線移行を感知する以降のサイクルは異常にゆ
るやかであってはならない。
RhおよびR1の発生に使用する回路を第11図に示す
。Rhは3個のトランジスタと、ディプレッション負荷
135と、低しきい値装置136とエンファンスメント
トランジスタ137を有する分割器の発生する固定レベ
ル129である。出力ノード124はRhレベルである
。大きさの異なる同様の1組のトランジスタ135−1
37が線138上にR1レベルを発生し、パワーダウン
のためにはトランジスタ135と並列なトランジスタ1
39がターンオンしてR1の電圧を高める。
このため信@CFはローとなりトランジスタ140をタ
ーンオフしてノード141はディプレッション負荷14
2によりVccとされる。MOSダイオード対143は
抵抗器として働き、パワーダウンモードが存在する限り
トランジスタ139のゲートはVCc付近に保存される
。パワーダウン終了時にCECはハイとなり、ノード1
41はローとなり、トランジスタ139のゲートは抵抗
器143と、MOSコンデンサ144のRC回路の時定
数に従って放電する。
センス増幅器17は本技術に習熟した人なら知っている
多くの差動増幅器のいずれかとすることができる。例え
ば差動増幅器回路を第11図に示し、それをセンス増幅
器として使用することができる。この回路はディプレッ
ション負荷トランジスタ146と共にドライバトランジ
スタ145の平衡対からなっている。トランジスタ14
7は両方のドライバトランジスタを接地し、ゲート上に
バイアスを有してそれを電流源として作動させる。
1人力148は出力線106により選定列線1゜5上の
ノード122へ接続されており、他方の入力149はノ
ード122′即ちy rar電圧t、: 接Hされてい
る。出力150,151は入力148゜149上の電圧
差の極性に応じてV もしくはC ■ になろうとする。通常第11図に示ず回路のSS 数段がカスケード接続されて高利得センス増幅器を形成
する。即ち出力150,151は次段152の入力14
8.149へ接続され以下同様である。最終出力11は
最終段の線150もしくは151の中の1本であり、全
波論理レベルを示す。
差動センス増幅器は電流ではなく電圧を感知している・
ということは重要である。ノード122もしくは122
′上の電圧は入力トランジスタ145のゲートのみを充
電するだけでよく、この移行以外に大きな電流ローディ
ングはない。こうして異なる選定機構を使用すればY選
定トランジスタ16−2や他のデコード1−ランジスタ
には電圧降下は生じない。
全ての線105が負荷121が介して充電され全ての接
地線107が負荷108を介して充電される。読取サイ
クル中に選定された列線105のみが放電され、これら
は必ずしも接地されない。
パワーダウン状態において全てのX選定線13が接地さ
れ且つ全ての接地選定線77も接地され、そのため列線
105は放゛市されず直流電力は消失しない。全ての列
線105は第11a図のバイアス点128に保持されて
おり、そのためパワーダウン終了時にアレイのプリチャ
ージに遅延はない。
パワーダウン終了時のアクセス時間は正規動作の場合と
同じでなければならない。
飽和領域において充分に高いドレーン103およびゲー
ト101!圧で作動する時のみプログラムを行うことが
フローティングゲート装置10′の特徴である。装置は
線型モードではプログラムを行わない。プログラミング
電圧を仮想接地アレイに加える場合、プログラムされる
選定装置10′のみが充分に高い電圧を飽和領域で受信
するように注意しなければならない。
第12図に高電圧プログラミング制御回路の回路図を示
す。ビン20上の■1.がおよそ+21Vのハイ電圧レ
ベルになると5個のトランジスタ154で形成された分
圧器がノード155上に電圧を発生し、2個のインバー
タ156をスイッチして線157上に書込みイネーブル
指令WEを発生する。こうしてV、DがローであればW
Eがローであり、vp、がハイレベルであればWEはハ
イである。またWE指令は他のインバータにより発生す
る。論理回路158はビン21.22からのチップ選定
C8およびパワーダウン/プログラムPD/1”π■指
令と共にWE(もしくはτ丁)指令を受信し、それに応
答して線159内にプログラムイネーブル指令PEを発
生する。■2.がハイである時プログラムイネーブル指
令はアクティブローであり、O8とPD/PGMは論理
Oである、またビン21.22の一方もしくは両方がハ
イであればプログラム抑止状態が存在しPEはハイであ
る。トランジスタ160はゲート上にPE指令を受信し
直列負荷と共にノード161上に出力を発生するが、そ
れは第5図の行アドレス出力13のハイ電圧回路に使用
されるVPR指令である。
こうしてPEがローであるとノード161は■、。
付近となり256本の行線13の256個の全てのトラ
ンジスタ72をターンオンする。またノード161は分
圧器内の4個のトランジスタ163と直列のトランジス
タ162のゲートを駆動し、分圧器はインバータ164
と共にトランジスタ165のゲート上に電圧を発生して
vPCを発生ずる。トランジスタ165およびショート
トランジスタ167と直列な自然ディプレッショントラ
ンジスタ166はノード168上に電圧を発生ずるが、
それはPEがローの時はハイで■、り付近でありVPR
がハイであるため幾分遅延している。第6図および第7
図に示すように高電圧回路の接地選定および列出力選定
用の全ての177.79の各トランジスタにvPCが印
加される。
選定列線105にハイ電圧入力データを加えるプログラ
ミング回路を第11図に示す。8ビン11の各々は8個
の別々のデータインバッファ170の中の1個に接続さ
れており、データインバッファ170は線159上のP
Eがローの時のみ作動可能とされる。バッファ170の
出力は2個の直列負荷172.173を有するドライバ
トランジスタ171を有するインバータ段を含む高電圧
回路により各線106に接続されており、データインピ
ットがローの時トランジスタ174.175のゲートに
ハイ電圧を発生する。これによりV、−圧がI!J17
6を介して線106へ印加される。ハイ電圧回路内のト
ランジスタ177は前記トランジスタ71と同様に働く
。アレイ放電指令ARDがハイの時トランジスタ178
は線176を接地させる。
動作上プログラミング回路はプログラミングモードにお
いて各群内の1個のセルのみにハイ電圧を加えるように
働くが、他のモードではハイ電圧はない。vl、はハイ
に保持することができるため外部回路でこのハイ電圧を
急速にスイッチさせる必要はなく、高価な回路ではこの
外部回路が必要なため望ましくない過渡現象を生じる。
装置が選定解除されると(パワーダウンモードであると
)ノード159上の指令PEはハイであり、VPRとV
PCをトランジスタ160,167を介して大地電圧に
保持する。次にハイ電圧供給はロー状態からハイ状RV
 、、とされ、このハイ電圧がノード155で感知され
たWEが発生する。プログラミングシーケンスの継続期
間中Vp、はハイのままである。O8により装置が選定
され(即ちパワーアップ)PD/PGMがローとなって
WEがハイであると、プログラミングモードに入りPE
はローとなる。VPRがハイとなる前に選定線を除く全
ての列線105および仮想接地線107はロードトラン
ジスタ108.121によりVCC付近の正規バイアス
となる。選定行線13は■Ccであるがこの線上の全て
のセル10′はトリオードiFIノ作を行っており、た
とえデータインピットがローで線106が線176を介
してハイに充電してもプログラミングは生じない。選定
トランジスタ16−2等はゲート上にV。Cのみを有す
るため線105をv、l)付近の電圧に到達させない。
ここでノード161上のVPR指令はディプレッション
負荷を介してvppレベルに向って充電開始し、VPC
はトランジスタ165により大地電圧に保持される。ノ
ード161上のVPRがおよそ10V以上に上昇すると
タイミング回路162−164はVPCを解除し始める
。VPRがVl、に達するのにおよそ10μsを要し、
VFRの上昇開始後■PCが変化し始めるまでの遅延は
およそ1.5μsである。選定行線13は選定列線10
5よりも早くプログラミング電圧に到達し、そのため選
定行内の全てのトランジスタ10′のソース・ドレーン
径路は非常に導電性となり(フローティングゲートが予
め充電されているか否かにかかわらず)、1列がハイと
なる前に平衡充電共有状態に到達する。次にVPCがv
9.付近となる時データインがロー即ち論理Oであると
仮定すると、選定線79上にハイ電圧が生じ、線106
からのハイ電圧は選定線105に到達することができる
。この選定線105電圧はvp、に向って上昇するため
、隣接する非選定列線105および仮想接地線■DOは
線13上の制御ゲートのハイ電圧により引上げられる。
しかしながら選定セル108′のみが充分な電圧で飽和
してプログラムを行い、選定セル10a’からの選定列
線105の他方側のセル1ob′も飽和するが、ソース
ノード111bに大きな電圧を有するためプログラムす
るのに充分なほど導通することができない。一方セル1
0C′のソースはノード111aにおいてトランジスタ
15−2を介して接地されており、ゲートは線13を介
してvo、であるが、ドレーンは負荷121を介してV
。C付近であるため、このセルはプログラムを行わない
。VFRとVPCは50mAまでのハイであるが、中間
レベル酸化物119を介してプログラミング解除する傾
向がある。(選定ノード111aを除く)全ノード11
1の充電により所与の行内のセル10’以外でこの酸化
物にかかる電圧はローとされるためこの傾向は著しく低
減する。プログラミング解除効梁が低減するのは1本の
線107のみが接地されるため他のノードが充電するこ
とができ、選定セル10a′以外のセルのゲート対ソー
スもしくはドレーン電圧が低減するためである。選定セ
ルが充分な時間(多分10〜50m5)プログラミング
電圧に保持されるとPD/PGM (即ちC8)電圧は
ハイとなってPEがハイとなり、トランジスタ160,
167をターンオンしてVPRおよびvPCがローとな
る。この点において選定列線105上のハイ電圧を慎重
に取り除かなければならない。もし記憶セルを介して大
アレイ容量が放電されると選定されないセル内にプログ
ラミングを生じる。このためブリーダトランジスタ17
8は選定トランジスタ16−2等と共通線106を介し
て共通線から余分な電圧を除去する径路を提供する。仮
想接地線107上の余分な電圧は列線上のバイアスによ
る寄生プログラミング障害を表わさない。アレイ放電電
圧ARDは木質的にPD/PGMと相補的であるが、■
 がハイの時にのみ生じるためプログp ラム抑止動作モードで生じる。装置はプログラム抑止期
間中にパワーダウンとなる。
第1図の全てのシステムを含む半導体装置は前記特許第
4.112.509号もしくは第4,112.544号
に記載したように2重レベルポリシリコン、NチAアネ
ル、セルファラインプロセスで作られており、二重拡散
ステップを有利に採用して1979年9月4日付テキサ
スインスツルメントの特許出願S、N、072,504
号に開示されたプログラミングエンファンスメントP+
1i域を発生する。
使用するプロセスに発生された標準エンファンスメント
モードMOSトランジスタ(第5図等の40.41.4
9)LtV。Cを+5Vと仮定スルとおよそ+0.8〜
1.0■のしきい値電圧を有しこのしきい値はホトレジ
ストで保護された自然トランジスタの通常のブランケッ
トホウ素注入の結果である。自然トランジスタ45.4
8.54等は注入が行われておらずおよそ+0.2〜+
0.3Vのしきい値を右し、低いソース対ドレーン電圧
降下を生じそれは図示する回路の多くの部分で右利であ
る。第3タイプの]・ランジスタは42.47.50等
の標準ディプレッショントランジスタであり、標準エン
ファンスメント装置に対してブランケットホウ素注入が
行われているが、選定N型注入を受入れておよそ−3,
4vのしきい値を発生する。第4タイプは゛自然ディプ
レッション″装置でありホウ素注入ではな(N型注入を
受入れるためおよそ−3,8〜−4,0vのしきい値を
有し、これらの装置は例えばハイ電圧回路トランジスタ
73.74として使用される。
前記したデコーディング回路は単にEPROMではなく
ROMや読取/書込メモリ等の他のタイプのメモリ装置
で使用することができる。同様に入力バッファのみなら
ずセンス回路とパワーダウンの特徴も伯のタイプの装置
で有用である。
従って本発明を実施例について説明してきたがこの説明
は限定された意味で解釈されるものではない。本発明の
他の実施例やさまざまな修正は本技術に習熟した人には
本説明を見れば明らかである。特許請求の範囲は本発明
の真の範囲内に入るこのような修正や実施例を全てカバ
ーしている。
[発明の効果] 本発明によれば電源消費の少ないパワーダウンモードが
得られ、更にパワーダウンモードから速かに動作モード
に復帰することのできる記憶装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の特徴を使用したフ[1−ティングゲー
トEPROM型半導体メモリ装置の電気的ブロック図、
第2図および第2′図は第1図のさまざまな点における
電圧を時間の関数として示すタイミング図、第3図は第
1図の装置に使用する入力バッファの電気回路図、第4
図は第1図の装置に使用するプリデコーダ回路の電気回
路図、第4a図はAOおよびA1ビットの入力バッファ
、第5図は第1図の装置に使用する行デコーダおよび選
定回路の電気回路図、第6図は第1図の装置の仮想接地
選定に使用するデコーダの電気回路図、第7図は第1図
のシステムに使用する列選定デコーダの電気回路図、第
8図は第1図の装置のセルアレイの電気回路図、第9図
は第1図の装置のセルアレイの物理的レイアウトを示す
半導体チップの小部分の拡大図、第10図A−Dは第9
図の線A−A、B−B、C−C,D−Dに沿った断面立
面図、第11図は第1図の装置のセンス増幅器および基
準電圧発生器の電気回路図、第11a図は列線のバイア
ス点、第12図は高電圧プログラミング制御回路の回路
図である。 15・・・接地選定 16・・・列選定 17・・・センスアンプおよびデータインバッファ23
・・・制御およびクロック発生器 3o・・・入力バッファ 32・・・プリデコーダ 33・・・共有デコーダ 35・・・64中1行デコーダ 37・・・マルチブレクス 76・・・9中1接地選定 78−・・8中1列選定

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(イ)差動センス増幅器と、 (ロ)行列状に且つ第一と第二の行線の組に交互に配置
    されたトランジスタ記憶セルと、 (ハ)前記第一の組の行のそれぞれを前記差動センス増
    幅器の一方の入力に選択的に接続するための手段と、 (ニ)前記第一の組の行のそれぞれを供給電圧に接続す
    るための第一の負荷手段と、 (ホ)前記第二の組の行のそれぞれを別々に前記供給電
    圧に接続するための第二の負荷手段と、(ヘ)前記差動
    センス増幅器の他方の入力に接続された基準ノードと、 (ト)前記第一負荷手段に対応し前記参照ノードを前記
    供給電圧に接続し前記トランジスタ記憶セルのプログラ
    ム状態の電圧と消去状態の電圧との間のほぼ中間の基準
    電圧を生成するための第一のダミー負荷手段と、 (チ)前記第一のダミー負荷手段と並列に接続された第
    三の負荷手段と、 (リ)前記基準ノードを前記トランジスタ記憶セルに対
    応するダミー記憶セルを介して前記供給電圧に接続する
    ための第二のダミー負荷手段と、(ヌ)低電力消費状態
    の間前記第三負荷手段を動作させるための手段とを有す
    ることを特徴とする低電力消費記憶装置。
  2. (2)前記低電力消費状態において抵抗と容量によるR
    C時間遅延に基いて前記第三負荷手段のインピーダンス
    を増加するための手段を含むことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の低電力消費記憶装置。
JP62125660A 1980-02-04 1987-05-22 低電力消費記憶装置 Granted JPS63127496A (ja)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11834880A 1980-02-04 1980-02-04
US118348 1980-02-04
US118349 1980-02-04
US118288 1980-02-04
US118287 1980-02-04
US118350 1980-02-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63127496A true JPS63127496A (ja) 1988-05-31
JPH0234119B2 JPH0234119B2 (ja) 1990-08-01

Family

ID=22378028

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1554981A Granted JPS56156985A (en) 1980-02-04 1981-02-04 Decoder
JP62125660A Granted JPS63127496A (ja) 1980-02-04 1987-05-22 低電力消費記憶装置
JP62125659A Granted JPS63239689A (ja) 1980-02-04 1987-05-22 記憶装置
JP62125658A Pending JPS63239691A (ja) 1980-02-04 1987-05-22 半導体メモリバッファ

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1554981A Granted JPS56156985A (en) 1980-02-04 1981-02-04 Decoder

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62125659A Granted JPS63239689A (ja) 1980-02-04 1987-05-22 記憶装置
JP62125658A Pending JPS63239691A (ja) 1980-02-04 1987-05-22 半導体メモリバッファ

Country Status (1)

Country Link
JP (4) JPS56156985A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1093057A (ja) * 1996-08-30 1998-04-10 Hyundai Electron Ind Co Ltd メモリセルアレー
JP2010176731A (ja) * 2009-01-27 2010-08-12 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリ

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5979492A (ja) * 1982-10-29 1984-05-08 Hitachi Micro Comput Eng Ltd Eprom装置
JPS6050697A (ja) * 1983-08-30 1985-03-20 Toshiba Corp 半導体集積回路
JPH0666115B2 (ja) * 1983-09-26 1994-08-24 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP3102642B2 (ja) * 1989-01-09 2000-10-23 日本電信電話株式会社 アドレスデコーダ
JP4717983B2 (ja) * 2000-06-14 2011-07-06 株式会社日立製作所 省消費電力型メモリモジュール及び計算機システム

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50117325A (ja) * 1974-01-11 1975-09-13
JPS51128234A (en) * 1975-04-30 1976-11-09 Toshiba Corp Mos-type semi-conductor memory
JPS51140442A (en) * 1975-05-13 1976-12-03 Ncr Co Memory circuit
JPS5484936A (en) * 1977-12-20 1979-07-06 Fujitsu Ltd Decoder circuit
JPS5484935A (en) * 1977-12-20 1979-07-06 Fujitsu Ltd Address selection circuit
JPS54136239A (en) * 1978-04-14 1979-10-23 Nec Corp Integrated circuit
JPS54152930A (en) * 1978-05-24 1979-12-01 Hitachi Ltd Address decoder circuit

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5727545B2 (ja) * 1972-11-06 1982-06-11
JPS5011632A (ja) * 1973-06-01 1975-02-06
JPS57667B2 (ja) * 1974-05-11 1982-01-07
JPS5747515B2 (ja) * 1974-09-30 1982-10-09
JPS5154788A (ja) * 1974-11-08 1976-05-14 Nippon Electric Co
JPS5612956B2 (ja) * 1975-09-01 1981-03-25
JPS53108247A (en) * 1976-12-27 1978-09-20 Texas Instruments Inc Electrically programmable floating gate semiconductor memory

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50117325A (ja) * 1974-01-11 1975-09-13
JPS51128234A (en) * 1975-04-30 1976-11-09 Toshiba Corp Mos-type semi-conductor memory
JPS51140442A (en) * 1975-05-13 1976-12-03 Ncr Co Memory circuit
JPS5484936A (en) * 1977-12-20 1979-07-06 Fujitsu Ltd Decoder circuit
JPS5484935A (en) * 1977-12-20 1979-07-06 Fujitsu Ltd Address selection circuit
JPS54136239A (en) * 1978-04-14 1979-10-23 Nec Corp Integrated circuit
JPS54152930A (en) * 1978-05-24 1979-12-01 Hitachi Ltd Address decoder circuit

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1093057A (ja) * 1996-08-30 1998-04-10 Hyundai Electron Ind Co Ltd メモリセルアレー
JP2010176731A (ja) * 2009-01-27 2010-08-12 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリ

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0234119B2 (ja) 1990-08-01
JPH0472320B2 (ja) 1992-11-17
JPS63239689A (ja) 1988-10-05
JPS6364000B2 (ja) 1988-12-09
JPS63239691A (ja) 1988-10-05
JPS56156985A (en) 1981-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4387447A (en) Column and ground select sequence in electrically programmable memory
US5313432A (en) Segmented, multiple-decoder memory array and method for programming a memory array
US4301518A (en) Differential sensing of single ended memory array
KR100271858B1 (ko) 반도체집적회로장치
US5587960A (en) Integrated circuit memory device with voltage boost
JP3181845B2 (ja) 下位ワードライン駆動回路及びこれを利用した半導体メモリ装置
JP3905979B2 (ja) 不揮発性半導体メモリ
US5654918A (en) Reference circuit for supplying a reference level for sensing in a memory
EP0809186B1 (en) Method and apparatus of redundancy for non-volatile memory integrated circuits
US20010040834A1 (en) Semiconductor integrated circuit device having a hierarchical power source configuration
JPH03171495A (ja) 論理アレイのビット線セグメンテーション
JPH1083682A (ja) 低い電源電圧での動作に適したメモリおよびそのためのセンスアンプ
EP0145488A2 (en) Semiconductor memory device
JP2001052486A (ja) フラッシュメモリ装置及びそのプログラム方法
US4818900A (en) Predecode and multiplex in addressing electrically programmable memory
JPH0737396A (ja) 負電圧ワードラインデコード方法およびそれを採用したeeprom
US4314362A (en) Power down sequence for electrically programmable memory
US4344154A (en) Programming sequence for electrically programmable memory
JP4916084B2 (ja) フラッシュメモリにおけるワード線デコーディングアーキテクチャ
JP3743780B2 (ja) フラッシュメモリ装置のロ―デコ―ダ
JPS63127496A (ja) 低電力消費記憶装置
US5506803A (en) Apparatus and method for minimizing verify time in a semiconductor memory by constantly charging n-well capacitance
US4878201A (en) Semiconductor memory device having an improved timing signal generator for the column selection circuit
US6493268B1 (en) Circuit device for performing hierarchic row decoding in non-volatile memory devices
US5999479A (en) Row decoder for nonvolatile memory having a low-voltage power supply