JPS63107835A - 光フアイバの製造方法 - Google Patents
光フアイバの製造方法Info
- Publication number
- JPS63107835A JPS63107835A JP25183786A JP25183786A JPS63107835A JP S63107835 A JPS63107835 A JP S63107835A JP 25183786 A JP25183786 A JP 25183786A JP 25183786 A JP25183786 A JP 25183786A JP S63107835 A JPS63107835 A JP S63107835A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tube
- quartz glass
- glass tube
- optical fiber
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 49
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 21
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 4
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 8
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 3
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000005306 natural glass Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
- C03B37/01426—Plasma deposition burners or torches
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01211—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
- C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は光ファイバの製造方法に係り、特に高強度の光
ファイバを得ることができる製造方法に関する。
ファイバを得ることができる製造方法に関する。
[従来の技術l
光ファイバの製造法の一つとして■ΔD法がある。この
方法は、火炎加水分解反応を用いてコアロッドを作成し
た後、このコアロッドを石英ガラス管内に挿入して電気
炉で加熱延伸する方法である。
方法は、火炎加水分解反応を用いてコアロッドを作成し
た後、このコアロッドを石英ガラス管内に挿入して電気
炉で加熱延伸する方法である。
このようにして製造した光ファイバの強度はファイバ表
面の傷によって大きく影響され、マイクロクラック等の
微小な傷により断線する場合が生じてくる。第4図に従
来の方法により製造された光ファイバのワイブル分布を
示す。この図かられかるように2〜3に9fの張力でも
破損する低強度部が存在していた。
面の傷によって大きく影響され、マイクロクラック等の
微小な傷により断線する場合が生じてくる。第4図に従
来の方法により製造された光ファイバのワイブル分布を
示す。この図かられかるように2〜3に9fの張力でも
破損する低強度部が存在していた。
そこで、表面に傷のない光ファイバを製造するためには
、予め石英ガラス管にファイヤポリシュを施して石英ガ
ラス管表面から傷を除去することが有効であるが、特に
傷を完全に取り除こうとすると火力を強くしたファイヤ
ポリシュを多数回行なう必要がある。
、予め石英ガラス管にファイヤポリシュを施して石英ガ
ラス管表面から傷を除去することが有効であるが、特に
傷を完全に取り除こうとすると火力を強くしたファイヤ
ポリシュを多数回行なう必要がある。
また、石英ガラス管として天然ガラス管を用いた場合、
この天然ガラス管には一般に気泡が含まれているので、
気泡が外表面近傍に存在するとこれが原因して断線を生
じることがある。
この天然ガラス管には一般に気泡が含まれているので、
気泡が外表面近傍に存在するとこれが原因して断線を生
じることがある。
[発明が解決しようとする問題点]
このように従来は光フアイバ製造用の石英ガラス管表面
に存在する傷や気泡に起因して光ファイバが断線する恐
れがあった。また、石英ガラス管表面から傷を取り除く
ためには大きな時間と手間を要していた。
に存在する傷や気泡に起因して光ファイバが断線する恐
れがあった。また、石英ガラス管表面から傷を取り除く
ためには大きな時間と手間を要していた。
かくして本発明の目的は上記従来技術の問題点を解消し
、石英ガラス管表面に存在する傷や気泡の影響を最小限
に抑えて高強度の光ファイバを得ることができる光ファ
イバの製造方法を提供することにある。
、石英ガラス管表面に存在する傷や気泡の影響を最小限
に抑えて高強度の光ファイバを得ることができる光ファ
イバの製造方法を提供することにある。
[問題点を解決するための手段コ
本発明の光ファイバの製造方法は上記目的を達成するた
めに、石英ガラス管の外周面に火炎加水分解反応によっ
て発生したガラス微粒子を堆積させ、これを焼結して合
成ガラス膜を形成した後、上記石英ガラス管内にコアロ
ッドを挿入してこれらを加熱延伸する方法である。
めに、石英ガラス管の外周面に火炎加水分解反応によっ
て発生したガラス微粒子を堆積させ、これを焼結して合
成ガラス膜を形成した後、上記石英ガラス管内にコアロ
ッドを挿入してこれらを加熱延伸する方法である。
[作 用]
このように、予め石英ガラス管の外周面にVAD法によ
ってガラス微粒子(以下、スートとする)を堆積し、さ
らに焼結して良質の合成ガラス膜を形成することにより
、使用した石英ガラス管の表面部に微小な傷や気泡が存
在してもこれらを合成ガラス膜が覆ってしまうので、傷
や気泡による影響を最小限に抑えることができる。すな
わち、高強度の光ファイバが得られる。
ってガラス微粒子(以下、スートとする)を堆積し、さ
らに焼結して良質の合成ガラス膜を形成することにより
、使用した石英ガラス管の表面部に微小な傷や気泡が存
在してもこれらを合成ガラス膜が覆ってしまうので、傷
や気泡による影響を最小限に抑えることができる。すな
わち、高強度の光ファイバが得られる。
なお、合成ガラス膜を形成する前に予め石英ガラス管に
プラズマ炎により表面処理を施せば、石英ガラス管表面
の微小な(セが除去されるのでより一層高強度の光ファ
イバが得られる。
プラズマ炎により表面処理を施せば、石英ガラス管表面
の微小な(セが除去されるのでより一層高強度の光ファ
イバが得られる。
また、合成ガラス形成時に石英ガラス管内に酸素ガスあ
るいは塩素ガスを流すと、管内の異物が酸化処理され、
管内から取り除かれる。さらに、金属不純物の除去やl
]IOH化の効果があり、石英ガラス管の品質向上が図
られる。
るいは塩素ガスを流すと、管内の異物が酸化処理され、
管内から取り除かれる。さらに、金属不純物の除去やl
]IOH化の効果があり、石英ガラス管の品質向上が図
られる。
[実施例]
以下、本発明の実施例について添付図面を参照して説明
する。
する。
実施例1
第1図は本発明の一実施例に係る光ファイバの製造方法
を実施する製造装置の断面図である。
を実施する製造装置の断面図である。
図中、1は石英ガラス製のプラズマ発振管であり、この
発振管1の外周にこれを囲繞するように多府の高周波コ
イル2が設けられている。また、高周波コイル2の上か
ら第1層目と第2層目の間で且つ発振管1の1直径上に
位置する一対の反応ガス導入管3が発振管1の外側部に
設けられている。発振管1はその開放されている底部に
おいてチャンバ4上に固設されており、このチャンバ4
内をガラス旋15に取り付けられた石英ガラス管6が水
平に貫通している。ガラス旋盤5は石英ガラス管6をそ
の中心軸のまわりに回転させると共にベットγ上を水平
方向に移動可能であり、これによって石英ガラス管6は
回転しながらチャンバ4内を水平方向に移動する。また
、チャンバ4の下部には排気口8が設けられている。
発振管1の外周にこれを囲繞するように多府の高周波コ
イル2が設けられている。また、高周波コイル2の上か
ら第1層目と第2層目の間で且つ発振管1の1直径上に
位置する一対の反応ガス導入管3が発振管1の外側部に
設けられている。発振管1はその開放されている底部に
おいてチャンバ4上に固設されており、このチャンバ4
内をガラス旋15に取り付けられた石英ガラス管6が水
平に貫通している。ガラス旋盤5は石英ガラス管6をそ
の中心軸のまわりに回転させると共にベットγ上を水平
方向に移動可能であり、これによって石英ガラス管6は
回転しながらチャンバ4内を水平方向に移動する。また
、チャンバ4の下部には排気口8が設けられている。
次に、このような製造装置によって光ファイバを製造す
る方法の具体例を説明する。
る方法の具体例を説明する。
まず、石英ガラス管6として外径20M 、厚さ4間の
ガラス管を用い、プラズマガス発生源(図示せず)から
プラズマガスとしてArおよび02を発振管1の上部か
ら管内に流し、このガス流を高周波コイル2で放電させ
てAr102プラズマ炎9を生成する。
ガラス管を用い、プラズマガス発生源(図示せず)から
プラズマガスとしてArおよび02を発振管1の上部か
ら管内に流し、このガス流を高周波コイル2で放電させ
てAr102プラズマ炎9を生成する。
この状態で、回転導入端子10から石英ガラス管6内に
流量1J/l1linの02を流ずと共に石英ガラス管
6をガラス旋15によって回転数30rpmで回転しな
がら水平方向に速度70ay/l1linで1回移動さ
せて石英ガラス管6をプラズマ炎9で表面処理した。そ
の後、プラズマ炎9に反応ガス導入管3カラ反応カスと
して流(it 500mg/winの5ilJ4をAr
キャリアで供給すると共に石英ガラス管6を前回と同様
の回転数及び速度で5回移動させた。このようにして、
石英ガラス管6の外周面上に厚さ60−のSiO2膜を
形成した。
流量1J/l1linの02を流ずと共に石英ガラス管
6をガラス旋15によって回転数30rpmで回転しな
がら水平方向に速度70ay/l1linで1回移動さ
せて石英ガラス管6をプラズマ炎9で表面処理した。そ
の後、プラズマ炎9に反応ガス導入管3カラ反応カスと
して流(it 500mg/winの5ilJ4をAr
キャリアで供給すると共に石英ガラス管6を前回と同様
の回転数及び速度で5回移動させた。このようにして、
石英ガラス管6の外周面上に厚さ60−のSiO2膜を
形成した。
以上のようにして5102膜が被覆された石英ガラス管
6内にコアロッドを挿入してこれらを電気炉(図示せず
)にて加熱延伸し、光ファイバを得た。
6内にコアロッドを挿入してこれらを電気炉(図示せず
)にて加熱延伸し、光ファイバを得た。
そして、製造された光ファイバのワイブル分布を測定し
たところ、第2図に示すような結果が得られた。すなわ
ち、最も低強度の部分でも6Kgf以上の張力に耐え、
高強度化が達成されたことがわかる。
たところ、第2図に示すような結果が得られた。すなわ
ち、最も低強度の部分でも6Kgf以上の張力に耐え、
高強度化が達成されたことがわかる。
なお、回転導入端子10から石英ガラス管6内に供給し
た02の代わりに塩素ガスを用いることもできる。
た02の代わりに塩素ガスを用いることもできる。
実施例2
プラズマ炎ではなく第3図に示すように酸水素バーナを
用いて石英ガラス管の外周面上に合成ガラス膜を形成し
た。
用いて石英ガラス管の外周面上に合成ガラス膜を形成し
た。
まず、チャック31に外径20JIl、厚さ31Mの石
英ガラス管32を鉛直に装着した。そして、4重管構造
の酸水素バーナ33の第1層目(中心部)から流Ji
300Rg/sinの5iCfL4を^rキャリアテ、
第2層目から3.12/n+inのH2を、第3層目か
ら2fl/n+inの八rを、第4層目から6.1!/
1Ilinの02をそれぞれ供給すると共に石英ガラス
管32を回転数2゜rpmで回転しながら速度601m
/Itで引き上げた。このようにして、火炎加水分解反
応を起こさせ、石英ガラス管32の外周部に20s+F
Jのスート34を外付けした。その後、これをlie雰
囲気中で加熱・透明化し、厚さ0.5a+#+の合成ガ
ラス膜を形成した。
英ガラス管32を鉛直に装着した。そして、4重管構造
の酸水素バーナ33の第1層目(中心部)から流Ji
300Rg/sinの5iCfL4を^rキャリアテ、
第2層目から3.12/n+inのH2を、第3層目か
ら2fl/n+inの八rを、第4層目から6.1!/
1Ilinの02をそれぞれ供給すると共に石英ガラス
管32を回転数2゜rpmで回転しながら速度601m
/Itで引き上げた。このようにして、火炎加水分解反
応を起こさせ、石英ガラス管32の外周部に20s+F
Jのスート34を外付けした。その後、これをlie雰
囲気中で加熱・透明化し、厚さ0.5a+#+の合成ガ
ラス膜を形成した。
以上のようにして合成ガラス膜が被覆された石英ガラス
管32をファイヤポリシュした後、管内にコアロッドを
挿入してこれらを電気炉(図示せず)にて加熱延伸し、
光ファイバを製造した。この光ファイバのワイブル分布
を測定したところ、実施例1で作成した光ファイバと同
様の分布を示すことがわかった。すなわち、高強度の光
ファイバが得られた。
管32をファイヤポリシュした後、管内にコアロッドを
挿入してこれらを電気炉(図示せず)にて加熱延伸し、
光ファイバを製造した。この光ファイバのワイブル分布
を測定したところ、実施例1で作成した光ファイバと同
様の分布を示すことがわかった。すなわち、高強度の光
ファイバが得られた。
なお、この実施例2の如く酸水素バーナにより石英ガラ
ス管の外周面上にスートを堆積する方法を用いれば、ス
ート厚を制御することによって所望の肉厚のガラス管を
製造することができるので、シングルモード光ファイバ
の製造においてコアロッドとガラス管との組合わせによ
るカットオフ波長の設計が容易となる。
ス管の外周面上にスートを堆積する方法を用いれば、ス
ート厚を制御することによって所望の肉厚のガラス管を
製造することができるので、シングルモード光ファイバ
の製造においてコアロッドとガラス管との組合わせによ
るカットオフ波長の設計が容易となる。
[発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、次の如き優れた効
果が発揮される。
果が発揮される。
(1) 石英ガラス管表面部に微小な傷や気泡が存在
していても、これらの影響を最小限に抑えて高強度の光
ファイバを製造することができる。
していても、これらの影響を最小限に抑えて高強度の光
ファイバを製造することができる。
[2) 従って、本発明は今後ともますます発展が期
待される光通信技術分野及び光計測技術分野等において
有用なものとなる。
待される光通信技術分野及び光計測技術分野等において
有用なものとなる。
第1図は本発明の一実論例に係る光ファイバの製造方法
を実施するための製造装置の構成図、第2図は実施例に
より作成された光ファイバのワイブル分布図、第3図は
他の実施例を実施するための製造装置の構成図、第4図
は従来の方法により作成された光ファイバのワイブル分
布図である。 図中、1はプラズマ発振管、6は石英ガラス管、9はプ
ラズマ炎である。
を実施するための製造装置の構成図、第2図は実施例に
より作成された光ファイバのワイブル分布図、第3図は
他の実施例を実施するための製造装置の構成図、第4図
は従来の方法により作成された光ファイバのワイブル分
布図である。 図中、1はプラズマ発振管、6は石英ガラス管、9はプ
ラズマ炎である。
Claims (3)
- (1)石英ガラス管の外周面に火炎加水分解反応によつ
て発生したガラス微粒子を堆積させ、これを焼結して合
成ガラス膜を形成した後、上記石英ガラス管内にコアロ
ッドを挿入して、これらを加熱延伸することを特徴とす
る光ファイバの製造方法。 - (2)上記石英ガラス管が予めプラズマ炎により表面処
理されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の製造方法。 - (3)上記合成ガラス膜の形成時に上記石英ガラス管内
に酸素ガスあるいは塩素ガスを流すことを特徴とする特
許請求の範囲第1項または第2項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25183786A JPS63107835A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25183786A JPS63107835A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 光フアイバの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63107835A true JPS63107835A (ja) | 1988-05-12 |
Family
ID=17228661
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25183786A Pending JPS63107835A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63107835A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103224318A (zh) * | 2013-04-14 | 2013-07-31 | 久智光电子材料科技有限公司 | 一种低羟基大直径大长度实心石英砣的制备方法 |
-
1986
- 1986-10-24 JP JP25183786A patent/JPS63107835A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103224318A (zh) * | 2013-04-14 | 2013-07-31 | 久智光电子材料科技有限公司 | 一种低羟基大直径大长度实心石英砣的制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2001016039A1 (en) | Method of making a tubular member for optical fiber production using plasma outside vapor deposition | |
JP4043768B2 (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
JPS5844619B2 (ja) | 光フアイバ母材の製造法 | |
JPH0140782B2 (ja) | ||
JP2003171137A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JPS63107835A (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
JPH01138147A (ja) | 単一モード光ファイバ母材の製造方法 | |
JPH04231336A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JPS6086047A (ja) | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 | |
JP2604454B2 (ja) | シングルモード型光ファイバープリフォームの製造方法 | |
JPH1171125A (ja) | 光ファイバ用プリフォームの製造方法 | |
JP3524209B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
JPS61151031A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
JP2618260B2 (ja) | 光ファイバ母材用中間体の製造方法 | |
JPH04260630A (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
JPH06144841A (ja) | 多孔質ガラス母材用ガラスロッド | |
JP2003286033A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法及び製造装置 | |
JP4252871B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JPH0656448A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JP2000185929A (ja) | 光ファイバプリフォームの製造方法及びその製造装置 | |
GB2351287A (en) | Making optical fibre preforms using plasma outside vapour deposition | |
JP2003171136A (ja) | 光ファイバ用多孔質材およびその製造方法、光ファイバ母材およびその製造方法 | |
JPH0437623A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JPH0742130B2 (ja) | 光伝送路用棒状母材の製造方法 | |
JPS63291832A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法及び装置 |