JPS63107833A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents

光フアイバ母材の製造方法

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JPS63107833A
JPS63107833A JP25282686A JP25282686A JPS63107833A JP S63107833 A JPS63107833 A JP S63107833A JP 25282686 A JP25282686 A JP 25282686A JP 25282686 A JP25282686 A JP 25282686A JP S63107833 A JPS63107833 A JP S63107833A
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JP
Japan
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burner
core part
soot
base material
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JP25282686A
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English (en)
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Tsutomu Yabuki
矢吹 勉
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Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03B37/01413Reactant delivery systems
    • C03B37/0142Reactant deposition burners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/50Multiple burner arrangements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/50Multiple burner arrangements
    • C03B2207/54Multiple burner arrangements combined with means for heating the deposit, e.g. non-deposition burner

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  • Thermal Sciences (AREA)
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  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光ファイバ母材の製造方法に係り、特にVAD
法によるシングルモード光ファイバ用多孔質母材《以下
、スート母材とする》の製造方法に関する。
[従来の技術]  ・ シングルモード光ファイバは低損失且つ広帯域という物
質を有するために特に長距離伝送システムの伝送路とし
て用いられている。また上記の特質を得るためにシング
ルモード光ファイバの母材はVAD法によって製造され
ることが多い。
VAD法は、多重管バーナの中央からガラス材料をキャ
リアガスと共に石英棒などのターゲットに向けて噴出し
、これをバーナの外側の管から供給した酸水素炎で加水
分解させてターゲットの先端にスート母材を形成し、さ
らにこれを加熱焼結することにより透明ガラス化して光
ファイバ母材を製造するものである。
一般に、スート母材のコア部とクラッド部とはそれぞれ
独立した多重管バーナにより形成されるが、その際光フ
ァイバの伝送特性を良好にするためにはコア部に対する
クラッド部の厚さの比を所定値以上とする必要がある。
そのため、コア部径を小さく形成することが望まれ、小
径バーナや角型バーナ等を用いてスートの堆積を行なわ
せる方法が採られていた。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、スート母材のコア部は所定以上の強度を
有している必要があるので、スートの堆積温度を高く月
つ引上速度を遅くしなければならず、小径バーナや角型
バーナを用いてもコア部の径を10m+以上にすること
は極めて困難であった。
従って、コア部に対して所定値以上の比率の厚さのクラ
ッド部を形成しようとすると、クラッド部はかなりの厚
さを有し、クラッド部を数回に分けて堆積しなければな
らず、製造装置が複雑化すると共に製造条件の制御が難
しくなるという問題があった。さらに、スート母材(ク
ラッド部)の外径がi 00m+以上にもなり、このた
めクラックが発生しやすくなる。
また、コア部を高温で堆積するので屈折率分布に著しい
不整が生じ、径端部が角形状となって矩形の分布を得る
ことが困難であった。
かくして、本発明の目的は上記従来技術の問題点を解消
し、スート母材のコア部外径が小さく、容易にクラッド
部を形成することができる光ファイバ母材の製造方法を
提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の光ファイバ母材の製造方法は上記目的を達成す
るために、火炎加水分解反応によって発生したスートを
堆積させてコア部及びクラッド部からなるスート母材を
形成する光ファイバ母材の製造方法において、上記コア
部を形成した後、該コア部を細径化し、さらに該コア部
の外周部にスートを堆積させて上記クラッド部を形成す
る方法である。
[作 用] コア部細径化の具体的な方法としては化学研摩を施す方
法と加熱収縮させる方法とが考えられる。
前者の方法を実施するためには、HF、 SFa等のフ
ッ化化合物のみあるいはこれらのフッ化化合物と82.
02等の燃料を共に供給するコアエツチング用バーナを
コアバーナとクラッドバーナとの間に設け、コアバーナ
により形成されたコア部にコアエツチング用バーナから
の火炎を当てるように構成すればよい。
このとき、例えばSFaを含有する火炎がコア部を形成
する5102に触れると、 5i02+ SFs→SiF4+ SO2F2なる反応
が生じ、コア部の外周部が化学研摩されてコア部が細径
化される。
一方、後者の方法を実施するためには、燃料ガスのみを
供給して酸水素火炎を形成する酸水素バーナをコアバー
ナとクラッドバーナとの間に設け、コアバーナにより形
成されたコア部に酸水素火炎を当てるように構成すれば
よい。
このとき、コア部を予めコアバーナによってかさ密度0
.1g/cm3以上に形成しようとすると、スートの堆
積温度を高くして引上速度を低下する必要があり、この
ためコア部外径が大きくなってしまう。また、加熱収縮
後のコア部のかさ密度を0.2’J/rs3以下にする
とスート母材の強度が不十分となり、クラックの発生や
落下を生じる恐れがあり、0.3g/α3以上にすると
今度はスート母材が緻密になり過ぎて焼結時におけるハ
ロゲン ・剤での脱0■処理が困難となる。このため、
コア部は予めかさ密度01g/α3以下に形成されると
共に酸水素火炎によりかさ密度0.2〜0.39/α3
に加熱収縮されることが望ましい。
[実施例] 以下、本発明の実施例を添付図面に従って説明する。
実施例1 第1図は本発明の第1の実施例に係る光ファイバ母材の
製造方法を実施するための製造装置の構成図である。チ
ャンバ1の下部に下から順次コアバーナ2.コアエツチ
ング用バーナ3゜第1クラツドバーナ4及び第2タラツ
ドバーナ5がFi!置されている。なお、コアエツチン
グ用バーナ3は外径15jl11で3重管構造を有して
いる。
このような装置を用いてスート母材の形成を行なった。
まず、コアバーナ2から原料ガス(SicfL4及びG
eCfL4)と82.02. Arガスを所定の流aで
供給すると共にチャンバ1の上部から石英ガラス製のタ
ーゲット6をチャンバ1内に挿入し、このターゲット6
を回転数20rpmで回転しながら速度45〜46m/
hrで引上げ、ターゲット6の先端部に径約14.のコ
ア部を堆積させた。
次に、コアエツチング用バーナ3から流量2J?/Wi
nのH2,4,1!/ginの02及び I J! /
winのSFeを供給し、その火炎をコア部に当ててコ
ア部に化学研摩を施すことによりコア部外径を約5順と
した。
さらに、第1クラツドバーナ4及び第2クラツドバーナ
5から原料ガス(SiC14)と82.02゜A「ガス
を所定の流量で供給して、概に化学研摩により細径化さ
れたコア部の外周部にクラッド部を堆積させ、スート母
材7を得た。
以上のスート母材7の形成において、各バーナから放出
されたが母材として付着できなかった未付着スートは排
気管8を通してチャンバ1外に排出される。
このようにして形成されたスート母材7を焼結炉(図示
せず)にて温度1500℃に加熱焼結し、透明ガラス化
した。
なお、化学研摩時において、SFsの流量あるいはター
ゲット6の引上げ速度を調整することによりコア部の外
径を所望の値とすることができる。
実施例2 第2図は本発明の第2の実施例に係る光ファイバ母材の
製造方法を実施するための製造装置の構成図である。チ
ャンバ11の下部に下から順次コアバーナ12,1h−
02バーナ13及びクラッドバーナ14が配置されてい
る。なお、チャンバ11内は数51I820減圧されて
いる。
このような装置を用いてスート母材の形成を行なった。
まず、コアバーナ12(4!i!管橘造、原料供給管内
径2N)から流ff150ay/1nの5i(14,1
0jI!J/winのGe(J4 、  IJ/Win
の112 、 1.57 /Winの02及び0.2j
!/minのArを供給すると共にチャンバ11の上部
から石英ガラス製のターゲット15をチャンバ11内に
挿入し、このターゲット15を回転数20rpIlで回
転しながら速度100〜150IllII/hrで引上
げ、ターゲット15の先端部に径約71111.かさ密
度0.05 g/ex3のコア部を堆積させた。このと
き、各バーナの設置角度及びターゲット15と各バーナ
との距離を調整して堆8%温度を最大600℃(赤外線
温度測定。
測定波長5.11i11)となるように設定した。
次に、H2−02バーナ13から112.02及びAr
を供給してコア部外表面が温度1000℃となるように
加熱した。これにより、コア部は収縮してその外径は4
.5ffiとなり、かさ密度は0.23 g/cIR3
となった。
さらに、クラッドバーナ14から流m約5g/lnの5
ici4を供給して、概に細径化されたコア部の外周部
に外径100Mのクラッド部を堆積させ、スート母材1
6を得た。
このスート母材16をCf12等のハロゲン剤を含有す
る圧力−21111!H20のlleガス雰囲気下で温
度1500℃に加熱し、3m+/minの移動速度で透
明ガラス化した。
このようにして得られた光ファイバ母材のクラッド厚/
コア径比は8.1であり、また波長1,39虜における
吸収損失は1dB/lfaであった。
し発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、次の如き優れた効
果が発揮される。
(1)  コア部の外径を小さくすることができる。
(2)  従って、クラッド部の外径も小さくて済むの
で、クラッド部の形成が容易になると共にクラックの発
生が防止される。
(3)  コア部周辺部が化学研摩される、あるいはコ
ア部が低温度で堆積されるので矩形状の屈折率分布が得
られる。
(4)  クラッド厚/コア径比の大きな光ファイバ母
材が容易に得られるので、本発明はシングルモード光フ
ァイバの製造に有用なものとなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例に係る光ファイバ母材の
製造方法を実施するための製造装置の構成図、第2図は
第2の実施例を実施するための製造装置の構成図である
。 図中、2はコアバーナ、3はコアエツチング用バーナ、
4は第1タラツドバーナ、5は第2タラツドバーナ、7
はスート母材である。 ボ 具し !         娶 恭

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)火炎加水分解反応によつて発生したスートを堆積
    させてコア部及びクラッド部からなるスート母材を形成
    する光ファイバ母材の製造方法において、上記コア部を
    形成した後、該コア部を細径化し、さらに該コア部の外
    周部にスートを堆積させて上記クラッド部を形成するこ
    とを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
  2. (2)上記コア部の細径化が、化学研摩によりなされる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造方法
  3. (3)上記化学研摩が、上記コア部にフッ化化合物を含
    有する火炎を当てることによりなされることを特徴とす
    る特許請求の範囲第2項記載の製造方法。
  4. (4)上記コア部の細径化が、加熱収縮によりなされる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造方法
  5. (5)上記コア部が予めかさ密度0.19/cm^3以
    下に形成されると共に酸水素火炎によりかさ密度0.2
    〜0.3g/cm^3に加熱収縮されることを特徴とす
    る特許請求の範囲第4項記載の製造方法。
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