JPS63106948A - 光学的有機記録媒体の製造方法 - Google Patents

光学的有機記録媒体の製造方法

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JPS63106948A
JPS63106948A JP61250706A JP25070686A JPS63106948A JP S63106948 A JPS63106948 A JP S63106948A JP 61250706 A JP61250706 A JP 61250706A JP 25070686 A JP25070686 A JP 25070686A JP S63106948 A JPS63106948 A JP S63106948A
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JP
Japan
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substrate
recording
coating liquid
layer
coating
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JP61250706A
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Takeshi Santo
剛 三東
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Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は有機記Q居を有する光ディスク、光カード等の
光学的有機記録媒体の製造方法に関する。
[従来の技術] 従来、光ディスク、光カート技術で用いる光学的有機記
録媒体は、ガラス、プラスチックスなどの透明なノ^板
上に有機色素を1成分とする記録層を設けて形成され、
該記録層の表面に集束したレーザー光を走査し、このレ
ーザー光か照射された表面のみがピットを形成し、高密
度に情報を記録する記録奴体として利用されている。こ
の記録された情報は弱いレーザー光を走査して、ピウト
が形成された部分とビットが形成されていない部分の反
射率、透過率等の光学的変化を検出することにより読み
出される。
上記の光学的有機記録媒体に記録層を形成する方法とし
ては1例えばスパッタ法、真空蒸着法或いは塗布方法等
があるが、これ等の中で塗布方法が生産性、コスト、歩
留りなどの点で有利であり、今後極めて有望であると考
えられている。
塗布方法で最も一般的に行われているのは、スピンナー
塗布機を用いた回転’!布法であり、水平にセットされ
た基板上にpfi布液を滴下した後、基板を高速回転し
て液をひろげ、基板全面に塗膜を形成する。
しかし・ながら、この方法は簡便で実験室なとては取扱
いやすいが、基板全面を均一な膜厚に塗布するのが困難
である。光学的有機記録媒体の記録層の膜厚は均一であ
ることが要求され、膜厚の変動は記録感度や再生時に関
係する反射率に悪影響を及ぼすので好ましくない、さら
に基板上に滴下した塗布液の大部分を回転により飛散さ
せる為、塗布液の無駄が多く2回収可能な場合でもゴミ
の除去や組成の再調整などの作業が繁雑であり、生産性
を考慮した場合、適切な製造方法とはいえない。
これに対し、浸漬塗布法は基板を塗布液中に浸漬し、次
いで垂直方向に引きあげる方法であり、上記回転塗布法
における様な欠点がなく、均一な皮膜を大面積に亘って
形成しやすく、塗工液も必要量を有効に消費することが
でき、一度に多数枚塗工できる等の利点から量産製造に
適した塗工方法であるといえる。
しかしながら、特に光ディスクを浸漬塗布法により製造
する場合には、第2図に示す様に、基板lが平板状で、
中心に穴5がある為に液だれ発生部分2において塗布液
3の液だれによる膜厚ムラが生じやすいという欠点があ
った。
さらに浸漬された部分は全て塗布液が塗工される。これ
は、一般に光学的有機記録媒体の記録・再生において、
レーザー光は透明な基板を通して記録層に照射されるた
め、基板の記録層面の裏面側にレーザー光に対して吸収
を持つ記録層が付着するので、記録時、記録層の吸収効
率の低下及び再生時の再生反射光の強度ムラ及び再生信
号強度の減少が起こることから好ましくない。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明の目的は上述した従来技術の欠点を除去しようと
するものであり5浸漬塗布法の有する膜厚の均一性や塗
布液の有効利用性を生かし、かつ塗布工程において液だ
れや中心穴への塗布液のまわり込み等がなく、均一な塗
布膜を形成することができると共に量産性に適した塗布
工程による光学的有機記録媒体の製造方法を提供するこ
とにある。
[問題点を解決するための手段]及び[作用]即ち4本
発明は有機記1Q1eを有する光学的記録媒体の製造方
法において、基板上の非記録部分に撥水・撥油性樹脂層
を設ける工程、次いで基板上に塗布液を浸ffl塗布し
て記録部分に有機記i居を設ける工程を連続して行うこ
とを特徴とする光学的有機記録媒体の製造方法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
第1図a乃至第1図Cは各々本発明の光学的有機記録媒
体の製造方法におけるノ^板上の非記録部分に撥水・撥
油性樹脂層を設けた状態を示す説明図である。
f51図aは有機記録層を浸漬塗布する際、ディスク基
板を1枚づつ間隔をおいて浸漬する場合の撥水・撥油性
樹脂層4を設けた例であり、撥水・撥油性樹脂層4を基
板の非記Q部分である基板記Q層面側の内外周部、基板
内外周の端面及びノふ板記録層面側の裏面に設けたもの
である。
撥水・撥油性樹脂層4は有機記Q層を浸漬塗布により設
ける際に、塗布液をはじいて撥水・撥油性樹脂層4を設
けた部分が?!!i血液で濡れない様にする機部を行な
う。
したがって、第1図aに示す様に、基板上に非記録部分
に撥水・撥油性樹脂層4を設け1次いて該基板を有機記
QB用塗布液に浸漬して引き上げることにより、基板外
周部端面の上部と内周部端面下部に塗布液がたまって第
2図に示す様な液だれの発生が防止され、さらに基板記
録層面側の裏面の記録P3塗布液の付着が防止され、非
記録部分以外の記録部分6に有機記QFrを設けること
ができる。
この際使用される撥水・撥油性樹脂が架橋密度の高い材
料であれば、そのままハートコート層として利用でき好
適である。
第1図すは2枚のディスク基板を背中合わせにし、その
記録層面側が表裏の外側に向く様に設けた場合を示し、
基板記録層面側の裏面への記録層塗布液の付着を防止す
る目的から、2枚の基板を記録層面か外側に向く様に背
中合わせにしたものである。第2図aと同様に記録部分
以外の部分へ記録層塗布液が付着することを防止して液
だれの発生を防ぎ、さらに比較的高価である撥水・撥油
性樹脂の使用量を低く押えることができることから有用
である。
ff11図Cは光カートの一例を示すものである。
本発明において、基板上に撥水・撥油性樹脂層を設ける
方法としては、刷毛塗り法、スプレーコート、バーコー
ド、スピンコード、浸漬法、ロールコート、印刷法等の
方法で設けることができる。
撥水・撥油性樹脂層の膜厚としては、基板記録層面では
20μ謹以下、好ましくは0.O1〜5μ臘が望ましく
、20終會をこえると基板表面と撥水・撥油性樹脂層表
面間に大きな段差ができて記録層用塗布液がたまり、液
だれか生じやすくなる。
また、基板内周部端面ては20勝鳳以下、好ましくは0
.O1〜10IL■が望ましく、20終■をこえると光
ディスクには通常基板上には1〜2μ膿程度のレーザー
光走査用の案内溝がスパイラル状に設けられ、この構と
ディスクの中心穴は偏心精度の良い状態である必要があ
る為、中心大端面にあまり厚い層を設けることは好まし
くないからである。
その他の部分の膜厚に関しては、この限りではない。
撥水・撥油性樹脂を基板記録層面の裏面にも設ける場合
には、使用するレーザー光に対して透明である必要があ
る。撥水・撥油性を有する樹脂としては、そのような効
果を発揮し得る樹脂であればよいが、好ましくはシリコ
ーン樹脂またはフッ素系樹脂が用いられる。
シリコーン樹脂としては、例えばジメチルシリコーン、
メチルフェニルシリコーン、メチルハイドロジエンシリ
コーン、ポリジオルガノシロキサンシオール、クロロフ
ェニルシリコーン、フロロシリコーン、シリコーンポリ
エーテル共重合体、アルキル変性シリコーン、高級脂肪
酸変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、エポキシ変
性シリコーン等のシリコーンのオイル、レジン、架橋体
等の化合物を全て用いることができ、あるいはそれらの
混合物も全て用いることができる。
フッ素系樹脂としてはポリ四フッ化エチレン、四プッ化
エチレンー六フッ化プロピレン共重合体、四フッ化エチ
レンーパーフロロアルキルビニルエーテル共重合体、四
フッ化エチレンーエチレン共改合体、ポリ三フッ化塩化
エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、
三フッ化塩化エチレンーエチレン共重合体等のフルオロ
オレフィンを基本骨格に含む樹脂あるいはそれらの混合
物も全て用いることができる。
本発明において、記録層用塗布液は、レーザー光の波長
近辺に吸収極大を示す色素化合物、熱分解性樹脂、相分
離樹脂の如きレーザー記録材料と、必要に応じてバイン
ダ、分散剤等を配合した塗布液が用いられる。
塗布液の塗布方法は、基板を適当な保持治具で1枚ある
いは複数枚垂直に保持し、前記有機記録層塗布液に浸漬
し、次いで引き上げた後、乾燥することにより基板上に
有機記録層を設けることができる。
有機記録層の膜厚は用途に応じて任意の厚さに形成する
ことができるが1通常500人〜2000人か好ましい
さらに、必要に応じて有機記録層上に紫外線吸収層、耐
湿性層、耐溶剤層、熱伝導性調整層、反射性調節層等の
他の機能層を選択して積層することができる。または、
それ等の機部層の成分を塗布液に混合することができる
本発明においては、 7Si板上の非記録部分に撥水・
撥油性樹脂層を設ける工程と、該基板に塗布液を侵清塗
布して記録部分に有機記録層を設ける工程は連続して行
うことが好ましい、連続して行うことにより、基板上に
形成された撥水・撥油性樹脂層は乾燥又は硬化する前に
、浸漬により基板に付着された塗布液と接触するので、
塗布液を完全に排斥することができる。
本発明の製造方法によれば、浸漬塗布方法の欠点であり
た塗工時の塗布液の液だれ及び基板の両面塗布の問題は
一挙に解決し、極めて量産性のある優れたpI!布方法
である浸gi塗血性を簡便に用いることか可能となる。
[実施例] 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1 内径15m1、外径130讃l、厚さ 1.21璽のポ
リカーボネート製ディスク基板上に、溶液型シリコーン
(YSR3022東芝シリコーン(製))と触媒(YC
6831東芝シリコーン(製))のイソプロピルアルコ
ール溶液をオフセット印刷及び刷毛塗りにより塗工し、
60°C,10分間熱硬化させ、膜厚1000人の第1
図aの構成からなる基板を作製した。
次に、基板の外周端を垂直に保持して、下記の式[I]
で示されるポリメチン系色素 式[I] の3%イソプロピルアルコール溶液中に浸漬し、毎分1
50mmの速度で引き上げた。その結果、液だれや中央
の穴への塗布液のまわり込みのない、膜厚約1000人
の色素の無定形膜か形成された。
実施例2 内径30mm、外径200+gn、厚さ1.2smの2
P法によりグループ形成した2枚のPMMA製ディスク
基板を背中□合せにし、溶液型フッ素樹脂(ルミフロン
LF300旭硝子(製))とトリレンジイソシアネート
のエタノール溶液をロールコート及びの刷毛塗りにより
塗工し、60°C15時間熱硬化させ、膜厚1000人
の第1図すの構成からなる基板を作製した。
次に、ノ、(板の外周端を垂直に保持して下記の式[T
I]で示されるアズレン系色素 式[nl CI+3 の3%ジアセトンアルコール溶液に浸漬し、毎分100
■の速度で引き上げた。その結果、液だれや中央の穴へ
の塗布液のまわり込みのない、膜厚約1000人の色素
の無定形膜が形成された。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、ノ、(板上の非
記録部分に、撥水・撥油性樹脂層を設ける工程1次いで
基板上に塗布液を侵清塗布して記$7部分に有機記録層
を設ける工程を連続して行うことにより、記録層塗布時
に液だれや、中心穴への塗布液のまわり込みのない光学
的有機記録媒体の製造方法を提供することができる。さ
らに、その製造装置の自動化にも適した効率のよい製造
方法を提供することがてきる。
【図面の簡単な説明】
第1図a乃至第1図Cは各々本発明の製造方法においけ
る基板上の非記録部分に撥水・撥油性樹脂層を設けた状
態を示す説明図および第2図は従来の浸漬@血性の説明
図である。 ■ ・・・)j;板 2・・・液だれ発生部分 3・・・塗布液 4・・・撥水・撥油性樹脂層 5・・・穴 6・・・記録部分 代理人  渡  辺  徳  廣 第1図 第2図

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)有機記録層を有する光学的記録媒体の製造方法に
    おいて、基板上の非記録部分に撥水・撥油性樹脂層を設
    ける工程、次いで基板上に塗布液を浸漬塗布して記録部
    分に有機記録層を設ける工程を連続して行うことを特徴
    とする光学的有機記録媒体の製造方法。
  2. (2)基板上の非記録部分が基板記録層面側の周辺部に
    設けられている特許請求の範囲第1項記載の光学的有機
    記録媒体の製造方法。
  3. (3)基板上の非記録部分が基板の周辺部の端面に設け
    られている特許請求の範囲第1項記載の光学的有機記録
    媒体の製造方法。
  4. (4)基板上の非記録部分が基板記録層面側の裏面に設
    けられている特許請求の範囲第1項記載の光学的有機記
    録媒体の製造方法。
  5. (5)撥水・撥油性樹脂層がシリコーン樹脂からなる特
    許請求の範囲第1項記載の光学的有機記録媒体の製造方
    法。
  6. (6)撥水・撥油性樹脂層がフッ素系樹脂からなる特許
    請求の範囲第1項記載の光学的有機記録媒体の製造方法
JP61250706A 1986-10-23 1986-10-23 光学的有機記録媒体の製造方法 Pending JPS63106948A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006123619A1 (ja) * 2005-05-17 2006-11-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 多層情報記録媒体及びその製造方法

Cited By (3)

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