JPS63106468A - 流体経路遮断弁 - Google Patents
流体経路遮断弁Info
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- JPS63106468A JPS63106468A JP25206286A JP25206286A JPS63106468A JP S63106468 A JPS63106468 A JP S63106468A JP 25206286 A JP25206286 A JP 25206286A JP 25206286 A JP25206286 A JP 25206286A JP S63106468 A JPS63106468 A JP S63106468A
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- seal
- seal block
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Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 15
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 10
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Sliding Valves (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は主に半導体製造装置、特にグラズマエッチン
グ装置の真空排気系に用いられる流体経路遮断弁に関す
るものである。
グ装置の真空排気系に用いられる流体経路遮断弁に関す
るものである。
従来この糧の流体経路遮断弁(以下、真空/fルグと略
称する)としては第2図に示すものがあ夛、(1)はそ
の側面図、(b)は断面図である。これは一般的なグー
)ズマエッチング装置に主として用いられており、該装
置の反応ガスやパージガスを排気する排気系の途中に設
置されている。
称する)としては第2図に示すものがあ夛、(1)はそ
の側面図、(b)は断面図である。これは一般的なグー
)ズマエッチング装置に主として用いられており、該装
置の反応ガスやパージガスを排気する排気系の途中に設
置されている。
第3図はこのようなグラズマエッチング装置の構成1示
す図で、図中、1は被処理体(以下、ウェハという)、
2は容器(以下、チャンバといり)でオシ、ウェハ1は
チャンバ2内に配設されe 一対の電極3間に位置する
よう配設されている。また電極3は高周波電源4に接続
されている。5゜6はそれぞれチャンバ2内に開口した
エツチング用ガスの導入管および排出管で、排出管6の
他端は真空ポングアに接続され、また排出管6の途中に
は真空パルプ8が設置されている。
す図で、図中、1は被処理体(以下、ウェハという)、
2は容器(以下、チャンバといり)でオシ、ウェハ1は
チャンバ2内に配設されe 一対の電極3間に位置する
よう配設されている。また電極3は高周波電源4に接続
されている。5゜6はそれぞれチャンバ2内に開口した
エツチング用ガスの導入管および排出管で、排出管6の
他端は真空ポングアに接続され、また排出管6の途中に
は真空パルプ8が設置されている。
真空パル18はその詳細を第2図に示すように、排出管
6a、6bに連通した本体胴部9内に排出管6at′閉
鎖するようシール部材10としてOリングが取り付けら
れたシールブロック11が配設され、このシールブロッ
ク11が矢印方向(閉鎖面に対して垂直方向)K移動す
ることで排出管6から真空イングアに至る真空経路の遮
断、開放が行われる。また、12はシール!ロックtt
t−駆動するためのシャフトで、その一端はシールブロ
ック11に固定され、他端側はエアシリンダ13内を摺
動するピストン14が一体に設けられている@エアシリ
ンダ13にはピストン14によって区画される室A、B
にそれぞれ連通するピストン駆動用ガスの導入−排出口
15.16が形成され、室AまたはBへのガスの導入、
排出によってピストン14の駆動、すなわちシールクロ
ック11の開閉を行うようになっている。さらに、17
はシールクロックIIと本体胴部9のエアシリンダ13
側内壁9&との間に設けられたベローズ、18はエアシ
リンダ13シール用のOリングである。また、シール部
材lOは真空パルプ8の開閉動作に伴い押圧力が繰シ返
し加わるため、復元性の高い高分子材料が使用されてい
る。
6a、6bに連通した本体胴部9内に排出管6at′閉
鎖するようシール部材10としてOリングが取り付けら
れたシールブロック11が配設され、このシールブロッ
ク11が矢印方向(閉鎖面に対して垂直方向)K移動す
ることで排出管6から真空イングアに至る真空経路の遮
断、開放が行われる。また、12はシール!ロックtt
t−駆動するためのシャフトで、その一端はシールブロ
ック11に固定され、他端側はエアシリンダ13内を摺
動するピストン14が一体に設けられている@エアシリ
ンダ13にはピストン14によって区画される室A、B
にそれぞれ連通するピストン駆動用ガスの導入−排出口
15.16が形成され、室AまたはBへのガスの導入、
排出によってピストン14の駆動、すなわちシールクロ
ック11の開閉を行うようになっている。さらに、17
はシールクロックIIと本体胴部9のエアシリンダ13
側内壁9&との間に設けられたベローズ、18はエアシ
リンダ13シール用のOリングである。また、シール部
材lOは真空パルプ8の開閉動作に伴い押圧力が繰シ返
し加わるため、復元性の高い高分子材料が使用されてい
る。
次に上記プラズマエツチング装置における真空パルプ8
の動作を説明する。先ずウェハ1をチャンバ2内の電極
3間に設置し、チャンバ2内を真空ポンプ7により減圧
した後、CF4等のエツチング用ガスを導入管5より所
定量供給し、チャンバ2内を一定の真空度に保つ。次に
高周波電源4より電極3間に高周波電圧(周波数13.
56MHz)′ft印加し、チャンバ2内にグロー放電
を生じさせる。
の動作を説明する。先ずウェハ1をチャンバ2内の電極
3間に設置し、チャンバ2内を真空ポンプ7により減圧
した後、CF4等のエツチング用ガスを導入管5より所
定量供給し、チャンバ2内を一定の真空度に保つ。次に
高周波電源4より電極3間に高周波電圧(周波数13.
56MHz)′ft印加し、チャンバ2内にグロー放電
を生じさせる。
これKよりチャンバ2内のエツチング用ガスを励起し、
化学的に活性な状態としてウェハ1表面の膜(例えばS
i3N4.ポリ81等)のエツチングを行う◎この時真
空I々ルグ8は、シリンダ13の室Bにピストン駆動用
ガスが導入−排出口16より導入されてシールブロック
11がシリンダ側(図面では左方向)に移動しておシ、
真空経路は開放状態になっている。
化学的に活性な状態としてウェハ1表面の膜(例えばS
i3N4.ポリ81等)のエツチングを行う◎この時真
空I々ルグ8は、シリンダ13の室Bにピストン駆動用
ガスが導入−排出口16より導入されてシールブロック
11がシリンダ側(図面では左方向)に移動しておシ、
真空経路は開放状態になっている。
所定の時間ウェハIKエツチングを施し死後は真空パル
プ8を閉じ、真空ポングアとチャンバ2間の真空経路上
遮断する。すなわち、真空パルプ8は、シリンダ13の
室AIIKガスを導入してシールブロツク11を閉鎖面
方向に移動、押圧して排出管6aを閉鎖し真空経路の遮
断を行う。そしてチャン/12内にノダージ用ガスを導
入してチャンバ2内圧力を大気圧まで上昇させた後、ウ
ェハ110出す。さらにエツチングを行う場合は、ウェ
ハ1をチャンバ2内に設置して再び真空パル18を開放
し、チャンバ2内の減圧を行って上述の作業を繰り返す
。
プ8を閉じ、真空ポングアとチャンバ2間の真空経路上
遮断する。すなわち、真空パルプ8は、シリンダ13の
室AIIKガスを導入してシールブロツク11を閉鎖面
方向に移動、押圧して排出管6aを閉鎖し真空経路の遮
断を行う。そしてチャン/12内にノダージ用ガスを導
入してチャンバ2内圧力を大気圧まで上昇させた後、ウ
ェハ110出す。さらにエツチングを行う場合は、ウェ
ハ1をチャンバ2内に設置して再び真空パル18を開放
し、チャンバ2内の減圧を行って上述の作業を繰り返す
。
従来の真空パル18は以上のように構成されているが、
そのシール部材10は真空パルプ8の開放、遮断いずれ
の場合でも本体胴部9円に露出しているため、上述した
ウェハ1のエツチング時において特にチャンバ2内の反
応ガスを排気する時、シール部材10も同時にエツチン
グされることになる。この之めシール部材IOが劣化し
易く、真空経路の遮断がシール部材10の劣化によシ完
全に行えなくなるという問題点金有していた・この発明
は上記の問題点を解決するためになされたもので、開放
時の流体流通によるシール部材の劣化のない流体経路遮
断弁を得ることを目的とする。
そのシール部材10は真空パルプ8の開放、遮断いずれ
の場合でも本体胴部9円に露出しているため、上述した
ウェハ1のエツチング時において特にチャンバ2内の反
応ガスを排気する時、シール部材10も同時にエツチン
グされることになる。この之めシール部材IOが劣化し
易く、真空経路の遮断がシール部材10の劣化によシ完
全に行えなくなるという問題点金有していた・この発明
は上記の問題点を解決するためになされたもので、開放
時の流体流通によるシール部材の劣化のない流体経路遮
断弁を得ることを目的とする。
この発明は流体経路遮断弁において、開放時にシールブ
ロックを収納部へ平行移動させる手段を設け、かつシー
ルブロックに取シ付けられたシール部材を覆う凹部をシ
ールブロツクの収納部に形成したものである。
ロックを収納部へ平行移動させる手段を設け、かつシー
ルブロックに取シ付けられたシール部材を覆う凹部をシ
ールブロツクの収納部に形成したものである。
この発明における流体経路遮断弁は、その遮断時では流
体経路の閉鎖面をシールブロックとこれに取り付けられ
たシール部材で閉鎖し、流体の流通全遮断する。また開
放時はシールブロツクを閉鎖部より平行移動させて収納
部に収納すると共【、収納部に形成され之凹部にシール
部材を嵌合させてシール部材が流体に接触しないように
する。
体経路の閉鎖面をシールブロックとこれに取り付けられ
たシール部材で閉鎖し、流体の流通全遮断する。また開
放時はシールブロツクを閉鎖部より平行移動させて収納
部に収納すると共【、収納部に形成され之凹部にシール
部材を嵌合させてシール部材が流体に接触しないように
する。
第1図はこの発明の一実施例による流体経路遮断弁の構
成を示し、この流体経路遮断弁は第2図に示した真空パ
ルプ同様グラズマエッチング装置に用いられるものであ
り、第1図(a)はその底面図、第1図(b)は断面図
である。図中、19は本体で、真空パルプ20中、以下
説明する部材は全てこの本体19に取り付けられている
。また、この実施例における真空パルプ20は、室C,
D、Eから構成されており、室Cは従来よシの真空主配
管であり、室りは真空パルプ開時におけるシールブロッ
クの収納部、室Eはシールブロックの閉鎖面に対する垂
直方向の移動を行うエアシリンダ部で、第2図の真空パ
ルプのエアシリンダ構造と略同様の構成となっている。
成を示し、この流体経路遮断弁は第2図に示した真空パ
ルプ同様グラズマエッチング装置に用いられるものであ
り、第1図(a)はその底面図、第1図(b)は断面図
である。図中、19は本体で、真空パルプ20中、以下
説明する部材は全てこの本体19に取り付けられている
。また、この実施例における真空パルプ20は、室C,
D、Eから構成されており、室Cは従来よシの真空主配
管であり、室りは真空パルプ開時におけるシールブロッ
クの収納部、室Eはシールブロックの閉鎖面に対する垂
直方向の移動を行うエアシリンダ部で、第2図の真空パ
ルプのエアシリンダ構造と略同様の構成となっている。
21はシリンダで、内部には中空のシャフト22と一体
のピストン23が配設され、またピストン23によって
区画されるシリンダ21内両側の部屋にそれぞれ連通す
る導入−排出口24.25が形成されている。シャフト
22の内側にはシール!ロック回転用の、該シャフト2
2とは回転自在となったロッド26が設けられており、
27.28はそれぞれシャフト22のシリンダ21内に
設けられた動作制限用リングおよびロッド26に設けら
れた動作制限用リングである。ロッド26の一端はアー
ム29の一端部が一体に取シ付けられ、アーム29の他
端部にはシールブロック30が取り付けられている。こ
のシール10ツク30にはシール部材31としてOリン
グが取り付けられ、真空パルプ20の「閉」時は真空主
配管の閉鎖面32に押圧されて真空経路を遮断するよう
になっている。
のピストン23が配設され、またピストン23によって
区画されるシリンダ21内両側の部屋にそれぞれ連通す
る導入−排出口24.25が形成されている。シャフト
22の内側にはシール!ロック回転用の、該シャフト2
2とは回転自在となったロッド26が設けられており、
27.28はそれぞれシャフト22のシリンダ21内に
設けられた動作制限用リングおよびロッド26に設けら
れた動作制限用リングである。ロッド26の一端はアー
ム29の一端部が一体に取シ付けられ、アーム29の他
端部にはシールブロック30が取り付けられている。こ
のシール10ツク30にはシール部材31としてOリン
グが取り付けられ、真空パルプ20の「閉」時は真空主
配管の閉鎖面32に押圧されて真空経路を遮断するよう
になっている。
また室りにおける室Cの閉鎖面32からの延出面にはシ
ール部材31と略直径が等しくかつシール部材31の厚
みと略等しい深さの凹部33が形成され、真空パルプ「
開」時はシール部材31が凹部に収納されるようになっ
ている。
ール部材31と略直径が等しくかつシール部材31の厚
みと略等しい深さの凹部33が形成され、真空パルプ「
開」時はシール部材31が凹部に収納されるようになっ
ている。
上記ロッド26の他端部には、ロッド回転用エアシリン
ダ34の一端がロッド26と一体に固定された支持部材
35を介して取シ付けられ、またロッド回転用エアシリ
ンダ34の他端は本体19に固定され、その伸縮によっ
てロッド26t−回転させるようになっている。なお、
36はシャフト22の一端と室Eとの間に設けられたベ
ローズである。
ダ34の一端がロッド26と一体に固定された支持部材
35を介して取シ付けられ、またロッド回転用エアシリ
ンダ34の他端は本体19に固定され、その伸縮によっ
てロッド26t−回転させるようになっている。なお、
36はシャフト22の一端と室Eとの間に設けられたベ
ローズである。
次にかかる構成の真空パルプ20の動作を説明する。先
ず図面中実線で示すように真空経路の遮断状態を初期状
態として真空パルプ20を「閉」から「開」とするには
、最初に室Eの導入−排出口24より4隻Q程度の圧搾
ガスを導入し、ピストン23を、動作制限用リング27
がシリンダ21内壁に接触するまで後退させる。この時
シャフト22端面が動作制限用リング28に接触するた
め、ロッド26もピストン23の移動に連動して後退し
、シールブロック30を例えば5I!lI程度後退させ
る。
ず図面中実線で示すように真空経路の遮断状態を初期状
態として真空パルプ20を「閉」から「開」とするには
、最初に室Eの導入−排出口24より4隻Q程度の圧搾
ガスを導入し、ピストン23を、動作制限用リング27
がシリンダ21内壁に接触するまで後退させる。この時
シャフト22端面が動作制限用リング28に接触するた
め、ロッド26もピストン23の移動に連動して後退し
、シールブロック30を例えば5I!lI程度後退させ
る。
次にロッド回転用エアシリンダ34に圧搾ガス金導入し
、シリンダ全長全伸長させることによシロラド26を回
転させ(第1図(a)において反時計回シ方向)、アー
ム29t′第1図(jL)破線で示すように回動させて
シールブロツク30を「閉」位置、すなわちシール部材
31が凹部33に対応する位置まで平行移動させる。
、シリンダ全長全伸長させることによシロラド26を回
転させ(第1図(a)において反時計回シ方向)、アー
ム29t′第1図(jL)破線で示すように回動させて
シールブロツク30を「閉」位置、すなわちシール部材
31が凹部33に対応する位置まで平行移動させる。
その後、導入−排出口25より 4 ”/jの圧搾ガス
を導入し、同時に導入−排出口24側を大気圧に戻すこ
とによりピストン23を前進させる。これによりアーム
29は前進駆動され、従ってシール部材31は凹部33
内に収納されると共に押圧され、またシールブロツク3
0で覆われるため、室C,Dの雰囲気とは遮断され、エ
ツチング時の反応ガスにさらされるのを防止できる。
を導入し、同時に導入−排出口24側を大気圧に戻すこ
とによりピストン23を前進させる。これによりアーム
29は前進駆動され、従ってシール部材31は凹部33
内に収納されると共に押圧され、またシールブロツク3
0で覆われるため、室C,Dの雰囲気とは遮断され、エ
ツチング時の反応ガスにさらされるのを防止できる。
また、上記動作は真空パルプ20を「開」から「閉」に
する場合について説明したが、これを「閉」から「開」
とする場合は上記動作を逆に行うことで同様に行える。
する場合について説明したが、これを「閉」から「開」
とする場合は上記動作を逆に行うことで同様に行える。
なお、上記実施例では流体経路遮断弁としてプラズマエ
ツチング装置に用いられる真空パルプ2゜を例にとって
説明したが、これに限定されるものではなく、流体経路
遮断弁の開放時にシール部材が流体によって劣化する恐
れのあるものであれば上記実施例と同様の効果を奏する
。
ツチング装置に用いられる真空パルプ2゜を例にとって
説明したが、これに限定されるものではなく、流体経路
遮断弁の開放時にシール部材が流体によって劣化する恐
れのあるものであれば上記実施例と同様の効果を奏する
。
以上のようにこの発明の流体経路遮断弁によれば、弁の
開放時はシールブロツクを平行移動させ、かつシールブ
ロックに取シ付けられたシール部材を凹部に収納して遮
断弁内部の雰囲気から遮断するようにし九ので、開放時
はシール部材が流体に接触せず、従ってシール部材が流
体によって劣化する恐れがある場合でもこの劣化を防止
できる効果がある。
開放時はシールブロツクを平行移動させ、かつシールブ
ロックに取シ付けられたシール部材を凹部に収納して遮
断弁内部の雰囲気から遮断するようにし九ので、開放時
はシール部材が流体に接触せず、従ってシール部材が流
体によって劣化する恐れがある場合でもこの劣化を防止
できる効果がある。
第1図(at 、 (b)はそれぞれこの発明の一実施
例による流体経路遮断弁の底面図および断面図、第2図
(a) 、 Cb)はそれぞれ従来の流体経路遮断弁の
側面図および断面図、第3図は流体経路遮断弁をプラズ
マエツチング装置の真空経路遮断弁として適用した場合
の構成図である。 20・・・真空経路遮断弁、26・・・ロッド、29・
・・アーム、30・・・シールブロツク、31・・・シ
ール部材、32・・・閉鎖面、33・・・凹部、34・
・・ロッド回転用エアシリンダ、35・・・支持部材。 づ6 半茫8月カー大施使l抹示す構挾図 第1図
例による流体経路遮断弁の底面図および断面図、第2図
(a) 、 Cb)はそれぞれ従来の流体経路遮断弁の
側面図および断面図、第3図は流体経路遮断弁をプラズ
マエツチング装置の真空経路遮断弁として適用した場合
の構成図である。 20・・・真空経路遮断弁、26・・・ロッド、29・
・・アーム、30・・・シールブロツク、31・・・シ
ール部材、32・・・閉鎖面、33・・・凹部、34・
・・ロッド回転用エアシリンダ、35・・・支持部材。 づ6 半茫8月カー大施使l抹示す構挾図 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 流体経路の遮断および開放を行う流体経路遮断弁であつ
て、 シール部材が取り付けられ前記流体経路を閉鎖するシー
ルブロツクと、 前記流体経路の開放時に前記シールブロツクを該流体経
路の閉鎖面に対して収納部へ平行移動させる手段と、 前記収納部に設けられ、前記流体経路の開放時に前記シ
ール部材を覆う凹部とを備えたことを特徴とする流体経
路遮断弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25206286A JPS63106468A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 流体経路遮断弁 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25206286A JPS63106468A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 流体経路遮断弁 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63106468A true JPS63106468A (ja) | 1988-05-11 |
Family
ID=17232025
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25206286A Pending JPS63106468A (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 流体経路遮断弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63106468A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004286131A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Smc Corp | ゲートバルブ |
JP2008025836A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Vat Holding Ag | シャトルバルブ |
WO2008139937A1 (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-20 | Tokyo Electron Limited | バルブおよび該バルブを備えた処理装置 |
US8123194B2 (en) | 2007-03-19 | 2012-02-28 | Tokyo Electron Limited | On-off valve and process apparatus employing the on-off valve |
-
1986
- 1986-10-24 JP JP25206286A patent/JPS63106468A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004286131A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Smc Corp | ゲートバルブ |
JP2008025836A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Vat Holding Ag | シャトルバルブ |
US8424843B2 (en) | 2006-07-18 | 2013-04-23 | Vat Holding Ag | Shuttle valve having two drives |
TWI399499B (zh) * | 2006-07-18 | 2013-06-21 | Vat Holding Ag | 具有兩驅動件之梭動閥 |
US8123194B2 (en) | 2007-03-19 | 2012-02-28 | Tokyo Electron Limited | On-off valve and process apparatus employing the on-off valve |
WO2008139937A1 (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-20 | Tokyo Electron Limited | バルブおよび該バルブを備えた処理装置 |
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JP5011382B2 (ja) * | 2007-05-08 | 2012-08-29 | 東京エレクトロン株式会社 | バルブおよび該バルブを備えた処理装置 |
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