JPS63102392A - セラミツク多層基板 - Google Patents

セラミツク多層基板

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Publication number
JPS63102392A
JPS63102392A JP61248711A JP24871186A JPS63102392A JP S63102392 A JPS63102392 A JP S63102392A JP 61248711 A JP61248711 A JP 61248711A JP 24871186 A JP24871186 A JP 24871186A JP S63102392 A JPS63102392 A JP S63102392A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramic multilayer
electronic component
conductor
main body
ceramic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61248711A
Other languages
English (en)
Inventor
有末 一夫
博之 大谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP61248711A priority Critical patent/JPS63102392A/ja
Publication of JPS63102392A publication Critical patent/JPS63102392A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、実装密度の向上を求められる電子機器の分野
において用いられるセラミック多層基板に関するもので
ある。
従来の技術 近年、セラミック多層基板は電子機器の実装密度の向上
にかかせないものになってきている。
以下図面を参照しながら従来のセラミック多層基板につ
いて説明する。
第3図は従来のセラミック多層基板を示すものである。
第3図において、4は電子部品本体、5は電子部品本体
4の周囲端面から出ている端子、6は半田、7は多層基
板本体、8は多層基板本体7の表面に設けた導体である
以上のようなセラミック多層基板は印刷法または積層法
でつくられたものであり、この多層基板本体7に電子部
品を装着する場合に、その表面に銀、銅、銀パラジウム
等の材料でなる導体8を形成し、多層基板本体7の内部
の導体(図示せず)と接続する。そして、電子部品本体
4の端子6が導体8の上に一致するように電子部品本体
4を多層基板本体7[設置し、半田らで接続する。
発明が解決しようとする間粗点 しかしながら、上記のような構成では、セラミック多層
基板はその多層基板本体7の表面に導体8を形成するた
め、その導体8は数ミクロン以上の突部となる。このた
めに、電子部品本体4の端子6は第4図のよって多層基
板本体7上に搭載した時、第5図、第6図に示すように
導体8からずれ、接続の信頼性が悪くなったり、あるい
は導体8の間隔が小さくなると半田ショートやマイグレ
ーション等の問題が生ずる恐れがあった。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明のセラミック多層基
板は、電子部品との接続導体は接続に必要な部分以外露
出させないように表面に絶縁体(セラミック)の層を設
け、電子部品と接続する部分のセラミ・7りはエツチン
グで除去し、導体を露出させ、電子部品の端子と接続で
きるようにしたことを特徴とするものである。
作  用 本発明は、上記した構成によって導体と導体の間にセラ
ミックの凸部が出来る。逆に見ると、導体部分が凹状に
なる。従って電子部品本体の端子が接続される隣りあう
部分は各々凹部になり、平面よりも距離が長くなり、半
田ショートやマイグレーションを防止できることになる
実施例 以下本発明の一実施例のセラミック多層基板について図
面を参照しながら説明する。
第1図は本発明の実施例のセラミック多層基板の平面図
、断面図を示す。第1図において、1はセラミック多層
基板本体、2はその多層基板本体1の表面に設けた凹部
、3は上記凹部2内の導体である。
第2図は電子部品を装着した図で、4は電子部品本体、
5は電子部品本体4の端子、6は半田である。
以上のようなセラミック多層基板は、積層法でつくられ
たセラミック多層基板本体1の表面にセラミック部分を
有し、このセラミック部分の凹部2はエツチング法で必
要な形状に除去し、下部の導体3を露出させたものであ
る。このようにして作成されたセラミック多層基板には
電子部品本体4を搭載し、端子6が導体3と一致する様
に装着し、半田により接続する。
以上のように本実施例によれば、隣りあう接続される導
体一端子の間にセラミックの壁が出来る構造となる。
なお、第1図では導体部は、接続部のみに示したが、凹
部の任意の位置に導体を設けてもよい。
第2図の接続に半田を用いているが、銀ペースト等の導
電性ペイントで接続してもよい。
発明の効果 以上のように本発明は、表面のセラミックを必要な形に
エツチングで除去して凹部を構成し、隣りあう端子の間
に壁をつくることにより、マイグレーシコン、半田ショ
ートが防止できる、また、凹部は電子部品の端子と寸法
をあわせることにより装着したときに導体部と端子のず
れを防止できる効果もある。
【図面の簡単な説明】
第1図イ2口は本発明のセラミック多層基板を示す平面
図および断面図、第2図イは同基板に電子部品を装着し
た状態を示す側面図、第2図口。 ハはその要部拡大断面図、第3図は従来のセラミック多
層基板への電子部品の装着状態を示す正面図、第4図は
その平面図、第5図、第6図はその要部の拡大図である
。 1・・・・・・セラミックス多層基板本体、2・・・・
・・凹部、3・・・・・・導体1.4・・・・・・電子
部品本体、5・・・・・・端子、6・・・・・・半田。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  セラミック多層基板本体の表面に、実装される電子部
    品本体および上記電子部品本体の周囲端面より突出され
    る端子が嵌入される凹部を設け、上記電子部品本体の端
    子が嵌入される凹部底面に導体を露出させたことを特徴
    とするセラミック多層基板。
JP61248711A 1986-10-20 1986-10-20 セラミツク多層基板 Pending JPS63102392A (ja)

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JP61248711A JPS63102392A (ja) 1986-10-20 1986-10-20 セラミツク多層基板

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JPS63102392A true JPS63102392A (ja) 1988-05-07

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Family Applications (1)

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JP (1) JPS63102392A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6129256A (en) * 1999-09-21 2000-10-10 Intel Corporation Reflow furnace for an electronic assembly

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6129256A (en) * 1999-09-21 2000-10-10 Intel Corporation Reflow furnace for an electronic assembly

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