JPS63102332A - 半導体装置の検査方法 - Google Patents

半導体装置の検査方法

Info

Publication number
JPS63102332A
JPS63102332A JP24874786A JP24874786A JPS63102332A JP S63102332 A JPS63102332 A JP S63102332A JP 24874786 A JP24874786 A JP 24874786A JP 24874786 A JP24874786 A JP 24874786A JP S63102332 A JPS63102332 A JP S63102332A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
color
couping
defective
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24874786A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Tominaga
健司 富永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP24874786A priority Critical patent/JPS63102332A/ja
Publication of JPS63102332A publication Critical patent/JPS63102332A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体装置の検査方法に関するものである。
従来の技術 第2図に従来例の模式図を示す。従来半導体装置の電気
特性検査工程において、次工程のダイスボンド工程で良
品と不良品とを分別するために、色素を含有する熱硬化
性インクを針金あるいはナイロンテグスのリードを有す
るインカー6で不良品チップ4の表面に付着させた後、
オーブンで加熱して硬化および安定化させている。この
加熱処理により、インクはスクライブ時の圧力水シャワ
ーによってはがれないようになる。
発明が解決しようとする問題点 上述の従来技術によれば、インクの種類によっては粘度
の調整が困難で、熟練を要する。たとえば、インクの粘
度が低い場合はインカー6のインクつぼからインクがこ
ぼれやすく、万一、良品のプローブカード基板1にイン
クが付着すると、リークの原因となる。またインク5は
、チップ表面で広がりやすく、最悪の場合、隣接する良
品チップまで汚染することもある。一方、粘度が高い場
合は、チップ表面でインクが盛り上って高くなり、不良
チップにインクを付着させた後、次のチップへ移動する
場合、プローブ2の先端が、インク5の山にひっかかっ
て汚染され、これが接触不良の原因となる。
また、チップサイズが小さい場合、インカーの位置合わ
せおよび高さ調整が困難である。第2図の従来例に示す
ように通常は、チップ4の周辺にパッド3があり、イン
ク5はチップ4の中央付近に付着させるが、チップサイ
ズが小さくなるとインク5を付着させることのできる領
域の面積が小さくなり、インカー6の位置および高さ調
整が困難になると同時に、プローブ2をインクで汚染す
る率が高(なり、前述のように接触不良やリークの原因
となる。
本発明はかかる問題点を解決する手段を提供するもので
ある。
問題点を解決するための手段 本発明は、チップ表面に熱発色性色素あるいは熱発色性
色素を含有する樹脂を塗布し、後工程の電気特性検査で
不良と判別されるものは、同チップ内の発熱要素に通電
して、その熱発色性色素あるいは熱発色性色素を含有す
る樹脂を硬化、変色させるものである。
作用 本発明によれば、半導体装置の電気特性を測定し不良品
チップと判定した場合、同半導体装置内の発熱要素に電
流を流して発熱させて、熱発色性色素あるいは熱発色性
色素を含有する樹脂を発色させることにより、ダイスボ
ンド工程において良品チップと不良品チップの選別を可
能にすることができる。
実施例 第1図は、本発明の詳細な説明するための模式的斜視図
であり、この図に示すように、半導体装置チップ4の周
辺部に、ポリシリコンで約100Ω程度の発熱用抵抗体
7を、両端にパッドを有するように形成し、所定の製造
工程を経た後、ウェハ表面に熱発色性色素(発色IH度
40℃〜150℃)を含有するチップコート樹脂8を塗
布し、フォトリソグラフィ工程およびドライエツチング
工程によってパッド部3およびスクライブレーン10上
のチップコート樹脂8を選択的に除去する。このように
して作製した半導体装置の電気特性を、プローブカード
基板1に装着された多数のプローブ2を有するICテス
ターを用いて、そのプローブ2をチップ4上のパッド3
に当接して特性測定し、不良品チップと判定した場合、
既に形成しているポリシリコンの発熱用抵抗体7の両端
パッドに10V以上の電圧を印加して発熱させ、熱発色
性色素を発色させ、この部分を熱発色部9として残存さ
せる。これにより、良品チップと不良品チップとの分別
が可能になる。
発明の効果 本発明によれば、従来技術の問題点がことごと(排され
、ダイスボンド工程での良品チップの選別がチップコー
ト樹脂の発色によって容易に可能である。また、チップ
コート樹脂を塗布することが標準工程となっている品種
では、製造工程と増加させることな(、本発明の適用が
可能でありその工業的価値は大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体装置の検査方法の概要を示す斜
視図、第2図は従来例の概要を示す斜視図である。 1・・・・・・プローブカード基板、2・・・・・・プ
ローブ、3・・・・・・パッド、4・・・・・・チップ
、5・・・・・・インク、6・・・・・・インカー、7
・・・・・・発熱用抵抗体、8・・・・・・熱発色性色
素あるいは熱発色性色素を含有する樹脂、9・・・・・
・熱発色部、10・・・・・・スクライブレーン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体装置形成後に同半導体装置チップの表面に熱発色
    性色素あるいは熱発色性色素を含有する樹脂を塗布し、
    電気特性測定後に不良品チップ上の前記熱発色性色素あ
    るいは熱発色性色素を含有する樹脂を、同不良品チップ
    内の発熱要素に通電して、加熱変色させることを特徴と
    する半導体装置の検査方法。
JP24874786A 1986-10-20 1986-10-20 半導体装置の検査方法 Pending JPS63102332A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24874786A JPS63102332A (ja) 1986-10-20 1986-10-20 半導体装置の検査方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24874786A JPS63102332A (ja) 1986-10-20 1986-10-20 半導体装置の検査方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63102332A true JPS63102332A (ja) 1988-05-07

Family

ID=17182766

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24874786A Pending JPS63102332A (ja) 1986-10-20 1986-10-20 半導体装置の検査方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63102332A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6211689B1 (en) 1998-01-14 2001-04-03 Nec Corporation Method for testing semiconductor device and semiconductor device with transistor circuit for marking
FR2868600A1 (fr) * 2004-04-05 2005-10-07 St Microelectronics Sa Procede de preparation de puces electroniques, et ensemble de puces en resultant
US7233161B2 (en) 2002-12-14 2007-06-19 Infineon Technologies Ag Integrated circuit and associated packaged integrated circuit having an integrated marking apparatus

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6211689B1 (en) 1998-01-14 2001-04-03 Nec Corporation Method for testing semiconductor device and semiconductor device with transistor circuit for marking
US7233161B2 (en) 2002-12-14 2007-06-19 Infineon Technologies Ag Integrated circuit and associated packaged integrated circuit having an integrated marking apparatus
FR2868600A1 (fr) * 2004-04-05 2005-10-07 St Microelectronics Sa Procede de preparation de puces electroniques, et ensemble de puces en resultant
WO2005101482A1 (fr) * 2004-04-05 2005-10-27 Stmicroelectronics Sa Procede de preparation de puces electroniques, et ensemble de puces en resultant

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7452438B2 (en) Method of fixing a probe needle to a needle fixture of a probe card in semiconductor inspection equipment
ITVI20100159A1 (it) Struttura di rilevamento dell'allineamento di una sonda atta a testare circuiti integrati
DE19717369A1 (de) Prüfkarte und diese verwendende Untersuchungsvorrichtung
JPS63102332A (ja) 半導体装置の検査方法
EP1021704B1 (de) Verfahren zur detektion von kondensationen an oberflächen
US6340604B1 (en) Contactor and semiconductor device inspecting method
JPS62136039A (ja) 半導体チツプの不良マ−キング方法
KR0154164B1 (ko) 반도체소자의 제조방법
JPH0346246A (ja) 検査装置
JPS6233433A (ja) 高耐圧半導体素子の製造方法
JPS6222448A (ja) Icの形成されたウエ−ハ
JPH0376241A (ja) 半導体装置
JPH0322456A (ja) 半導体装置及びその検査方法
KR200221077Y1 (ko) 전도성 고분자 프루브 카드
JPS6225432A (ja) 半導体回路形成部の検査法
JP2755220B2 (ja) 半導体集積回路装置及びその検査方法
JPH03200347A (ja) 不揮発性メモリ装置の測定方法
JPS6143441A (ja) 半導体装置のテスト方法
JPH03185744A (ja) 半導体素子
JPS5946417B2 (ja) 不良半導体チツプ表示方法
JPH0584669B2 (ja)
TW202009501A (zh) 與面向受測裝置側之光源整合的晶圓探針卡及製造方法
JPH01108737A (ja) 半導体集積回路の検査方法
JPH05299466A (ja) 半導体チップ構造およびその製造方法
JPH05157780A (ja) 抵抗素子プロセスモニター装置