JPS63102152A - レ−ザ・マイクロプロ−ブ分析装置 - Google Patents

レ−ザ・マイクロプロ−ブ分析装置

Info

Publication number
JPS63102152A
JPS63102152A JP61246586A JP24658686A JPS63102152A JP S63102152 A JPS63102152 A JP S63102152A JP 61246586 A JP61246586 A JP 61246586A JP 24658686 A JP24658686 A JP 24658686A JP S63102152 A JPS63102152 A JP S63102152A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
focusing
laser
sample
automatic focus
detection system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61246586A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Morinaka
森中 彰
Norihiro Funakoshi
宣博 舩越
Akihiko Yamaji
昭彦 山路
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP61246586A priority Critical patent/JPS63102152A/ja
Publication of JPS63102152A publication Critical patent/JPS63102152A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、試料の分子或いは原子組成を分析するレーザ
励起の質量分析装置において、微少点分析を行なうため
の、レーザ励起光源の自動焦点調整を行なうことの可能
なレーザ・マイクロプローブ分析装置に関するものであ
る。
「従来の技術」 最近の科学技術の進歩に対応して、材料科学の分野にお
いても、材料の組成、結合状態を解析し、材料物性にフ
ィード・バックをかける事が重要となっている。このよ
うな情況下で、ESCA、オージェ等の電子分光による
材料組成解析、ケイ光X線による組成解析が活発に研究
されている。質量分析の分野においても、従来のガス質
量分析装置、電気四重極質量分析装置の他にレーザ光源
を用いて分析用ソースを蒸発させてイオン化するレーザ
励起型の分析装置が現われ始めた。
従来のレーザ質重分析装置の概念を第5図に示す。図中
、11は指示用レーザ光源、12は測定点指示用レーザ
光軸、13は励起用パルスレーザ光源、14は励起レー
ザ光軸を示す。15はミラー群、16はハーフミラ−或
いはグイクロイックミラー群を示す。17は光学顕微鏡
用光源、18は顕微鏡用接眼レンズを示す。19は測定
用真空チャンバを示す。110は集光用曲面ミラー群、
illはイオン・ディレクター、112はイオン反射光
学系、113はイオン・ディレクタを示す。
114は測定試料、115は排気ポンプ方向を示す。1
16は質量分析制御装置を示す。117はイオン引出し
静電レンズを示している。
上記の装置の動作原理は、測定点指示レーザllで11
4試料面を指示し、110の収束ミラー用凹面鏡群に対
する試料114の位置を微動セットし、13の励起レー
ザ光をパルス発光させ、そのレーザ光を114の試料に
照射し試料を蒸発させ、117のレンズ系でイオン引出
しを行ない、111.112,113の質量分析系で質
量分析を行なうものである。
「発明が解決しようとする問題点」 ところで、上記従来のレーザ分析装置は励起レーザ光の
収束位置に試料面をセットすることが非常に困難であり
、このために測定の再現性、試料面でのデフォーカスに
問題があり、測定が困難なものであった。特に、試料同
一部にスポットサイズ均一に数ショットのパルスを重ね
て照射し分析するような場合は、この焦点面位置のずれ
が致命的となり、レーザエツチングによる厚み方向分析
は全く行なうことができなかった。
本発明は以上述べた従来のレーザ・マイクロプローグ分
析装置の欠点を改善するために発明されたもので、照射
レーザ光の焦点位置を常に試料面に自動セットすること
を特徴とし、再現性、測定の容易さにすぐれた分Fr位
置を世に供することがその目的である。
「問題点を解決するための手段」 本発明は、レーザを励起源として高真空中におかれた試
料に照射することによりイオン化された原子或いは分子
を質量分析計に導入し質量分析を行なうレーザ・マイク
ロプローグ分析装置において、試料測定点を指示する為
のポインティング光学系、この反射光を用いて励起レー
ザ光源用のフォーカシングを自動的に行なう自動フォー
カス検出系、及び自動フォーカス検出系からの電気信号
を処理し、試料または自動フォーカス検出系の対物ミラ
ー群をドライブする自動フォーカス移動系、により構成
されることを特徴とするものである。
「実施例」 以下、本発明の実施例について述べる。
ここで述べる実施例は、第5図の従来の装置に自動焦点
合わせ検出系を付加したものである。
第2図は自動焦点合わせ検出系を示すもので、21は偏
光したポインティング自動フォーカス系レーザ光、22
は励起用パルスレーザ光、23は偏光ビームスプリッタ
、24はλ/4波長板、25は2光束レーザ光、26は
収束用曲面ミラー群、27は試料、28は質量分析用イ
オン引出し方向、29は自動フォーカス用光ディテクタ
、21Oは試料微動台、211はハーフミラ−を示す。
この検出系の動作原理を以下に説明する。レーザ光21
は収束用曲面ミラー群26により試料27に入射する。
試料面から反射した光は偏光ビームスプリッタ23、λ
/4波長板24を通過し4分割した光デイテクタ29上
に結像する。光デイテクタ29上に結像したレーザ光と
焦点位置との関係を第3図に示す。(a)は合焦点にあ
る場合でレーザ光はディテクタ面の内側に結像する。(
b)は合焦点から外れ手前(アンダー)の場合、(C)
は外れ向う側(オーバー)の場合、(d)は斜めに位置
した場合である。なお、第3図(a)〜(d)において
符号31はフォト・ディテクタ支持台、32は4分割フ
ォト・ディテクタ面、33は合焦点位置でのレーザ光、
34はアンダ・フォーカス位置でのレーザ光、35はオ
ーバー・フォーカス位置てのレーザ光、36は斜め位置
でのレーザ光を示す。第4図は光ディテクタ29の4つ
のセルの和信号出力と焦点位置との関係を示す。合焦点
の時出力は最大となるが、合焦点から外れると出力は低
下する。この出力信号を微動系210にフィードバック
しサーボをかけることにより自動フォーカスが出来る。
第1図は第5図の装置に上述した第2図の系を付加した
レーザ・マイクロプローグ分析装置の全体構成を示す図
である。
第5図中のミラー15.16  間に第2図中の23.
24.29の焦点位置測定用の光学部品をセットし、試
料にAQミラーをセットし、フォトディテクタの出力を
測定し、焦点位置と出力の補正カーブを得た。次に、分
割ディテクタの対角成分と210による角度アオリ成分
を測定構成し、アオリ角度と出力の補正カーブを得た。
次に、ここで得た2つの補正カーブを用いてサーボルー
プ回路を構成し、このループを備えた微動系(第2図中
の27,210)をセットした。
この自動フォーカスを備えたレーザ・マイクロプローブ
分析装置を用いて質量分析を行なった所、焦点法めに要
する時間は10秒と従来のl/30となり大幅な向上が
見られた。また、励起パルス光を同一スポットにあてて
厚み方向の質量分析をあらかじめ厚み方向に分布を持た
せた標準試料に対して行なった。この結果、従来の分析
装置では励起光のデフォーカスのため厚み方向分離精度
が500人であったが、本発明では150Aと約l/3
倍に向上した。
「発明の効果」 以上述べた様に、本発明によるレーザ・マイクロプロー
ブ分析装置は、ポインティング光学系に挿入した焦点サ
ーボ系によって、試料面の焦点設定が非常に容易になり
、かつ焦点設定の人為的ゆらぎが排除されるため、測定
スポット形状が一定となるため、分析のバラつきが非常
に小さくなる利点を持っている。
また、分析試料面の同一スポットに複数パルスを加えて
、いわゆるエツチング深さ分析する事が、自動焦点合わ
せによって可能となった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例として示したレーザ・マイク
ロプローブ分析装置の概略構成図、第2図は同実施例の
自動焦点合わせ検出系の概略構成図、第3図は(a)〜
(d)は同実施例における光ディテクタの結像図、第4
図は同実施例における光デイテクタ出力と焦点位置との
関係を示す図、第5図は従来のレーザ・マイクロプロー
ブ分析装置の概略構成図である。 11・・・・・・指示用レーザ光源、13・・・・・・
励起用パルスレーザ光源、15・・・・・・ミラー群、
16・・口・・ハーフミラ−及びグイクロイックミラー
群、23・・・・・・偏光ビームスプリッタ、24・・
・・・・λ/4波長板、26・・・・・・収束、焦光用
曲面ミラー群、27・・・・・・試料、29・・・・・
・光ディテクタ、110・・口・・焦光用曲面ミラー群
、111・・・・・・イオンディフレクタ−1+12・
・・・・イオン反射光学系、113・・・・・・イオン
ディテクタ、114・・・・・・試料、116・・・・
・・質量分析制御装置、210・・・・・試料微動台、
211・・目・・ハーフミラ−0

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レーザを励起源として高真空中におかれた試料に
    照射することによりイオン化された原子或いは分子を質
    量分析計に導入し質量分析を行なうレーザ・マイクロプ
    ローブ分析装置において、試料測定点を指示する為のポ
    インティング光学系、この反射光を用いて励起レーザ光
    源用のフォーカシングを自動的に行なう自動フォーカス
    検出系、及び自動フォーカス検出系からの電気信号を処
    理し、試料または自動フォーカス検出系の対物ミラー群
    をドライブする自動フォーカス移動系、により構成され
    ることを特徴とするレーザ・マイクロプローブ分析装置
  2. (2)上記自動フォーカス検出系が偏光ビームスプリッ
    タ、λ/4波長板、対物収束ミラー、光ディテクタによ
    り構成されることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載のレーザ・マイクロプローブ分析装置。
JP61246586A 1986-10-17 1986-10-17 レ−ザ・マイクロプロ−ブ分析装置 Pending JPS63102152A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61246586A JPS63102152A (ja) 1986-10-17 1986-10-17 レ−ザ・マイクロプロ−ブ分析装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61246586A JPS63102152A (ja) 1986-10-17 1986-10-17 レ−ザ・マイクロプロ−ブ分析装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63102152A true JPS63102152A (ja) 1988-05-07

Family

ID=17150619

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61246586A Pending JPS63102152A (ja) 1986-10-17 1986-10-17 レ−ザ・マイクロプロ−ブ分析装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63102152A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008503858A (ja) * 2004-06-21 2008-02-07 ヴァーミリオン インコーポレイテッド 定量再現性を有するレーザー脱離イオン化質量分析計
CN105957795A (zh) * 2016-06-08 2016-09-21 浙江富春江环保科技研究有限公司 一种两束激光合束及线性聚焦装置
CN112903801A (zh) * 2021-01-27 2021-06-04 南开大学 一种离子光解离方法及装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008503858A (ja) * 2004-06-21 2008-02-07 ヴァーミリオン インコーポレイテッド 定量再現性を有するレーザー脱離イオン化質量分析計
CN105957795A (zh) * 2016-06-08 2016-09-21 浙江富春江环保科技研究有限公司 一种两束激光合束及线性聚焦装置
CN112903801A (zh) * 2021-01-27 2021-06-04 南开大学 一种离子光解离方法及装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6689602B2 (ja) 荷電粒子ビームシステム及び方法
JP3754696B2 (ja) 電気的に絶縁された標本表面の分析装置
US5055679A (en) Surface analysis method and apparatus
JP6275412B2 (ja) レーザ・ビームと荷電粒子ビームの一致位置合せ方法
JP2002134059A (ja) 集束イオンビーム装置
JPH05113418A (ja) 表面分析装置
JP2002189004A (ja) X線分析装置
JPS63102152A (ja) レ−ザ・マイクロプロ−ブ分析装置
US9299552B2 (en) Sputter neutral particle mass spectrometry apparatus
US4208585A (en) Apparatus for focusing electromagnetic radiation on a sample
JPH05332934A (ja) 分光装置
JPS61168852A (ja) 透過形電子顕微鏡の焦点合せ装置
CN113466266A (zh) 用于获取3d衍射数据的方法和系统
JPS62133339A (ja) ルミネツセンス測定装置
JPH11135052A (ja) 走査電子顕微鏡
JPH0945276A (ja) 質量分析計
JPH0836986A (ja) 荷電粒子ビーム装置
JPH11304420A (ja) 光ビーム照射位置検出方法、照射位置検出用プレート、及び異物検出装置
JPH01213944A (ja) 電子線照射型分析装置
JP2023517273A (ja) サンプル上に複数の荷電粒子ビームレットのアレイを投影するための装置及び方法
JPH0560702A (ja) X線を用いた断層像撮像方法及び装置
JPH01232316A (ja) 赤外吸収スペクトル測定顕微鏡装置
JP2000329716A (ja) オージェ電子分光装置および深さ方向分析方法
JP5713403B2 (ja) 中エネルギーイオンビーム散乱を用いた分光分析器
JPS6388742A (ja) 試料表面観察装置