JPS6299930A

JPS6299930A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JPS6299930A
Application number: JP60238927A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Miyazono; 宮園　泰
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1985-10-25
Filing date: 1985-10-25
Publication date: 1987-05-09
Also published as: JPH0359493B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、光学的に情報の記録、再生または消去が可能
な光情報記録媒体に関するものであり、特に情報の記録
、再生または消去を行う光の１−ラッキングを容易にす
るためのガイド部を有する光情報記録媒体に関するもの
である。

〔従来の技術〕

従来、この種の光情報記録媒体としては、例えば第５図
に示すようなサンドイッチ構造の光情報記録媒体があっ
た。なお、第５図（ａ）は断面図、同図（ｂ）は記録層
を被着した部分の部分拡大断面図である。

この媒体は、記録層１，２を一主表面に被着した透光性
基板３，４と、この透光性基板３，４を所望する間隔に
配設するリング状の内側スペーサ５及び外側スペーサ６
と、この内側スベーリ５及び外側スペーサ６を透光性基
板１，２にそれぞれ固着する接着剤７とからなり、記録
Ｆｊ１と記録層２どが相対向しているサントイツブ構造
を基本構造にしているものである。ざらに、第５図（ｂ
）に示ずように、記録層１を被着した透光性基板３の表
面には凹凸部が設けられ（なお、透光性基板４も同様で
あることから説明を省略する。）、その凸部が情報を記
録する記録層１を被着した記録部８を、凹部がＵイド部
９をそれぞれ形成している。

そして、この記録部８とガイド部９とは、同心円状に交
互に複数配設されている。このガイド部９の深さは、図
の矢印１０で示す方向、すなわち透光性基板３側からレ
ーザ光を照射したとき、記録部８の上面からの反射光の
強度とガイド部９の底面からの反射光の強度が、それぞ
れの照射光との干渉作用により、著しく異なるように設
定されている（例えば、レーザ光の波長が８３０ｔｔｓ
のとき約８００人である。）。したがって、従来の媒体
は、その照射する光の光路差から生ずる干渉作用によっ
て、記録部８からの反射光強度とガイド部９からの反射
光強度との差を設けることにより、記録部８とガイド部
９とを識別していた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、従来の光情報記録媒体は、前述したよう
に記録部８とガイド部９とを凹凸の関係にして反射光強
度に差を設けて識別していることから、その差を大きく
するため、すなわち反射光強度比（反射光強度の大ぎい
方を基準にしたときの比）を０．８以下にするためには
、その深さをλ／（８ｎ）　（但し、λは照射光の波長
、ｎは基板の屈折率である。）近傍の値とし、その精度
を１５％と高める必要があり、この範囲に四部を形成す
ることは、非常に困難であった。

本発明は、この欠点を除去づるためになされたもので、
その目的は、ガイド部と記録部とを凹凸の関係にしなく
ても識別ができるようにした光情報記録媒体を提供する
ことである。

（問題点を解決するための手段）前述した目的を達成するために、本発明の特徴は、基板
上に記録層を設けた光情報記録媒体において、前記基板
の一主表面にガイド部と記録部とが形成され、前記ガイ
ド部及び前記記録部の少なくともいずれか一方が粗面が
らなり、がっ前記ガイド部の表面粗さと前記記録部の表
面粗さとが異なることである。

なお、本発明の基板は、ガラス基板やアルミニウム基板
等の基板に限らず、これらの基板上にガイド部と記録部
を形成する薄膜（例えば、シリコン′酸化物膜、シリコ
ン窒化物膜等）を被着したものや、ガラス基板、アルミ
ニウム基板等の基板と前記薄膜との間に中間層を設けた
ものも含む。

〔作　用〕

本発明の光情報記録媒体は、ガイド部の表面を記録部の
表面よりも粗く、又は記録部の表面をガイド部の表面よ
りも粗くしたことから、記録部表面どガイド部表面から
の反射光強度を異にすることができる。

（実施例）本発明の光情報記録媒体の一実施例を第１図及び第２図
に基づき詳細に説明する。なお、本例の光情報記録媒体
の基本構造は前述した第５図（ａ）に示したものと同様
であるのでその説明は省略し、従来の媒体と異なる基板
の形状について詳述する。

また、第１図は、従来の記録層１を被着した透光性基板
３に対応する、記録層１６を被着した基板１１を示ず部
分拡大断面図であり、第２図はその基板１１にガイド部
と記録部とを形成する工程を示す部分拡大断面図である
。また、従来の記録１ｉ！１２を被着した透光性基板４
に対応する本例の基板については、前記基板１１と同様
であることからその説明を省略する。

先ず、本例の基板１Ｎよ、第１図に示すように、外径１
３０ｍｍ、内径１５１Ｊ厚さＬ　２ｍｍの中心に貫通孔
を有する円板状のガラス基板１２（例えば、ソーダライ
ムガラス）と、このガラス７３板１２上に被着した酸化
シリコン膜１３（膜厚：　ｔｏｏｏ人）とからなる透光
性基板であり、この透光性基板１１の酸化シリコン膜１
３の表面には、その一部を粗面（表面最大粗さ：　　３
００人、その粗面の凹と凹又は凸と凸どの平均間隔：　
２０００人）として形成されたガイド部１４と、このガ
イド部１４と比して表面最大粗さが小さい表面（表面最
大粗さ２２０人）として形成された記録部１５とを備え
ている。そして、記録部１５上には、追記型記録材料で
あるＴｅからなる記録層１６（膜厚：２００人）が被着
され、ガイド部１４にもＴａ膜１７が被着している。ま
た、ガイド部１４のｌ】は１μｍであり、記録部１５の
巾は２μｍであり、それぞれ向心円状に交互に複数形成
されている。

次に、本例の透光性基板１１にガイド部１４と記録部１
５を形成する工程を第２図に基づぎ説明づ−る。

先ず、主表面を精密研摩したガラス基板１２（表面最大
粗さ２２０人）上に電子ビーム蒸着法により酸化シリコ
ン膜１３を被着して透光性基板１１を製作し、次に、こ
の酸化シリコン膜１３上にフォトレジスト膜１８（例え
ば、ヘキスト社製のポジ型レジストである＾ｌ−１３５
０を希釈したものであり、その膜厚は１０００人である
。）を塗布し、次にこのフォトレジスト膜１８をプレベ
ークしく温度９０℃、時間３０分）、次にガイド部１４
となる位置に、Ａｒレーザ１９を用い【フォトレジスト
膜１８を露光する（同図（ａ））。次に、フォトレジス
ト膜１８をＡＺディベロツバ（ヘキスト社製）により現
像し、ボス１−ベークしく温度１００℃、時間３０分）
、フォトレジストパターン２０を形成したく同図（ｂ）
）。次に、このフォトレジストパターン２０をマスクと
して、酸化シリコン膜１３をＣ「４ガスでドライエツチ
ングし、酸化シリコン膜１３の表面にガイド部１４を形
成した（同図（Ｃ））。なお、このエツチング条件は、
ガス流ｆｌ１３０スタンダード　センチメータ　キュー
ビック　バー　ミニツツ（ＳＣＣ１４）　、全圧０．３
Ｔｏｒｒ１高周波電力密度０．３Ｗ　／　ｃｉ２である
。次に、酸素ガスによって、フォ１−レジス１−パター
ン２０を除去し、記録部１５を露出させる（同図（ｄ）
）。次に、真空蒸着法により、酸化シリコン膜１３上に
Ｔｅを被着し、記録層１６を記録部１５上に積層する（
同図（Ｃ））。このとぎには、ガイド部１４にも■０膜
１７が被着される。

以上のようにして形成されたガイド部１４と記録部１５
との反射率をガラス基板１２側から照射したレーザ光（
波長は８３０ｎｍであり、第５図（ｂ）に示す矢印方向
と同方向から照射するａ）について測定すると、ガイド
部１４の反射率は約２５％であり、一方記録部１５の反
射率は約４０％であるから、反射光強度比は約０．６と
なり、十分にガイド部↑４と記録部１５とを識別するこ
とができた。ここで、反射率７とガイド部１４の表面粗
さとの関係を調べると第３図の曲線Ａとなる。すなわち
、記録部１５（表面粗さ：２０−人）の反射率４０％に
対して反射光強度比が０．８以下となるのは、１５０Å
以上の表面粗さのときであり、またガラス基板１２その
ものの反射率５％程度となって、ガラス基板１２からの
反射と識別ができなくなる１０００人までの範囲の粗さ
であれば、十分に識別できる。すなわち、表面粗さの下
限は、記録部の表面粗さによって反射光強度比が変化す
ることから一定ではないが、上限の１０００人は、基板
１２がガラスであればほぼ一定である。また、ガイド部
１４の凹と凹又は凸と凸との間、すなわち表面粗さの平
均間隔と反射率との関係は第４図の曲線Ｂに示すとおり
であり、５０００Å以下であれば反射光強度比は０．８
以下となる。

以上、本発明は、前記実施例に限らず、次のようなもの
であってもよい。

先ず、前記実施例では、ガイド部を記録部と比して表面
粗さを粗くしたが、逆であっても識別することができる
。しかし、記録部の方をより粗面にする場合、その反射
率と記録部の表面粗さの記録感度への影響とを考慮する
必要が生じ、その両者の兼ね合いにより表面粗さ全決定
しなければならなくなる。したがって、望ましくは表面
粗さから生じる反射率と記録感度の両者を分離して取り
扱うことが可能なガイド部を記録部よりも粗面として用
いる方がよい。また、前記実施例では、ガラス基板上に
ガイド部及び記録部を形成するための簿膜を形成して基
板としたが、ガラス基板そのものを基板として、その表
面にガイド部及び記録部を直接形成してもよい。さらに
、ガラス基板と、ガイド部及び記録部を形成する薄膜と
の間に、その薄膜の付着力を向上させるだめの中間層（
例えば周期律表の■族、　ＩＶ族、Ｖ族の元素、化合物
又はこれらの酸化物、窒化物等）を介在往しめて基板と
してもよい。また、これら薄膜、中間層の厚さは特に限
定されるものではない。したがって、ガイド部又は記録
部の粗面が、例えば前記実施例のようにガラス基板に薄
膜を被着したもののとき、薄膜とガラス基板の両方にわ
たってもよい。さらに、薄膜としては、周期律表の■族
、■族、Ｖ族の元素、化合物又はこれらの酸化物、窒化
物等でもよい。

また、前記実施例では、ガラス基板としてソーダライム
ガラスを用いたが、他のガラス、例えば石英ガラスやア
ルミノシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラ
ス等の多成分ガラスまたはセラミックを用いてもよく、
またイオン交換処理を施したガラスであってもよい。ま
た、光情報記録媒体の基本構造は、サンドインチ構造に
限定されず、記録材料、記録方法等により適宜決定する
ことができる。また、光情報記録媒体の基本構造がサン
ドインチ構造ではなく、一枚の基板上に記録層を被着し
、この記録層に透光性の保護膜又はガラス等からなる透
光性の封止材を被着し、この保護膜側から情報を記録、
再生または消去をする光を照射するときは、基板はアル
ミニウム等の透光性でない材質であってもよい。

また−１前記実施例では、平滑な基板表面を粗面にして
ガイド部を形成したが、逆に粗面を平滑な面にして記録
部を形成してもよい。すなわち旌えば、前記実施例の基
板のときは、酸化シリコン膜を先ず３００人の表面粗さ
を有する粗面にし、次にその表面にポジ型のフォトレジ
スト膜を塗布し、次に記録部となるところをＡｒレーザ
でフォトレジスト膜を露光し、現（ｉ−Ｊ−る。次に、
露出された粕［ｆｆｉヲ、ＣＦ４カスヲｆｆｉイ、ｊＪ
　ス流ｆｆｉ３０ｓｅｃＭ、　全圧０、２Ｔｏｒｒ、高
周波電力密ｔｌＩｔ　０．２Ｗ／ｃ＋＋２の条件でエツ
チングして平滑な表面の記録部を形成覆る。

そしてフォトレジスト膜を除去して前記実施例と同様の
基板を製作する。

また、前記実施例では、ガイド部にも記録層と同様の膜
が被着している。しかし、ガイド部には必ずしも記録層
と同様の膜を被着させる必要もなく、他の材料のもので
もよく、また膜を被着させなくてもよい。

また、前記実施例では、記録層として追記型記録材料で
あるＴｅを用いたが、他の材質、例えば、Ｓｅ、　Ｇｅ
Ｔｅ、　ＴｅＣ等や、書換型記録材料であるＴｂＦｅ。

ＧｄＴｂＦｅ等であってもよく、さらに光吸収剤を添加
した有機物等であってもよい。また、記録層は複層であ
ってもよい。さらに、前記実施例では同心円状のガイド
部（プレグルーブ）であったが、螺旋状のプレグルーブ
やトラック番号、セクター及びセクタ一番号等のガイド
部に対しても同様の効果がある。

〔発明の効果〕

以上のとおり、本発明の光情報記録媒体によれば、ガイ
ド部又は記録層の表面をもう一方の表面よりも粗くする
ことにより、ガイド部と記録部とを凹凸の関係にするこ
となく、良好に識別することができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光情報記録媒体の一実施例を示す部分
拡大断面図、第２図は本発明の一実施例の製造■稈を示
す部分拡大断面図、第３図はガイド部の表面粗さと反射
率との関係を示す特性図及び第４図はガイド部の表面粗
さの平均間隔と反射率との関係を示す特性図である。第
５図は従来の光情報記録媒体を示す図であり、同図（ａ
）は断面図、同図（ｂ）は部分拡大断面図である。１１・・・透光性基板、１２・・・ガラス基板、１３・
・・酸化シリコン膜、１４・・・・ガイド部、１５・・
・記録部、１６・・・記録層

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基板上に記録層を設けた光情報記録媒体において
、前記基板の一主表面にガイド部と記録部とが形成され
、前記ガイド部及び前記記録部の少なくともいずれか一
方が粗面からなり、かつ前記ガイド部の表面粗さと前記
記録部の表面粗さとが異なることを特徴とする光情報記
録媒体。
（２）ガイド部の表面粗さが、記録部の表面粗さよりも
粗いことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の
光情報記録媒体。