JPS6298637A - 位置決め機構 - Google Patents
位置決め機構Info
- Publication number
- JPS6298637A JPS6298637A JP23721885A JP23721885A JPS6298637A JP S6298637 A JPS6298637 A JP S6298637A JP 23721885 A JP23721885 A JP 23721885A JP 23721885 A JP23721885 A JP 23721885A JP S6298637 A JPS6298637 A JP S6298637A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- stage
- mirrors
- covers
- length measurement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
- Controlling Sheets Or Webs (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は半導体製造装置にかかわり、特にレーザ測長器
を用いた精密位置決めを行なうステージ機構に関する。
を用いた精密位置決めを行なうステージ機構に関する。
特開昭５４−１３４９８４号公報に開示されている従来
技術にはステージ位置なレーザ測長器で計測する技術が
使用されているつじかし、この技術ではレーザ光路中の
大気の乱れによる測長器のバラツキの問題に対して考慮
されていなかった。
技術にはステージ位置なレーザ測長器で計測する技術が
使用されているつじかし、この技術ではレーザ光路中の
大気の乱れによる測長器のバラツキの問題に対して考慮
されていなかった。
本発明の目的は、レーザ光路中の大気の乱れを防いでレ
ーザ測長値のバラツキを低減し、精密なステージ位置決
め機構を提供することにあるう 〔発明の概要〕 上記目的を達成する為に、本発明はＸＹステージ上に設
置された直交する２本のレーザ測長用ミラーと、それに
対応するレーザ干渉器との間にそれぞれ光路カバーを設
ける事により、クリーンルーム内の空気の流れがレーザ
光路に屈折率のムラを引き起こして生じる、レーザ測長
のバラツキを低減するものである。
ーザ測長値のバラツキを低減し、精密なステージ位置決
め機構を提供することにあるう 〔発明の概要〕 上記目的を達成する為に、本発明はＸＹステージ上に設
置された直交する２本のレーザ測長用ミラーと、それに
対応するレーザ干渉器との間にそれぞれ光路カバーを設
ける事により、クリーンルーム内の空気の流れがレーザ
光路に屈折率のムラを引き起こして生じる、レーザ測長
のバラツキを低減するものである。
以下、本発明の一実施例を第１図、第２図を用いて説明
する。
する。
第１図は半導体ウェハの位置決めに用いられるＸＹステ
ージであり、ヘースプレート６の上にＹテーブル５、Ｘ
テーブル１がそれぞれ走行ガイド１２をかいして支持さ
れている。更に、Ｘテーブル１、Ｙテーフ゛ル５共にポ
ールネジ３を介してＤＣモータ４により駆動される。Ｘ
テーブル１上にはレーザ副長用のＬミラー２が搭載され
、レーザ干渉器１１との間の距離の変化が計測される。
ージであり、ヘースプレート６の上にＹテーブル５、Ｘ
テーブル１がそれぞれ走行ガイド１２をかいして支持さ
れている。更に、Ｘテーブル１、Ｙテーフ゛ル５共にポ
ールネジ３を介してＤＣモータ４により駆動される。Ｘ
テーブル１上にはレーザ副長用のＬミラー２が搭載され
、レーザ干渉器１１との間の距離の変化が計測される。
一方、レーザ干渉器１１とＬミラー２との間には干渉器
１３に結合された固定カバー８と、それとかん合し、か
つ光軸方向に移動可能なスライドカバー７が設けられて
いる。更に、該スライドカバー７にはパルスモータによ
り駆動されるラック／ビニオン機構のカバー駆動機構９
が取旬られている。この光路カバー機構はＸＹ両軸に設
けられている。
１３に結合された固定カバー８と、それとかん合し、か
つ光軸方向に移動可能なスライドカバー７が設けられて
いる。更に、該スライドカバー７にはパルスモータによ
り駆動されるラック／ビニオン機構のカバー駆動機構９
が取旬られている。この光路カバー機構はＸＹ両軸に設
けられている。
本機構の動作は以下の通りであるつ
ある目標位置にステージを移動させるさい。
レーザで測長されるステージの変位だけ、同時にスライ
ドカバー７も移動させ、Ｌミラー２とスライドカバー７
とが常に接触しないように制御するっ 〔発明の効果〕 本発明により、ＸＹステージの全ストロークにわたって
、レーザミラーが光路カバーと接触することなくレーザ
光路に外部からの空気の乱れが入り込むのを防止でき、
レーザ測長値のバラツキを低減することができる。これ
により、次世代の半導体露光装置などの±０．０１μｍ
以下の高悄度位置決めが可能となるっ
ドカバー７も移動させ、Ｌミラー２とスライドカバー７
とが常に接触しないように制御するっ 〔発明の効果〕 本発明により、ＸＹステージの全ストロークにわたって
、レーザミラーが光路カバーと接触することなくレーザ
光路に外部からの空気の乱れが入り込むのを防止でき、
レーザ測長値のバラツキを低減することができる。これ
により、次世代の半導体露光装置などの±０．０１μｍ
以下の高悄度位置決めが可能となるっ
第１図は本発明の一実施例の平面図、第２図は同じくレ
ーザ光路カバーの側断面図である。
ーザ光路カバーの側断面図である。
Claims (1)
- １、ＸＹステージと、ステージ駆動系と、該ステージの
位置を計測するレーザ測長系とより構成される位置決め
系において、ＸＹステージ上に直交して設置された２本
のレーザ測長用ミラーと、それらに対応する２個のレー
ザ干渉器との間の光路に設けられたカバーと、それらの
カバーをステージ位置に応じて伸縮させる機構を有する
事を特徴とする位置決め機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23721885A JPS6298637A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | 位置決め機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23721885A JPS6298637A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | 位置決め機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6298637A true JPS6298637A (ja) | 1987-05-08 |
Family
ID=17012129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23721885A Pending JPS6298637A (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | 位置決め機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6298637A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5875031A (en) * | 1994-09-13 | 1999-02-23 | Nikon Corporation | Distance measuring device based on laser interference with a baffle structure member |
| JP2010238933A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | Ｘｙステージ装置 |
-
1985
- 1985-10-25 JP JP23721885A patent/JPS6298637A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5875031A (en) * | 1994-09-13 | 1999-02-23 | Nikon Corporation | Distance measuring device based on laser interference with a baffle structure member |
| JP2010238933A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | Ｘｙステージ装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH01113827U (ja) | ||
| JPS6298637A (ja) | 位置決め機構 | |
| JPH02287206A (ja) | 位置決めテーブル | |
| JP2004529354A (ja) | くさび形のガイドを有する移動段を備えた、物体の測定又はマシニングのための装置 | |
| CA2242179A1 (en) | Method of, and apparatus for, measuring position of hole | |
| CN216927079U (zh) | 激光测距仪校准装置 | |
| JP2000028344A (ja) | 位置決めテーブル | |
| JP2556567Y2 (ja) | コラム型の座標測定装置 | |
| JPH05259263A (ja) | Ｘｙ微動ステージ | |
| JP2803880B2 (ja) | 直角座標型ロボット | |
| JP3184371B2 (ja) | シングルプレート型ｘ−ｙテーブル装置 | |
| JPS6288526A (ja) | Ｘｙステ−ジ | |
| JPH02187095A (ja) | 厚膜回路の形成装置 | |
| CN218886399U (zh) | 对准系统及直写光刻机 | |
| JPS5840237A (ja) | 位置決めテ−ブル | |
| JPS61209831A (ja) | 移動テ−ブル装置 | |
| JPS5818711A (ja) | Ｘｙテ−ブル | |
| JPS62182692A (ja) | Ｘｙステ−ジ | |
| KR950010124Y1 (ko) | 반도체 노광장비의 웨이퍼 스테이지 습동장치 | |
| JPH06679A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPS6325946A (ja) | 微動テ−ブル装置 | |
| JPS5747593A (en) | Laser device | |
| JPH0753059Y2 (ja) | 高精度移動テーブル装置 | |
| JPH0353195Y2 (ja) | ||
| JP2529242Y2 (ja) | 光学部品位置合せ用移動装置 |