JP2010238933A - Xyステージ装置 - Google Patents
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Abstract
【構成】XY方向に移動するステージと、このステージの位置を測長するためのレーザー干渉計と、このステージとレーザー干渉計間の測長光路の少なくとも一部を覆う測長光路筒機構と、測長光路筒機構内に設けられた波長トラッカーと、を有することを特徴とするXYステージ装置。そして、測長光路筒機構が、レーザー干渉計に固定される固定筒と、ステージの移動と連動して運動する可動筒とを備えることが望ましい。
【選択図】図1
Description
12 ステージ定盤面
14 Yステージ
16 Xステージ
18 Yエアガイド
20 Xエアガイド
22 ワーク部
24 Xレーザー干渉計
26 X反射鏡
28 X測長光路
30 Yレーザー干渉計
32 Y反射鏡
34 Y測長光路
36 X測長光路筒機構
38 Y測長光路筒機構
40 X固定筒
42 X可動筒
44 第1スライダ機構
46 第2スライダ機構
48 Yスライダ部
50 Xスライダ部
52 Xレーザー干渉計カバー
54 Y固定筒
56 Y可動筒
58 Y可動筒保持具
59 Yレーザー干渉計カバー
60 X波長トラッカー
62 X波長トラッカー測長光路
64 Y波長トラッカー
66 Y波長トラッカー測長光路
Claims (7)
- XY方向に移動するステージと、
前記ステージの位置を測長するためのレーザー干渉計と、
前記ステージと前記レーザー干渉計間の測長光路の少なくとも一部を覆う測長光路筒機構と、
前記測長光路筒機構内に設けられた波長トラッカーと、
を有することを特徴とするXYステージ装置。 - 前記測長光路筒機構が、前記測長光路の前記レーザー干渉計側に設けられ、前記レーザー干渉計に固定される固定筒と、前記測長光路の前記ステージ側に設けられ、前記ステージの移動と連動して運動する可動筒とを備え、
前記固定筒または前記可動筒の一方の端部が他方の端部に挿入され、
前記波長トラッカーが前記固定筒内に設けられていることを特徴とする請求項1記載のXYステージ装置。 - 前記固定筒または前記可動筒の一方の端部が他方の端部に挿入された挿入部の前記固定筒および前記可動筒の筒外径が、前記波長トラッカーが設けられた部分の前記固定筒の外径よりも小さいこと特徴とする請求項2記載のXYステージ装置。
- 前記固定筒と前記可動筒により前記測長光路の略全域が覆われていることを特徴とする請求項2または請求項3記載のXYステージ装置。
- 前記一方の端部と前記他方の端部が互いに非接触で挿入されることを特徴とする請求項2ないし請求項4いずれか一項に記載のXYステージ装置。
- 前記測長光路筒機構が、
前記測長光路と垂直方向の前記ステージの移動を許容する第1スライダ機構と、
前記測長光路と平行方向の前記ステージの移動を許容する第2スライダ機構と、
を備え、前記可動筒が前記第1スライダ機構と前記第2スライダ機構の双方で保持されることを特徴とする請求項2ないし請求項5いずれか一項に記載のXYステージ装置。 - 前記ステージが、前記測長光路と垂直方向に移動する第1のステージと、前記測長光路と平行方向に移動する第2のステージとのスタック構造を有し、
前記第1スライダ機構が前記第2のステージに固定され、前記可動筒が前記測長光路と平行方向には前記第2のステージと一体で運動可能であることを特徴とする請求項6記載のXYステージ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009085648A JP5002613B2 (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | Xyステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009085648A JP5002613B2 (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | Xyステージ装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2010238933A true JP2010238933A (ja) | 2010-10-21 |
JP5002613B2 JP5002613B2 (ja) | 2012-08-15 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009085648A Active JP5002613B2 (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | Xyステージ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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A711 | Notification of change in applicant |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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