JPS629629A - 電子ビーム露光方法 - Google Patents
電子ビーム露光方法Info
- Publication number
- JPS629629A JPS629629A JP60148242A JP14824285A JPS629629A JP S629629 A JPS629629 A JP S629629A JP 60148242 A JP60148242 A JP 60148242A JP 14824285 A JP14824285 A JP 14824285A JP S629629 A JPS629629 A JP S629629A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- center
- mark
- electron beam
- positional deviation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
電子ビーム露光装置であって、露光室のウェハーを搬送
する搬送路の途中にウェハーセンター検出器を設け、ウ
ェハーのセンターマーク及び回転位置マークのずれ量を
露光前に検出し、露光位置にセットするときに前記ずれ
量により位置補正を行ない、前記各マークのずれ量が電
子ビームの偏向量以上であっても露光可能とする。
する搬送路の途中にウェハーセンター検出器を設け、ウ
ェハーのセンターマーク及び回転位置マークのずれ量を
露光前に検出し、露光位置にセットするときに前記ずれ
量により位置補正を行ない、前記各マークのずれ量が電
子ビームの偏向量以上であっても露光可能とする。
本発明は半導体装置の製造工程で用いられる電子ビーム
露光装置に関するもので、さらに詳しく言えば、ウェハ
ーを露光位置にセットするときのセンターずれを防止し
た電子ビーム露光装置に関するものである。
露光装置に関するもので、さらに詳しく言えば、ウェハ
ーを露光位置にセットするときのセンターずれを防止し
た電子ビーム露光装置に関するものである。
ＳＬｌ等の半導体装置の生産技術は微細化・高密度化の
方向に進んでいる。高密度化技術のなかでも特にリソグ
ラフィ技術は重要である。通常ＬＳＩはシリコン基板に
各種薄膜を堆積させ、この上に形成したレジストパター
ンをマスクとして、回路素子あるいは配線パターンに加
工する工程を何回も繰返してできあがっていく。この場
合、パターンの微細性や寸法精度、加工性はＬＳＩの集
積度、性能を決める最も重要な要因となる。このため高
密度化に有利な電子ビーム露光装置が用いられるように
なって来ている。この電子ビーム露光装置においては、
繰返し露光するときのパターンの位置合わせが重要であ
る。
方向に進んでいる。高密度化技術のなかでも特にリソグ
ラフィ技術は重要である。通常ＬＳＩはシリコン基板に
各種薄膜を堆積させ、この上に形成したレジストパター
ンをマスクとして、回路素子あるいは配線パターンに加
工する工程を何回も繰返してできあがっていく。この場
合、パターンの微細性や寸法精度、加工性はＬＳＩの集
積度、性能を決める最も重要な要因となる。このため高
密度化に有利な電子ビーム露光装置が用いられるように
なって来ている。この電子ビーム露光装置においては、
繰返し露光するときのパターンの位置合わせが重要であ
る。
〔従来の技術）
このため第３図に示すように、ウェハーｌにその中心を
示すセンターマーク２、回転位置マーク３．３′を設け
ておき、これらのマークをビームによって検出し、ウェ
ハー１の回転・位置ずれを露光にフィードバックしてい
る。
示すセンターマーク２、回転位置マーク３．３′を設け
ておき、これらのマークをビームによって検出し、ウェ
ハー１の回転・位置ずれを露光にフィードバックしてい
る。
上記のセンターマーク２及び回転位置マーク３゜３′は
ウェハー１への焼付時（通常光による）に手作業による
ため実際のセンターに対するずれが大きく、またファセ
ット４に対する回転位置マーク３．３′の平行度も正確
でない。このため電子゛ビーム露光装置でセンターマー
ク２及び回転位置マーク３．３′を電子ビームで検出し
ようとするとき、各マークの位置ずれが電子ビームの偏
向量をオーバーしマークを検出できなくなる場合がある
。さらに、マーク位置をずれて、ビームを走査してしま
うため、ウェハーの未露光部分へのダメージも問題にな
っている。
ウェハー１への焼付時（通常光による）に手作業による
ため実際のセンターに対するずれが大きく、またファセ
ット４に対する回転位置マーク３．３′の平行度も正確
でない。このため電子゛ビーム露光装置でセンターマー
ク２及び回転位置マーク３．３′を電子ビームで検出し
ようとするとき、各マークの位置ずれが電子ビームの偏
向量をオーバーしマークを検出できなくなる場合がある
。さらに、マーク位置をずれて、ビームを走査してしま
うため、ウェハーの未露光部分へのダメージも問題にな
っている。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、簡易
な構成で、ウェハーのセンター及び回転位置マークのず
れがあっても、電子ビームで検出できる電子ビーム露光
装置を提供することを目的としている。
な構成で、ウェハーのセンター及び回転位置マークのず
れがあっても、電子ビームで検出できる電子ビーム露光
装置を提供することを目的としている。
このため本発明においては、露光室ｌＯと、露光制御用
ＣＰＵ１５を具備した電子ビーム露光装置において、ウ
ェハー３４の実際のセンターとファセット３５の位置を
正確に位置決めできるチャック３２を備えたＸ−Ｙテー
ブル２６と、該Ｘ−Ｙテーブル２６上にチャックされた
ウェハー３４のセンターマーク３７及び回転位置マーク
３８゜３８′を検出する撮像カメラ３９とを具備したウ
ェハーセンター検出器１６と、該ウェハーセンター検出
器１６を駆動してウェハーのセンターマーク３７及び回
転位置マーク３８．３８’の正規位置からのずれ量を検
出し、その情報を前記露光制御用ＣＰＵ１５にフィード
バックするウェハーセンター検出器用ＣＰＵ１７とを設
けたことを特徴としている。
ＣＰＵ１５を具備した電子ビーム露光装置において、ウ
ェハー３４の実際のセンターとファセット３５の位置を
正確に位置決めできるチャック３２を備えたＸ−Ｙテー
ブル２６と、該Ｘ−Ｙテーブル２６上にチャックされた
ウェハー３４のセンターマーク３７及び回転位置マーク
３８゜３８′を検出する撮像カメラ３９とを具備したウ
ェハーセンター検出器１６と、該ウェハーセンター検出
器１６を駆動してウェハーのセンターマーク３７及び回
転位置マーク３８．３８’の正規位置からのずれ量を検
出し、その情報を前記露光制御用ＣＰＵ１５にフィード
バックするウェハーセンター検出器用ＣＰＵ１７とを設
けたことを特徴としている。
ウェハーを正確な位置に位置決めできるチャックを有す
るＸ−Ｙテーブルと撮像カメラとを具備したウェハーセ
ンター検出器によりウェハーのセンターマーク及び回転
位置マークの正規位置からのずれ量を検出し、露光室に
フィードバックして該露光室の試料用Ｘ−Ｙテーブルを
駆動することにより、センターマーク及び回転位置マー
クのずれ量が電子ビームの偏向量以上であっても露光が
可能となる。
るＸ−Ｙテーブルと撮像カメラとを具備したウェハーセ
ンター検出器によりウェハーのセンターマーク及び回転
位置マークの正規位置からのずれ量を検出し、露光室に
フィードバックして該露光室の試料用Ｘ−Ｙテーブルを
駆動することにより、センターマーク及び回転位置マー
クのずれ量が電子ビームの偏向量以上であっても露光が
可能となる。
第１図は本発明の実施例を示す構成図である。
本実施例は第１図に示す如く、露光室ｌＯ、ホルダ交換
室１１、ウェハー装着部１２、ウェハー供給用エレベー
タ１３、ウェハー排出用エレベータ１４、露光制御用Ｃ
ＰＵ１５を具備することは従来と同様であり、本実施例
の要点はウェハーセンター検出器１６と、ウェハーセン
ター検出器用ＣＰＵ１７と、モータコントローラ１８と
を設けたことである。
室１１、ウェハー装着部１２、ウェハー供給用エレベー
タ１３、ウェハー排出用エレベータ１４、露光制御用Ｃ
ＰＵ１５を具備することは従来と同様であり、本実施例
の要点はウェハーセンター検出器１６と、ウェハーセン
ター検出器用ＣＰＵ１７と、モータコントローラ１８と
を設けたことである。
第２図はウェハーセンター検出器１６を示す図であり、
ａは上面図、ｂはａ図のｂ−ｂ線における断面図である
。
ａは上面図、ｂはａ図のｂ−ｂ線における断面図である
。
本実施例は、ベース２０、Ｘテーブル２１．Ｙテーブル
２２、Ｘテーブル駆動用モータ２３、Ｙテーブル駆動用
モータ２４、及びＹテーブルに固定されたウェハーｉ装
置用テーブル２５とよりなるＸ−Ｙテーブル２６を設け
、該Ｘ−ＹテーブルのＹテーブル２２には、それぞれ駆
動モータ２７により三方より同期して移動するローラ２
８，２９゜３０を有し、且つその少なくとも１つが駆動
モータ３１により回転駆動し他を従動することができる
チャック３２と、上下可動なウェハー搬送用コンベア３
３とを設け、ウェハー載置用テーブル２５にはウェハー
３４のファセット３５の回転位置を検出するためのファ
セット検出センサ３６を設け、Ｘ−Ｙテーブルのベース
２０にはウェハー３４のセンターマーク３７及び回転位
置マーク３８．３８’を検出するための撮像カメラ３９
を設けている。
２２、Ｘテーブル駆動用モータ２３、Ｙテーブル駆動用
モータ２４、及びＹテーブルに固定されたウェハーｉ装
置用テーブル２５とよりなるＸ−Ｙテーブル２６を設け
、該Ｘ−ＹテーブルのＹテーブル２２には、それぞれ駆
動モータ２７により三方より同期して移動するローラ２
８，２９゜３０を有し、且つその少なくとも１つが駆動
モータ３１により回転駆動し他を従動することができる
チャック３２と、上下可動なウェハー搬送用コンベア３
３とを設け、ウェハー載置用テーブル２５にはウェハー
３４のファセット３５の回転位置を検出するためのファ
セット検出センサ３６を設け、Ｘ−Ｙテーブルのベース
２０にはウェハー３４のセンターマーク３７及び回転位
置マーク３８．３８’を検出するための撮像カメラ３９
を設けている。
このように構成された本実施例の動作を第１図及び第２
図により説明する。
図により説明する。
先ず搬送コンベア３３が上昇して右方より来るウェハー
３４をウェハー載置テーブル２５の中央に持って来た後
、下降してウェハー３４をウェハー載置テーブル２５上
に載置する０次にチャック３６の３個のローラ２８，２
９．３０が中心方向に移動してウェハー３４の外周をチ
ャックする。
３４をウェハー載置テーブル２５の中央に持って来た後
、下降してウェハー３４をウェハー載置テーブル２５上
に載置する０次にチャック３６の３個のローラ２８，２
９．３０が中心方向に移動してウェハー３４の外周をチ
ャックする。
この場合ローラ２８．２９．３０は常にＸ−Ｙテーブル
の中心から等距離にあるように同期して移動するように
なっているため、ウェハー３４のセンターはＸ−Ｙテー
ブル２６のセンターと一致する０次にファセット検出器
３６がウェハー３４のファセット３５を検出し、その位
置が正規位置にないときはローラ２８を回転して修正す
る０次に撮像カメラ３９により各マーク３７．３８．３
８’を探しなからＸテーブル２１及びＹテーブル２２を
微量づつ移動する。そしてマークを検知した時点でのＸ
テーブル及びＹテーブル駆動用モータ２３．２４のパル
ス数により真のセンターからの位置ずれ量を検出する。
の中心から等距離にあるように同期して移動するように
なっているため、ウェハー３４のセンターはＸ−Ｙテー
ブル２６のセンターと一致する０次にファセット検出器
３６がウェハー３４のファセット３５を検出し、その位
置が正規位置にないときはローラ２８を回転して修正す
る０次に撮像カメラ３９により各マーク３７．３８．３
８’を探しなからＸテーブル２１及びＹテーブル２２を
微量づつ移動する。そしてマークを検知した時点でのＸ
テーブル及びＹテーブル駆動用モータ２３．２４のパル
ス数により真のセンターからの位置ずれ量を検出する。
この位置ずれ量はウェハーセンター検出器用ＣＰＵ１７
から露光制御用ＣＰＵ１５に伝えられ、そこに記憶され
る。一方つエバー３４は各マークの位置ずれ量を検知さ
れた後、ウェハー装着部１２、ホルダ交換室１１を通っ
て露光室１０へ送られ試料台１０ａに載置される。ここ
でＣＰＵ１５はさきに記憶した該ウェハー３４のマーク
位置ずれ量をもとにして試料台１０ａを移動し、ウェハ
ーのセンターマーク３７を電子ビーム偏向範囲の中心に
、回転位置マーク３８．３８’を正規位置に位置するよ
うにセットする。このあと第１回目の露光を行なう、２
回目以降の露光にはＣＰＵ１５に記憶された情報を利用
するため、ウェハーセンター検出器１６での位置ずれ量
検出は行なう必要がない。
から露光制御用ＣＰＵ１５に伝えられ、そこに記憶され
る。一方つエバー３４は各マークの位置ずれ量を検知さ
れた後、ウェハー装着部１２、ホルダ交換室１１を通っ
て露光室１０へ送られ試料台１０ａに載置される。ここ
でＣＰＵ１５はさきに記憶した該ウェハー３４のマーク
位置ずれ量をもとにして試料台１０ａを移動し、ウェハ
ーのセンターマーク３７を電子ビーム偏向範囲の中心に
、回転位置マーク３８．３８’を正規位置に位置するよ
うにセットする。このあと第１回目の露光を行なう、２
回目以降の露光にはＣＰＵ１５に記憶された情報を利用
するため、ウェハーセンター検出器１６での位置ずれ量
検出は行なう必要がない。
以上述べてきたように、本発明によれば、ウェハーセン
ター検出器を用いて実際のウェハーセンターとマークの
ずれ量を露光前に検出し、その量を、露光時にマーク検
出のために試料台を移動する量にフィードバックするこ
とにより、マークのずれ量が電子ビームの偏向量以上で
あっても検出することができ、実用的には極めて有用で
ある。
ター検出器を用いて実際のウェハーセンターとマークの
ずれ量を露光前に検出し、その量を、露光時にマーク検
出のために試料台を移動する量にフィードバックするこ
とにより、マークのずれ量が電子ビームの偏向量以上で
あっても検出することができ、実用的には極めて有用で
ある。
第１図は本発明の実施例を示す構成図、第２図は本発明
の実施例のウェハーセンター検出器を示す図、 第３図は従来のウェハーのセンターマーク及び回転位置
マークを説明するための図である。 第１図、第２図において、 ｌＯは露光室、 １１はホルダ交換室、 １２はウェハー装着部、 １３はウェハー供給用エレベータ、 １４はウェハー排出用エレベータ、 １５は露光制御用ＣＰＵ、 １６はウェハーセンター検出器、 １７はウェハーセンター検出器用ＣＰＵ。 １８はモータコントローラ、 ２６はＸ−Ｙテーブル、 ３２はチャック、 ３３はコンベア、 ３４はウェハー、 ３６はファセット検出センサ、 ３７はセンターマーク、 ３８．３８’は回転位置マーク、 ３９は撮像カメラである。 ・ 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人
の実施例のウェハーセンター検出器を示す図、 第３図は従来のウェハーのセンターマーク及び回転位置
マークを説明するための図である。 第１図、第２図において、 ｌＯは露光室、 １１はホルダ交換室、 １２はウェハー装着部、 １３はウェハー供給用エレベータ、 １４はウェハー排出用エレベータ、 １５は露光制御用ＣＰＵ、 １６はウェハーセンター検出器、 １７はウェハーセンター検出器用ＣＰＵ。 １８はモータコントローラ、 ２６はＸ−Ｙテーブル、 ３２はチャック、 ３３はコンベア、 ３４はウェハー、 ３６はファセット検出センサ、 ３７はセンターマーク、 ３８．３８’は回転位置マーク、 ３９は撮像カメラである。 ・ 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、露光室（１０）と、露光制御用ＣＰＵ（１５）を具
備した電子ビーム露光装置において、 ウェハー（３４）の実際のセンターとファセット（３５
）の位置を正確に位置決めできるチャック（３２）を備
えたＸ−Ｙテーブル（２６）と、該Ｘ−Ｙテーブル（２
６）上にチャックされたウェハー（３４）のセンターマ
ーク（３７）及び回転位置マーク（３８、３８′）を検
出する撮像カメラ（３９）とを具備したウェハーセンタ
ー検出器（１６）と、該ウェハーセンター検出器（１６
）を駆動してウェハーのセンターマーク（３７）及び回
転位置マーク（３８、３８′）の正規位置からのずれ量
を検出し、その情報を前記露光制御用ＣＰＵ（１５）に
フィードバックするウェハーセンター検出器用ＣＰＵ（
１７）とを設けたことを特徴とする電子ビーム露光装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60148242A JPH0722098B2 (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 電子ビーム露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60148242A JPH0722098B2 (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 電子ビーム露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS629629A true JPS629629A (ja) | 1987-01-17 |
| JPH0722098B2 JPH0722098B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=15448419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60148242A Expired - Lifetime JPH0722098B2 (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 電子ビーム露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0722098B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59162609U (ja) * | 1984-03-29 | 1984-10-31 | 富士通株式会社 | 位置決め装置 |
-
1985
- 1985-07-08 JP JP60148242A patent/JPH0722098B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59162609U (ja) * | 1984-03-29 | 1984-10-31 | 富士通株式会社 | 位置決め装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0722098B2 (ja) | 1995-03-08 |
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