JPH0722098B2 - 電子ビーム露光方法 - Google Patents
電子ビーム露光方法Info
- Publication number
- JPH0722098B2 JPH0722098B2 JP60148242A JP14824285A JPH0722098B2 JP H0722098 B2 JPH0722098 B2 JP H0722098B2 JP 60148242 A JP60148242 A JP 60148242A JP 14824285 A JP14824285 A JP 14824285A JP H0722098 B2 JPH0722098 B2 JP H0722098B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- center
- electron beam
- mark
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 電子ビーム露光方法であって、露光室のウェハーを搬送
する搬送路の途中にウェハーセンター検出器を設け、ウ
ェハーのセンターマーク及び回転位置マークのずれ量を
露光前に検出し、露光位置にセットするときに前記ずれ
量により位置補正を行ない、前記各マークのずれ量が電
子ビームの偏向量以上であっても露光可能とする。
する搬送路の途中にウェハーセンター検出器を設け、ウ
ェハーのセンターマーク及び回転位置マークのずれ量を
露光前に検出し、露光位置にセットするときに前記ずれ
量により位置補正を行ない、前記各マークのずれ量が電
子ビームの偏向量以上であっても露光可能とする。
本発明は半導体装置の製造工程で用いられる電子ビーム
露光方法に関するもので、さらに詳しく言えば、ウェハ
ーを露光位置にセットするときのセンターずれを防止し
た電子ビーム露光方法に関するものである。
露光方法に関するもので、さらに詳しく言えば、ウェハ
ーを露光位置にセットするときのセンターずれを防止し
た電子ビーム露光方法に関するものである。
SLI等の半導体装置の生産技術は微細化・高密度化の方
向に進んでいる。高密度化技術のなかでも特にリソグラ
フィ技術は重要である。通常LSIはシリコン基板に各種
薄膜を堆積させ、この上に形成したレジストパターンを
マスクとして、回路素子あるいは配線パターンに加工す
る工程を何回も繰返してできあがっていく。この場合、
パターンの微細性や寸法精度、加工性はLSIの集積度、
性能を決める最も重要な要因となる。このため高密度化
に有利な電子ビーム露光装置が用いられるようになって
来ている。この電子ビーム露光装置においては、繰返し
露光するときのパターンの位置合わせが重要てある。
向に進んでいる。高密度化技術のなかでも特にリソグラ
フィ技術は重要である。通常LSIはシリコン基板に各種
薄膜を堆積させ、この上に形成したレジストパターンを
マスクとして、回路素子あるいは配線パターンに加工す
る工程を何回も繰返してできあがっていく。この場合、
パターンの微細性や寸法精度、加工性はLSIの集積度、
性能を決める最も重要な要因となる。このため高密度化
に有利な電子ビーム露光装置が用いられるようになって
来ている。この電子ビーム露光装置においては、繰返し
露光するときのパターンの位置合わせが重要てある。
このため第３図に示すように、ウェハー１にその中心を
示すセンターマーク２、回転位置マーク3,3′を設けて
おき、これらのマークをビームによって検出し、ウェハ
ー１の回転・位置ずれを露光にフィードバックしてい
る。
示すセンターマーク２、回転位置マーク3,3′を設けて
おき、これらのマークをビームによって検出し、ウェハ
ー１の回転・位置ずれを露光にフィードバックしてい
る。
上記のセンターマーク２及び回転位置マーク3,3′はウ
ェハー１への焼付時（通常光による）に手作業によるた
め実際のセンターに対するずれが大きく、またファセッ
ト４に対する回転位置マーク3,3′の平行度も正確でな
い。このため電子ビーム露光装置でセンターマーク２及
び回転位置マーク3,3′を電子ビームで検出しようとす
るとき、各マークの位置ずれが電子ビームの偏向量をオ
ーバーしマークを検出できなくなる場合がある。さら
に、マーク位置をずれて、ビームを走査してしまうた
め、ウェハーの未露光部分へのダメージも問題になって
いる。
ェハー１への焼付時（通常光による）に手作業によるた
め実際のセンターに対するずれが大きく、またファセッ
ト４に対する回転位置マーク3,3′の平行度も正確でな
い。このため電子ビーム露光装置でセンターマーク２及
び回転位置マーク3,3′を電子ビームで検出しようとす
るとき、各マークの位置ずれが電子ビームの偏向量をオ
ーバーしマークを検出できなくなる場合がある。さら
に、マーク位置をずれて、ビームを走査してしまうた
め、ウェハーの未露光部分へのダメージも問題になって
いる。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、簡易
な構成で、ウェハーのセンター及び回転位置マークのず
れがあっても、電子ビームで検出できる電子ビーム露光
方法を提供することを目的としている。
な構成で、ウェハーのセンター及び回転位置マークのず
れがあっても、電子ビームで検出できる電子ビーム露光
方法を提供することを目的としている。
このため本発明においては、露光制御手段15により制御
される電子ビーム露光室11と、ウェハー供給部13と、該
ウェハーが搭載されるXYステージ26と該XYステージに搭
載される該ウェハー表面部に形成されたセンターマーク
及び回転位置マークを撮像することによりそのマークの
位置を検知する撮像カメラ39と該撮像カメラからの情報
に基づき該センターマークの正規位置に対する位置ズレ
量を算出・記憶するウェハーセンター検出制御部17から
なるウェハーセンター検出部16を有する電子ビーム露光
装置を用いて露光する露光方法であって、該ウェハーを
前記供給部から前記ウェハーセンター検出部に供給する
工程と、 前記ウェハーセンター検出部において、該XYステージ及
び撮像カメラを用いて供給されたウェハーのウェハーセ
ンターの位置ズレ量を算出し、それを該ウェハーセンタ
ー検出制御部に記憶する工程と、該ウェハーを前記露光
室へ搬送する工程と、該露光制御手段が、該ウェハーセ
ンター検出制御部に記憶された該位置ズレ量に基づいて
搬送された該ウェハーのセンターマークが露光装置の偏
向範囲の中心に位置するように制御する工程を有するこ
とを特徴とする。
される電子ビーム露光室11と、ウェハー供給部13と、該
ウェハーが搭載されるXYステージ26と該XYステージに搭
載される該ウェハー表面部に形成されたセンターマーク
及び回転位置マークを撮像することによりそのマークの
位置を検知する撮像カメラ39と該撮像カメラからの情報
に基づき該センターマークの正規位置に対する位置ズレ
量を算出・記憶するウェハーセンター検出制御部17から
なるウェハーセンター検出部16を有する電子ビーム露光
装置を用いて露光する露光方法であって、該ウェハーを
前記供給部から前記ウェハーセンター検出部に供給する
工程と、 前記ウェハーセンター検出部において、該XYステージ及
び撮像カメラを用いて供給されたウェハーのウェハーセ
ンターの位置ズレ量を算出し、それを該ウェハーセンタ
ー検出制御部に記憶する工程と、該ウェハーを前記露光
室へ搬送する工程と、該露光制御手段が、該ウェハーセ
ンター検出制御部に記憶された該位置ズレ量に基づいて
搬送された該ウェハーのセンターマークが露光装置の偏
向範囲の中心に位置するように制御する工程を有するこ
とを特徴とする。
ウェハーを正確な位置に位置決めできるチャックを有す
るＸ−Ｙテーブルと撮像カメラとを具備したウェハーセ
ンター検出器によりウェハーのセンターマーク及び回転
位置マークの正規位置からのずれ量を検出し、露光室に
フィードバックして該露光室の試料用Ｘ−Ｙテーブルを
駆動することにより、センターマーク及び回転位置マー
クのずれ量が電子ビームの偏向量以上であっても露光が
可能となる。
るＸ−Ｙテーブルと撮像カメラとを具備したウェハーセ
ンター検出器によりウェハーのセンターマーク及び回転
位置マークの正規位置からのずれ量を検出し、露光室に
フィードバックして該露光室の試料用Ｘ−Ｙテーブルを
駆動することにより、センターマーク及び回転位置マー
クのずれ量が電子ビームの偏向量以上であっても露光が
可能となる。
第１図は本発明の電子ビーム露光方法を実施できる電子
ビーム露光装置の実施例を示す構成図である。
ビーム露光装置の実施例を示す構成図である。
本実施例は第１図に示す如く、露光室10、ホルダ交換室
11、ウェハー装着部12、ウェハー供給用エレベータ13、
ウェハー排出用エレベータ14、露光制御用CPU15を具備
することは従来と同様であり、本実施例の要点はウェハ
ーセンター検出器16と、ウェハーセンター検出器用CPU1
7と、モータコントローラ18とを設けたことである。
11、ウェハー装着部12、ウェハー供給用エレベータ13、
ウェハー排出用エレベータ14、露光制御用CPU15を具備
することは従来と同様であり、本実施例の要点はウェハ
ーセンター検出器16と、ウェハーセンター検出器用CPU1
7と、モータコントローラ18とを設けたことである。
第２図はウェハーセンター検出器16を示す図であり、ａ
は上面図、ｂはａ図のｂ−ｂ線における断面図である。
は上面図、ｂはａ図のｂ−ｂ線における断面図である。
本実施例は、ベース20、Ｘテーブル21,Yテーブル22、Ｘ
テーブル駆動用モータ23、Ｙテーブル駆動用モータ24、
及びＹテーブルに固定されたウェハー載置用テーブル25
とよりなるＸ−Ｙテーブル26を設け、該Ｘ−Ｙテーブル
のＹテーブル22には、それぞれ駆動モータ27により三方
より同期して移動するローラ28,29,30を有し、且つその
少なくとも１つが駆動モータ31により回転駆動し他を従
動することができるチャック32と、上下可動なウェハー
搬送用コンベア33とを設け、ウェハー載置用テーブル25
にはウェハー34のファセット35の回転位置を検出するた
めのファセット検出センサ36を設け、Ｘ−Ｙテーブルの
ベース20にはウェハー34のセンターマーク37及び回転位
置マーク38,38′を検出するための撮像カメラ39を設け
ている。
テーブル駆動用モータ23、Ｙテーブル駆動用モータ24、
及びＹテーブルに固定されたウェハー載置用テーブル25
とよりなるＸ−Ｙテーブル26を設け、該Ｘ−Ｙテーブル
のＹテーブル22には、それぞれ駆動モータ27により三方
より同期して移動するローラ28,29,30を有し、且つその
少なくとも１つが駆動モータ31により回転駆動し他を従
動することができるチャック32と、上下可動なウェハー
搬送用コンベア33とを設け、ウェハー載置用テーブル25
にはウェハー34のファセット35の回転位置を検出するた
めのファセット検出センサ36を設け、Ｘ−Ｙテーブルの
ベース20にはウェハー34のセンターマーク37及び回転位
置マーク38,38′を検出するための撮像カメラ39を設け
ている。
このように構成された本実施例による本発明の電子ビー
ム電光方法を第１図及び第２図により説明する。
ム電光方法を第１図及び第２図により説明する。
先ず搬送コンベア33が上昇して右方より来るウェハー34
をウェハー載置テーブル25の中央に持って来た後、下降
してウェハー34をウェハー載置テーブル25上に載置す
る。次にチャック36の３個のローラ28,29,30が中心方向
に移動してウェハー34の外周をチャックする。この場合
ローラ28,29,30は常にＸ−Ｙテーブルの中心から等距離
にあるように同期して移動するようになっているため、
ウェハー34のセンターはＸ−Ｙテーブル26のセンターと
一致する。次にファセット検出器36がウェハー34のファ
セット35を検出し、その位置が正規位置にないときはロ
ーラ28を回転して修正する。次に撮像カメラ39により各
マーク37,38,38′を探しながらＸテーブル21及びＹテー
ブル22を微量づつ移動する。そしてマークを検知した時
点でのＸテーブル及びＹテーブル駆動用モータ23,24の
パルス数により真のセンターからの位置ずれ量を検出す
る。この位置ずれ量はウェハーセンター検出器用CPU17
から露光制御用CPU15に伝えられ、そこに記憶される。
一方ウェハー34は各マークの位置ずれ量を検知された
後、ウェハー装着部12、ホルダ交換室11を通って露光室
10へ送られ試料台10aに載置される。ここでCPU15はさき
に記憶した該ウェハー34のマーク位置ずれ量をもとにし
て試料台10aを移動し、ウェハーのセンターマーク37を
電子ビーム偏向範囲の中心に、回転位置マーク38,38′
を正規位置に位置するようにセットする。このあと第１
回目の露光を行なう。２回目以降の露光にはCPU15に記
憶された情報を利用するため、ウェハーセンター検出器
16での位置ずれ量検出は行なう必要がない。
をウェハー載置テーブル25の中央に持って来た後、下降
してウェハー34をウェハー載置テーブル25上に載置す
る。次にチャック36の３個のローラ28,29,30が中心方向
に移動してウェハー34の外周をチャックする。この場合
ローラ28,29,30は常にＸ−Ｙテーブルの中心から等距離
にあるように同期して移動するようになっているため、
ウェハー34のセンターはＸ−Ｙテーブル26のセンターと
一致する。次にファセット検出器36がウェハー34のファ
セット35を検出し、その位置が正規位置にないときはロ
ーラ28を回転して修正する。次に撮像カメラ39により各
マーク37,38,38′を探しながらＸテーブル21及びＹテー
ブル22を微量づつ移動する。そしてマークを検知した時
点でのＸテーブル及びＹテーブル駆動用モータ23,24の
パルス数により真のセンターからの位置ずれ量を検出す
る。この位置ずれ量はウェハーセンター検出器用CPU17
から露光制御用CPU15に伝えられ、そこに記憶される。
一方ウェハー34は各マークの位置ずれ量を検知された
後、ウェハー装着部12、ホルダ交換室11を通って露光室
10へ送られ試料台10aに載置される。ここでCPU15はさき
に記憶した該ウェハー34のマーク位置ずれ量をもとにし
て試料台10aを移動し、ウェハーのセンターマーク37を
電子ビーム偏向範囲の中心に、回転位置マーク38,38′
を正規位置に位置するようにセットする。このあと第１
回目の露光を行なう。２回目以降の露光にはCPU15に記
憶された情報を利用するため、ウェハーセンター検出器
16での位置ずれ量検出は行なう必要がない。
以上述べてきたように、本発明によれば、ウェハーセン
ター検出器を用いて実際のウェハーセンターとマークの
ずれ量を露光前に検出し、その量を、露光時にマーク検
出のために試料台を移動する量にフィードバックするこ
とにより、マークのずれ量が電子ビームの偏向量以上で
あっても検出することができ、実用的には極めて有用で
ある。
ター検出器を用いて実際のウェハーセンターとマークの
ずれ量を露光前に検出し、その量を、露光時にマーク検
出のために試料台を移動する量にフィードバックするこ
とにより、マークのずれ量が電子ビームの偏向量以上で
あっても検出することができ、実用的には極めて有用で
ある。
第１図は本発明の電子ビーム露光方法を実施できる電子
ビーム露光装置の実施例 を示す構成図、 第２図は第１図におけるウェハーセンター検出器の詳細
を示す図、 第３図は従来のウェハーのセンターマーク及び回転位置
マークを説明するための図である。 第１図，第２図において、 10は露光室、 11はホルダー交換室、 12はウェハー装着部、 13はウェハー供給用エレベータ、 14はウェハー排出用エレベータ、 15は露光制御用CPU、 16はウェハーセンター検出器、 17はウェハーセンター検出器用CPU、 18はモータコントローラ、 26はＸ−Ｙテーブル、 32はチャック、 33はコンベア、 34はウェハー、 36はファセット検出センサ、 37はセンターマーク、 38,38′は回転位置マーク、 39は撮像カメラである。
ビーム露光装置の実施例 を示す構成図、 第２図は第１図におけるウェハーセンター検出器の詳細
を示す図、 第３図は従来のウェハーのセンターマーク及び回転位置
マークを説明するための図である。 第１図，第２図において、 10は露光室、 11はホルダー交換室、 12はウェハー装着部、 13はウェハー供給用エレベータ、 14はウェハー排出用エレベータ、 15は露光制御用CPU、 16はウェハーセンター検出器、 17はウェハーセンター検出器用CPU、 18はモータコントローラ、 26はＸ−Ｙテーブル、 32はチャック、 33はコンベア、 34はウェハー、 36はファセット検出センサ、 37はセンターマーク、 38,38′は回転位置マーク、 39は撮像カメラである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−183034（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−64097（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−162609（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】露光制御手段（15）により制御される電子
ビーム露光室（11）と、 ウェハー供給部（13）と、 該ウェハーが搭載されるXYステージ（26）と該XYステー
ジに搭載される該ウェハー表面部に形成されたセンター
マーク及び回転位置マークを撮像することによりそのマ
ークの位置を検知する撮像カメラ（39）と該撮像カメラ
からの情報に基づき該センターマークの正規位置に対す
る位置ズレ量を算出・記憶するウェハーセンター検出制
御部（17）からなるウェハーセンター検出部（16）を有
する電子ビーム露光装置を用いて露光する露光方法であ
って、 該ウェハーを前記供給部から前記ウェハーセンター検出
部に供給する工程と、 前記ウェハーセンター検出部において、該XYステージ及
び撮像カメラを用いて供給されたウェハーのウェハーセ
ンターの位置ズレ量を算出し、それを該ウェハーセンタ
ー検出制御部に記憶する工程と、 該ウェハーを前記露光室へ搬送する工程と、 該露光制御手段が、該ウェハーセンター検出制御部に記
憶された該位置ズレ量に基づいて搬送された該ウェハー
のセンターマークが露光装置の偏向範囲の中心に位置す
るように制御する工程を有することを特徴とする電子ビ
ーム露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60148242A JPH0722098B2 (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 電子ビーム露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60148242A JPH0722098B2 (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 電子ビーム露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS629629A JPS629629A (ja) | 1987-01-17 |
| JPH0722098B2 true JPH0722098B2 (ja) | 1995-03-08 |
Family
ID=15448419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60148242A Expired - Lifetime JPH0722098B2 (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 電子ビーム露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0722098B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59162609U (ja) * | 1984-03-29 | 1984-10-31 | 富士通株式会社 | 位置決め装置 |
-
1985
- 1985-07-08 JP JP60148242A patent/JPH0722098B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS629629A (ja) | 1987-01-17 |
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